JP4706387B2 - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、貫通電極を有する電子部品及びその製造方法に関し、特に、積層セラミック配線基板、積層セラミックパッケージ、積層セラミックコンデンサ、積層圧電素子等のセラミック積層電子部品及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an electronic component having a through electrode and a method for manufacturing the same, and more particularly to a ceramic multilayer electronic component such as a multilayer ceramic wiring board, a multilayer ceramic package, a multilayer ceramic capacitor, and a multilayer piezoelectric element, and a method for manufacturing the same.

この技術の分野における電子部品として、例えば、積層セラミックコンデンサが挙げられる。この積層セラミックコンデンサにおいては、等価直列抵抗、等価直列インダクタンスを低くするために、内部電極間をビア電極(貫通電極)で接続する構造が増えてきている。このようなコンデンサの作製には、以下のような製造方法が用いられていた。   As an electronic component in this technical field, for example, a multilayer ceramic capacitor can be cited. In this multilayer ceramic capacitor, in order to reduce the equivalent series resistance and the equivalent series inductance, a structure in which internal electrodes are connected by via electrodes (through electrodes) is increasing. For manufacturing such a capacitor, the following manufacturing method has been used.

まず、セラミックグリーンシートに、レーザやマイクロドリル、パンチング等を用いて、例えば直径100μm程度の貫通孔を形成する。次に、スクリーン印刷法によって、上記セラミックグリーンシートに導電性ペーストを印刷して、セラミックグリーンシート上に内部電極を形成すると同時に上記貫通孔内に導電性ペーストを充填する。または、スクリーン印刷法によって、セラミックグリーンシート上への内部電極の形成と、貫通孔内への導電性ペーストの充填を別工程でおこなう。その後、複数のセラミックグリーンシートを、上下に重なるセラミックグリーンシートの貫通孔の位置が合致するように積層して、積層体を形成し、得られた積層体に対して切断処理及び焼成処理をほどこすことにより、積層セラミックコンデンサが完成する。   First, a through hole having a diameter of, for example, about 100 μm is formed in a ceramic green sheet using a laser, a micro drill, punching, or the like. Next, a conductive paste is printed on the ceramic green sheet by a screen printing method to form internal electrodes on the ceramic green sheet, and at the same time, the conductive paste is filled into the through holes. Alternatively, the internal electrodes are formed on the ceramic green sheet and the conductive paste is filled in the through holes by separate processes by screen printing. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets are laminated so that the positions of the through holes of the ceramic green sheets that overlap each other coincide with each other to form a laminate, and the obtained laminate is subjected to cutting treatment and firing treatment. By rubbing, a multilayer ceramic capacitor is completed.

近年、上記積層セラミックコンデンサに代表される電子部品においては、小型化の要求がさらに高まっており、そのためにさらなる薄層多層化が必要となってきた。すなわち、この薄層多層化のために、内部電極をセラミックグリーンシート上に薄く印刷する必要が生じてきた。それにより、貫通孔を導電性ペーストで十分に充たすためには、内部電極のスクリーン印刷とは別工程で、貫通孔充填のためのスクリーン印刷がおこなわれるようになった。
特開平10−270282号公報
In recent years, electronic components typified by the multilayer ceramic capacitor have been increasingly demanded for miniaturization, and for that reason, further multilayering has become necessary. That is, for the purpose of thinning and multilayering, it has become necessary to print the internal electrode thinly on the ceramic green sheet. As a result, in order to sufficiently fill the through holes with the conductive paste, screen printing for filling the through holes is performed in a separate process from the screen printing of the internal electrodes.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-270282

このとき、スクリーン印刷法の印刷精度の問題から、貫通孔充填のための印刷は、上記貫通孔の直径よりも大径のペースト透過孔を設けたスクリーンパターンでおこなう必要があった。そのため、貫通孔の周縁のシート上に導電性ペーストがはみ出して、シート表面より導電性ペーストが盛り上がってしまって、上下に重なるシートが面方向にズレる積層ズレが大きくなっていた。   At this time, due to the problem of printing accuracy of the screen printing method, it was necessary to perform printing for filling the through holes with a screen pattern provided with paste transmission holes having a diameter larger than the diameter of the through holes. Therefore, the conductive paste protrudes on the sheet at the periphery of the through-hole, and the conductive paste rises from the sheet surface, so that the stacking shift in which the sheets that overlap vertically shift in the surface direction is large.

そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、積層ズレが抑制された電子部品及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an electronic component in which stacking misalignment is suppressed and a method for manufacturing the same.

本発明に係る電子部品の製造方法においては、貫通孔が形成された複数のセラミックグリーンシートの貫通孔に、貫通孔内を充たす本体部と、セラミックグリーンシートの上面より上側に位置し、且つ、本体部と一体的に形成された接続パッド部とを有するビア電極を形成するステップと、ビア電極が形成された貫通孔が重なるように、複数のセラミックグリーンシートを積層するステップとを備え、セラミックグリーンシートの表面における接続パッド部の面積S(mm)及び接続パッド部の厚さt(mm)が、下記式(1)及び式(2)
/S≦1.35 ・・・(1)
≦1.3×10−2 ・・・(2)
を満たすことを特徴とする。
In the method for manufacturing an electronic component according to the present invention, the through hole of the plurality of ceramic green sheets in which the through hole is formed is positioned above the upper surface of the ceramic green sheet, and a main body portion filling the inside of the through hole, and A step of forming a via electrode having a connection pad portion formed integrally with the main body portion, and a step of laminating a plurality of ceramic green sheets so that the through-holes in which the via electrode is formed overlap. The area S 1 (mm 2 ) of the connection pad portion on the surface of the green sheet and the thickness t 1 (mm) of the connection pad portion are expressed by the following formulas (1) and (2).
t 1 / S 1 ≦ 1.35 (1)
S 1 ≦ 1.3 × 10 −2 (2)
It is characterized by satisfying.

発明者らは、鋭意研究の末、以上の式(1)及び式(2)を満たすような接続パッド部を有するビア電極を形成することで、積層ズレが抑制された電子部品が得られることを新たに見出した。   As a result of intensive research, the inventors have formed via electrodes having connection pad portions that satisfy the above formulas (1) and (2) to obtain an electronic component in which stacking misalignment is suppressed. Newly found.

また、セラミックグリーンシートの厚さが20μm以下であることが好ましい。この場合、低背化が図られた電子部品が得られる。この電子部品が積層セラミックコンデンサである場合には、さらに静電容量の増大が図られる。   The thickness of the ceramic green sheet is preferably 20 μm or less. In this case, an electronic component with a reduced height can be obtained. When the electronic component is a multilayer ceramic capacitor, the capacitance can be further increased.

また、セラミックグリーンシートを積層する際、少なくとも50枚のセラミックグリーンシートを積層することが好ましい。この場合、例えば、電子部品として積層セラミックコンデンサを作製する場合には、静電容量の増大が実現される。   Moreover, when laminating ceramic green sheets, it is preferable to laminate at least 50 ceramic green sheets. In this case, for example, when a multilayer ceramic capacitor is produced as an electronic component, an increase in capacitance is realized.

本発明に係る電子部品は、貫通孔が形成された複数のセラミックグリーンシートの貫通孔に、貫通孔内を充たす本体部と、セラミックグリーンシートの上面より上側に位置し、且つ、本体部と一体的に形成された接続パッド部とを有するビア電極を形成すると共に、ビア電極が形成された貫通孔が重なるように、複数のセラミックグリーンシートを積層した後に焼成された電子部品であって、焼成後のセラミックグリーンシートの表面における焼成後の接続パッド部の面積S(mm)及び焼成後の接続パッド部の厚さt(mm)が、下記式(3)及び式(4)
/S≦1.59 ・・・(3)
≦9.7×10−3 ・・・(4)
を満たすことを特徴とする。
The electronic component according to the present invention includes a main body portion that fills the through holes of the plurality of ceramic green sheets in which the through holes are formed, an upper side of the upper surface of the ceramic green sheet, and is integrated with the main body portion. An electronic component formed by firing after laminating a plurality of ceramic green sheets so as to form a via electrode having a connection pad portion that is formed and overlapping a through hole in which the via electrode is formed. ceramic green area of the connection pad portion after firing on the surface of the sheet S 2 (mm 2) and thickness t 2 (mm) of the connection pad portion after firing, the following formula after (3) and (4)
t 2 / S 2 ≦ 1.59 (3)
S 2 ≦ 9.7 × 10 −3 (4)
It is characterized by satisfying.

