JP4711736B2 - 電界吸収型変調器および半導体装置 - Google Patents
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Description
本実施の形態は、アノードおよびカソード間方向の抵抗の値の異なる複数の半導体層領域を含む半導体層を備える電界吸収型変調器、および、その電界吸収型変調器が形成された半導体装置である。
本実施の形態は、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1におけるp型InPガイド層110を形成するのではなく、図14に示すように、p型またはi型InPガイド層105の一部にp型ドーパントとして機能するZn等の不純物を拡散させて、低抵抗化領域111を形成するものである。なお、図14以降にp型InPクラッド層106より上部の構造を形成してゆく点は、実施の形態1と同様である。
本実施の形態も、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1において、p型InGaAsコンタクト層107aおよび107b用のp型InGaAs膜107まで形成した後に、図15に示すように、p型またはi型InPガイド層105、p型InPクラッド層106およびp型InGaAs膜107にまたがった部分の一部にZn等の不純物を拡散させて低抵抗化領域112を形成するものである。なお、図15以降、p型InGaAs膜107より上部の構造を形成してゆく点は、実施の形態1と同様である。
本実施の形態も、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1におけるp型InPガイド層110を形成するのではなく、図16に示すように、p型またはi型InPガイド層105のうちレーザ光出射端側の一部にプロトンなどの不純物キラーの拡散あるいはイオン注入を行って、高抵抗化領域113を形成するものである。なお、図16以降、p型InPクラッド層106より上部の構造を形成してゆく点は、実施の形態1と同様である。
本実施の形態も、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1におけるp型InPガイド層110を形成するのではなく、図17に示すように、p型またはi型InPガイド層105表面の一部に、低濃度の不純物注入が行われた、あるいはアンドープトのInP層などで構成する高抵抗化領域114を形成するものである。なお、図17以降、p型InPクラッド層106より上部の構造を形成してゆく点は、実施の形態1と同様である。
本実施の形態も、実施の形態1に係る半導体装置の変形例であって、実施の形態1におけるp型InPガイド層110の形成領域だけではなく、その下部のInGaAsP光吸収層104の一部をも一旦、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて除去し、その部分に、図18に示す新たなInGaAsP光吸収層領域115およびp型InPガイド層116を形成するものである。そして、新たなInGaAsP光吸収層115における不純物濃度および組成の少なくとも一方は、InGaAsP光吸収層104のそれとは異なるよう設定される。また、新たなp型InPガイド層116における不純物濃度および組成の少なくとも一方も、p型またはi型InPガイド層105のそれとは異なるよう設定される。なお、図18以降、p型InPクラッド層106より上部の構造を形成してゆく点は、実施の形態1と同様である。
Claims (6)
- 半導体基板と、
電圧が印加されることにより入射光の一部を吸収可能であって、前記入射光を所定の方向に出力する、前記半導体基板の表面上方に形成された光吸収層と、
前記光吸収層の表面に形成された半導体層と、
前記半導体層の表面に形成されたアノードと、
前記半導体基板の裏面に形成されたカソードと
を備え、
前記半導体層には、前記アノードおよび前記カソード間方向の抵抗の値の異なる複数の半導体層領域が含まれ、
前記複数の半導体層領域の各々において、前記入射光に基づく光電流が生じ、
前記複数の半導体層領域の各々において、前記光電流の強度が他の半導体層領域における前記光電流の強度と比べて相対的に大きい半導体層領域では、前記アノードおよび前記カソード間方向の前記抵抗の値が相対的に小さく、
前記複数の半導体層領域の各々において、前記光電流の強度が他の半導体層領域における前記光電流の強度と比べて相対的に小さい半導体層領域では、前記アノードおよび前記カソード間方向の前記抵抗の値が相対的に大きい
電界吸収型変調器。 - 請求項1に記載の電界吸収型変調器であって、
前記複数の半導体層領域が、前記入射光の進行方向に並ぶよう配置されている
電界吸収型変調器。 - 請求項1に記載の電界吸収型変調器であって、
前記光吸収層には、前記アノードおよび前記カソード間方向の抵抗値の異なる複数の光吸収層領域が含まれ、
前記複数の光吸収層領域が、前記入射光の進行方向に並ぶよう配置されている
電界吸収型変調器。 - 請求項2または請求項3に記載の電界吸収型変調器であって、
前記半導体層の前記アノードおよび前記カソード間方向の前記抵抗の値、または、前記光吸収層の前記アノードおよび前記カソード間方向の前記抵抗値は、前記複数の半導体層領域または前記複数の光吸収層領域に含まれる不純物の濃度および組成の少なくとも一方が異なることにより、異なる
電界吸収型変調器。 - 請求項1に記載の電界吸収型変調器であって、
前記入射光の進行方向に対する前記半導体層の垂直断面の形状は、前記進行方向の各位置において同じである
電界吸収型変調器。 - 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の電界吸収型変調器と、
前記半導体基板上に、前記電界吸収型変調器に隣接して形成されたレーザと
を備えた半導体装置。
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JPH06509428A (ja) * | 1991-08-02 | 1994-10-20 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 独立局限電界吸収変調器 |
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