発明者らは、鋭意研究の末、以上の式(3)及び式(4)を満たすような焼成後の接続パッド部を有する電子部品によれば、積層ズレの抑制が実現されることを新たに見出した。   As a result of diligent research, the inventors have newly realized that suppression of stacking deviation can be achieved with an electronic component having a connection pad portion after firing that satisfies the above formulas (3) and (4). I found it.

また、セラミックグリーンシートの焼成後の厚さが17μm以下であることが好ましい。この場合、低背化が図られた電子部品が得られる。この電子部品が積層セラミックコンデンサである場合には、さらに静電容量の増大が図られる。   Moreover, it is preferable that the thickness after baking of a ceramic green sheet is 17 micrometers or less. In this case, an electronic component with a reduced height can be obtained. When the electronic component is a multilayer ceramic capacitor, the capacitance can be further increased.

また、少なくとも50枚のセラミックグリーンシートが積層された後に焼成された電子部品であってもよい。この場合、この電子部品が例えば積層セラミックコンデンサである場合、静電容量の増大が実現される。   Further, it may be an electronic component fired after at least 50 ceramic green sheets are laminated. In this case, when the electronic component is, for example, a multilayer ceramic capacitor, an increase in capacitance is realized.

本発明によれば、積層ズレが抑制された電子部品及びその製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electronic component by which lamination | stacking deviation was suppressed and its manufacturing method are provided.

以下、添付図面を参照して本発明に係る電子部品及びその製造方法を実施するにあたり最良と思われる形態について詳細に説明する。なお、同一又は同等の要素については同一の符号を付し、説明が重複する場合にはその説明を省略する。なお、本実施形態では、本発明に係る電子部品として、積層セラミックコンデンサを例にとって説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment that is considered to be the best in carrying out an electronic component and a manufacturing method thereof according to the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same or equivalent element, and the description is abbreviate | omitted when description overlaps. In this embodiment, a multilayer ceramic capacitor will be described as an example of the electronic component according to the present invention.

まず始めに、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサを作製する手順について説明する。   First, the procedure for producing the multilayer ceramic capacitor according to this embodiment will be described.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサを作製するにあたり、図1に示すように、表面10aに、厚さ20μm以下(例えば、10μm)のセラミックグリーンシート(以下、単にグリーンシートと称す。)12が形成された複数枚のキャリアフィルム10を準備する。なお、図1(a)はキャリアフィルム10の厚さ方向に直交する方向における断面図であり、図1(b)は平面図である。   In producing the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, a ceramic green sheet (hereinafter simply referred to as a green sheet) 12 having a thickness of 20 μm or less (for example, 10 μm) is formed on the surface 10a. A plurality of carrier films 10 thus prepared are prepared. 1A is a cross-sectional view in a direction orthogonal to the thickness direction of the carrier film 10, and FIG. 1B is a plan view.

そして、その各キャリアフィルム10のグリーンシート12の表面12aに、図2及び図3に示すように、銀やニッケル等を含有した導体ペーストを用いて、公知の技術であるスクリーン印刷等により配線パターン電極14を形成する。配線パターン電極14として、図2(a)及び図2(b)に示すように、2種類のパターンが用意されており、以下、説明の便宜上、必要に応じて、一方を配線パターン電極14A、他方を配線パターン電極14Bと称す。   Then, on the surface 12a of the green sheet 12 of each carrier film 10, as shown in FIGS. 2 and 3, a wiring pattern is formed by screen printing or the like, which is a known technique, using a conductive paste containing silver or nickel. The electrode 14 is formed. As shown in FIG. 2A and FIG. 2B, two types of patterns are prepared as the wiring pattern electrode 14. For convenience of explanation, one of the wiring pattern electrodes 14 is connected to the wiring pattern electrode 14A, as necessary. The other is referred to as a wiring pattern electrode 14B.

図2(a)に示した配線パターン電極14Aには、複数の円孔16が形成されている。それぞれの円孔16の直径Dは同一となっており、規則的に配列されている。具体的には、最も近接する円孔16同士の中心間距離がいずれも一定距離Lとなるように、斜め格子状に周期配列されている。 A plurality of circular holes 16 are formed in the wiring pattern electrode 14A shown in FIG. The diameter D 1 of the respective circular holes 16 has become the same, are regularly arranged. Specifically, the circular holes 16 that are closest to each other are periodically arranged in an oblique lattice shape so that the distance between the centers of the circular holes 16 is a constant distance L.

また、図2(b)に示した配線パターン電極14Bも、上記配線パターン電極14Aと同サイズの正方形状を有しており、複数の円孔16が、最も近接する円孔16同士の中心間距離がいずれも一定距離Lとなるように、斜め格子状に規則的に周期配列されている。ただし、この配線パターン電極14Bの円孔16の位置は、配線パターン電極14Aの円孔16の位置と相対的に半周期(長さL/2)だけズレている。そのため、配線パターン電極14Aの円孔16の位置は、配線パターン電極14Bでは円孔16のない位置に対応し、逆に、配線パターン電極14Bの円孔16の位置は、配線パターン電極14Aでは円孔16のない位置に対応している。   Further, the wiring pattern electrode 14B shown in FIG. 2B also has a square shape having the same size as the wiring pattern electrode 14A, and a plurality of circular holes 16 are located between the centers of the adjacent circular holes 16. The distances are regularly arranged in an oblique lattice pattern so that the distances are constant. However, the position of the circular hole 16 of the wiring pattern electrode 14B is shifted by a half cycle (length L / 2) relative to the position of the circular hole 16 of the wiring pattern electrode 14A. Therefore, the position of the circular hole 16 in the wiring pattern electrode 14A corresponds to the position without the circular hole 16 in the wiring pattern electrode 14B, and conversely, the position of the circular hole 16 in the wiring pattern electrode 14B is circular in the wiring pattern electrode 14A. It corresponds to a position where there is no hole 16.

なお、複数枚のキャリアフィルム10のうち、半分のキャリアフィルム10には配線パターン電極14Aを形成し、残りの半分のキャリアフィルム10には配線パターン電極14Bを形成する。以下、説明の便宜上、必要に応じて、キャリアフィルム10及びグリーンシート12のうち、配線パターン電極14Aが形成されたほうをキャリアフィルム10A及びグリーンシート12Aと称し、配線パターン電極14Bが形成されたほうをキャリアフィルム10B及びグリーンシート12Bと称す。同様に、適宜、配線パターン電極14Aに形成された円孔を円孔16A、配線パターン電極14Bに形成された円孔を円孔16Bと称す。   Of the plurality of carrier films 10, wiring pattern electrodes 14 </ b> A are formed on half of the carrier films 10, and wiring pattern electrodes 14 </ b> B are formed on the remaining half of the carrier films 10. Hereinafter, for convenience of explanation, of the carrier film 10 and the green sheet 12, the one on which the wiring pattern electrode 14A is formed is referred to as the carrier film 10A and the green sheet 12A, and the one on which the wiring pattern electrode 14B is formed. Are referred to as carrier film 10B and green sheet 12B. Similarly, a circular hole formed in the wiring pattern electrode 14A is referred to as a circular hole 16A, and a circular hole formed in the wiring pattern electrode 14B is referred to as a circular hole 16B as appropriate.

次に、配線パターン電極14が形成されたグリーンシート12に、図4及び図5に示すように、配線パターン電極14及びグリーンシート12を貫通する円形断面のビア孔(貫通孔)18をレーザ照射によって形成する。なお、このビア孔18の直径はD(例えば、50μm)となっており、このDは、上記配線パターン電極14の円孔16の直径Dよりも小さい。 Next, as shown in FIGS. 4 and 5, the green sheet 12 on which the wiring pattern electrode 14 is formed is irradiated with a laser beam through a circular cross-sectional via hole (through hole) 18 that penetrates the wiring pattern electrode 14 and the green sheet 12. Formed by. The diameter of the via hole 18 is D 2 (for example, 50 μm), and this D 2 is smaller than the diameter D 1 of the circular hole 16 of the wiring pattern electrode 14.

このビア孔18の位置は、キャリアフィルム10Aにおいては、図4(a)に示すように、配線パターン電極14Aの円孔16Aの中心位置及び円孔16Aの中心位置から半周期(L/2)だけズレた位置(すなわち、配線パターン電極14Bの円孔16Bの中心位置)にそれぞれ形成されている。また、ビア孔18の位置は、キャリアフィルム10Bにおいても、図4(b)に示すように、配線パターン電極14Bの円孔16Bの中心位置及び円孔16Bの中心位置から半周期(L/2)だけズレた位置(すなわち、配線パターン電極14Aの円孔16Aの中心位置)にそれぞれ形成されている。   In the carrier film 10A, as shown in FIG. 4A, the position of the via hole 18 is a half cycle (L / 2) from the center position of the circular hole 16A of the wiring pattern electrode 14A and the center position of the circular hole 16A. They are formed at positions shifted by a certain distance (that is, the center position of the circular hole 16B of the wiring pattern electrode 14B). In the carrier film 10B, as shown in FIG. 4B, the position of the via hole 18 is a half cycle (L / 2) from the center position of the circular hole 16B of the wiring pattern electrode 14B and the center position of the circular hole 16B. ), Respectively (ie, the center position of the circular hole 16A of the wiring pattern electrode 14A).

すなわち、ビア孔18は、両配線パターン電極14A,14Bとも同位置であって、配線パターン電極14Aの円孔16Aの位置及び配線パターン電極14Bの円孔16Bの位置のいずれか対応する位置に形成されており、その数も両配線パターン電極14A,14Bで同数である。   That is, the via hole 18 is formed at the same position on both the wiring pattern electrodes 14A and 14B, and corresponds to either the position of the circular hole 16A of the wiring pattern electrode 14A or the position of the circular hole 16B of the wiring pattern electrode 14B. The number of the wiring pattern electrodes 14A and 14B is the same.

そして、ビア孔18それぞれに、公知のスクリーン印刷技術を用いて導電性ペースト20を充填する。なお、このスクリーン印刷に用いるスクリーンパターン22には、上記ビア孔18に対応する位置に、円孔16の直径Dより小さくビア孔18の直径Dより大きい直径Dの円形断面を有するペースト透過孔24が設けられている(図7参照)。従って、ビア孔18を導電性ペースト20で確実に充たすために、ビア孔18の容積よりも多くの導電性ペースト20をビア孔18に充填すると、図6及び図7に示すようなビア電極26が形成される。 Then, each of the via holes 18 is filled with the conductive paste 20 using a known screen printing technique. The screen pattern 22 used for this screen printing has a paste having a circular cross section with a diameter D 3 smaller than the diameter D 1 of the circular hole 16 and larger than the diameter D 2 of the via hole 18 at a position corresponding to the via hole 18. A transmission hole 24 is provided (see FIG. 7). Therefore, in order to reliably fill the via hole 18 with the conductive paste 20, if the via hole 18 is filled with more conductive paste 20 than the volume of the via hole 18, the via electrode 26 as shown in FIGS. Is formed.

ビア電極26は、ビア孔18内を充たす本体部26aと、グリーンシート12の表面12a又は配線パターン電極14の表面14aより上側に位置する接続パッド部26bとによって構成されている。このビア電極26の本体部26aと接続パッド部26bとは一体的に形成されている。接続パッド部26bは、そのグリーンシート12の表面12aにおける面積がS(mm)となっており、その投射形状は、ペースト透過孔24の断面形状(すなわち、直径Dの円形)と略同様の形状となっている。また、接続パッド部26bの厚さはt(mm)となっている。なお、配線パターン電極14の円孔16の中心位置に形成されたビア孔18のビア電極26は、その接続パッド部26bの直径が円孔16の直径Dよりも小さいために配線パターン電極14に接しておらず、このビア電極26と配線パターン電極14とは電気的に絶縁されている。一方、円孔16の外部に形成されたビア電極26は、配線パターン電極14と導通されている。 The via electrode 26 includes a main body portion 26 a that fills the via hole 18 and a connection pad portion 26 b that is located above the surface 12 a of the green sheet 12 or the surface 14 a of the wiring pattern electrode 14. The body portion 26a and the connection pad portion 26b of the via electrode 26 are integrally formed. The connection pad portion 26 b has an area S 1 (mm 2 ) on the surface 12 a of the green sheet 12, and its projection shape is substantially the same as the cross-sectional shape of the paste transmission hole 24 (that is, a circle having a diameter D 3 ). It has the same shape. The thickness of the connection pad portion 26b is t 1 (mm). Incidentally, the via electrodes 26 of the via hole 18 formed at the center of the circular hole 16 of the wiring pattern electrode 14, the wiring pattern electrodes 14 to less than the diameter D 1 of the diameter of the connection pad portions 26b are circular hole 16 The via electrode 26 and the wiring pattern electrode 14 are electrically insulated from each other. On the other hand, the via electrode 26 formed outside the circular hole 16 is electrically connected to the wiring pattern electrode 14.

以上のようなビア電極26を各ビア孔18に形成した後、グリーンシート12をキャリアフィルム10から剥がす。そして、図8に示すように、ビア電極26の接続パッド部26bが形成されている側を上向きにして複数枚のグリーンシート12を重ねる。このとき、グリーンシート12Aのビア孔18とグリーンシート12Bのビア孔18とが重なるように位置合わせして、グリーンシート12Aとグリーンシート12Bとを交互に積層する。その結果、上下に重なるグリーンシート12のビア電極26同士が導通される。   After forming the via electrode 26 as described above in each via hole 18, the green sheet 12 is peeled off from the carrier film 10. Then, as shown in FIG. 8, the plurality of green sheets 12 are stacked with the side of the via electrode 26 where the connection pad portion 26b is formed facing upward. At this time, the green sheets 12A and the green sheets 12B are alternately stacked so that the via holes 18 of the green sheet 12A and the via holes 18 of the green sheet 12B overlap each other. As a result, the via electrodes 26 of the green sheet 12 that are vertically overlapped are electrically connected.

そして、積層されたグリーンシート12の上下を、上記ビア電極26の対応位置にビア電極28が形成された上カバー層30Aとビア電極のない平坦な下カバー層30Bとで挟んで積層体32を形成し、この積層体32を図9に示すように上下方向からプレスする。そして、この積層体32を、必要に応じてチップサイズに切断した後、図10に示すように脱脂/焼成装置34によって脱脂処理及び焼成処理する。最後に、端子電極35を得られた焼結体の上カバー層30Aのビア電極28の対応位置に形成し、さらに焼付けをおこなうことで、積層セラミックコンデンサ36の作製が完成する(図11参照)。   Then, the stacked body 32 is sandwiched between the upper cover layer 30A in which the via electrode 28 is formed at the position corresponding to the via electrode 26 and the flat lower cover layer 30B without the via electrode between the upper and lower sides of the stacked green sheets 12. Then, the laminate 32 is pressed from above and below as shown in FIG. And after cutting this laminated body 32 into chip size as needed, as shown in FIG. 10, the degreasing | defatting process and baking process are carried out by the degreasing / baking apparatus 34. FIG. Finally, the terminal electrode 35 is formed at a position corresponding to the via electrode 28 of the upper cover layer 30A of the obtained sintered body, and further baked to complete the production of the multilayer ceramic capacitor 36 (see FIG. 11). .

この積層セラミックコンデンサ36は、上カバー層30Aのビア電極28側の面36aを搭載基板38の主面38aに対面させた状態で、端子電極35を搭載基板38の主面38a上に形成されたバンプ電極40に接続する。ただし、配線パターン電極14Aに接続されている端子電極35は陽極のバンプ電極40に接続し、配線パターン電極14Bに接続されている端子電極35は陰極のバンプ電極40に接続する。なお、積層セラミックコンデンサ36においては、上述したビア電極26の接続パッド部26bに対応する接続パッド部42の面積がS(mm)となっており、接続パッド部42の厚さがt(mm)なっている。 In the multilayer ceramic capacitor 36, the terminal electrode 35 is formed on the main surface 38 a of the mounting substrate 38 with the surface 36 a on the via electrode 28 side of the upper cover layer 30 A facing the main surface 38 a of the mounting substrate 38. Connect to the bump electrode 40. However, the terminal electrode 35 connected to the wiring pattern electrode 14A is connected to the anode bump electrode 40, and the terminal electrode 35 connected to the wiring pattern electrode 14B is connected to the cathode bump electrode 40. In the multilayer ceramic capacitor 36, the area of the connection pad portion 42 corresponding to the connection pad portion 26b of the via electrode 26 described above is S 2 (mm), and the thickness of the connection pad portion 42 is t 2 ( mm).

次に、上述したグリーンシート12に形成されたビア電極26の接続パッド部26bについて、より詳しく説明する。   Next, the connection pad portion 26b of the via electrode 26 formed on the green sheet 12 will be described in more detail.

ビア電極26の接続パッド部26bにおいては、その面積がS(mm)なっており、その厚さがt(mm)となっている。そして、これらのS及びtは、以下の2式(式(1)及び式(2))を満たしている。
/S≦1.35 ・・・(1)
≦1.3×10−2 ・・・(2)
The connection pad portion 26b of the via electrode 26 has an area of S 1 (mm 2 ) and a thickness of t 1 (mm). These S 1 and t 1 satisfy the following two formulas (formula (1) and formula (2)).
t 1 / S 1 ≦ 1.35 (1)
S 1 ≦ 1.3 × 10 −2 (2)

発明者らは、積層セラミックコンデンサ等の電子部品の積層ズレを抑制する上で、接続パッド部26bのS及びtの好適な範囲の研究に励み、その結果、S及びtが上記式(1)及び式(2)を満たすように接続パッド部26bを形成することで、積層セラミックコンデンサ36の積層ズレの抑制が実現されることを新たに見出した。 The inventors have made efforts to study a suitable range of S 1 and t 1 of the connection pad portion 26b in order to suppress the stacking deviation of electronic components such as a multilayer ceramic capacitor. As a result, S 1 and t 1 are It has been newly found that the formation of the connection pad portion 26b so as to satisfy the expressions (1) and (2) can suppress the stacking deviation of the multilayer ceramic capacitor.

そして、S及びtが以上の2式を満たすビア電極26が形成された積層体32を焼成することにより、以下の2式(式(3)及び式(4))を満たす接続パッド部42が形成される。
/S≦1.59 ・・・(3)
≦9.7×10−3 ・・・(4)
Then, by firing the laminated body 32 via electrodes 26 that S 1 and t 1 satisfies the above two equations is formed, the following two equations (equations (3) and (4)) the connection pad portions satisfying 42 is formed.
t 2 / S 2 ≦ 1.59 (3)
S 2 ≦ 9.7 × 10 −3 (4)

ここで、Sは積層セラミックコンデンサ36の厚さ方向に直交する面内における接続パッド部42の面積であり、tは接続パッド部42の厚さである。 Here, S 2 is the area of the connection pad portion 42 in a plane orthogonal to the thickness direction of the multilayer ceramic capacitor 36, and t 2 is the thickness of the connection pad portion 42.

換言すると、積層セラミックコンデンサ36に含まれる接続パッド部42が、上記式(3)及び式(4)を満たす場合には、その積層セラミックコンデンサ36における積層ズレの抑制が実現されている。   In other words, when the connection pad portion 42 included in the multilayer ceramic capacitor 36 satisfies the above expressions (3) and (4), suppression of the stacking deviation in the multilayer ceramic capacitor 36 is realized.

なお、積層セラミックコンデンサ36の作製に用いたグリーンシート12の厚さは20μm以下となっており、収縮率が0.85程度で換算すると焼成後のグリーンシート12の厚さは17μm以下となっているため、積層セラミックコンデンサ36においては静電容量の増大が図られている。加えて、このようにグリーンシート12を薄くすると、電子部品全般において低背化(すなわち、小型化)が実現される。さらに、積層セラミックコンデンサ36を、少なくとも50枚のグリーンシート12で構成することで、大きな静電容量を有する積層セラミックコンデンサが得られる。   In addition, the thickness of the green sheet 12 used for the production of the multilayer ceramic capacitor 36 is 20 μm or less, and the thickness of the green sheet 12 after firing is 17 μm or less when the shrinkage rate is converted to about 0.85. Therefore, the capacitance of the multilayer ceramic capacitor 36 is increased. In addition, when the green sheet 12 is thinned in this way, a reduction in height (that is, downsizing) is realized in all electronic components. Furthermore, by forming the multilayer ceramic capacitor 36 with at least 50 green sheets 12, a multilayer ceramic capacitor having a large capacitance can be obtained.

以下、本発明の効果をより一層明らかなものとするため、実施例および比較例を用いて説明する。
(実施例1)
Hereinafter, in order to further clarify the effects of the present invention, description will be made using examples and comparative examples.
Example 1

上述した積層体32と略同様であり、面積S及び厚さtの異なる接続パッド部26bを有するビア電極26を備えた複数の積層体32試料(#1〜#15)を用意して、その積層体試料(積層数140枚)における積層ズレを測定した。 It is substantially similar to the laminate 32 described above, by preparing a plurality of laminates 32 samples with the via electrodes 26 having different connection pad portion 26b of the area S 1 and the thickness t 1 (# 1~ # 15) The stacking deviation in the stack sample (number of stacking 140 sheets) was measured.

具体的な積層ズレの測定方法は、図12に示すように、積層ズレの測定の基準軸として、最下層のグリーンシート12のビア電極26の中心軸Xを用い、この基準軸Xと、上に重なるグリーンシート12のビア電極26の各中心軸x1,x2・・・とのズレ量P1,P2・・・を測定して、その平均値を積層ズレ(μm)として算出した。その測定結果は、図13の表及び図14のグラフに示したとおりである。   As shown in FIG. 12, a specific method for measuring the stacking deviation uses the central axis X of the via electrode 26 of the lowermost green sheet 12 as a reference axis for measuring the stacking deviation. Of the via electrodes 26 of the green sheet 12 that overlap with the center axes x1, x2,... Were measured, and the average value was calculated as the stacking deviation (μm). The measurement results are as shown in the table of FIG. 13 and the graph of FIG.

この測定結果から明らかなように、上記式(1)及び式(2)を満たす試料#1,#4〜#8,#10,#11,#13〜#15については、積層ズレが40μmより小さく抑えられている。一方、上記式(1)及び式(2)を満たさない試料#2,#3,#9,#12については、積層ズレが40μmを大幅に超えて50μm以上となっている。以上のことから、式(1)及び式(2)を満たす積層体試料では、積層ズレが有意に抑制されることが確認された。
(実施例2)
As is apparent from the measurement results, the stacking deviation of the samples # 1, # 4 to # 8, # 10, # 11, and # 13 to # 15 satisfying the above formulas (1) and (2) is 40 μm. It is kept small. On the other hand, for samples # 2, # 3, # 9, and # 12 that do not satisfy the above formulas (1) and (2), the stacking deviation greatly exceeds 40 μm and is 50 μm or more. From the above, it was confirmed that the stacking deviation was significantly suppressed in the laminate sample satisfying the expressions (1) and (2).
(Example 2)

さらに、上述した積層セラミックコンデンサ36と略同様であり、面積S及び厚さtの異なる接続パッド部42を備えた複数のコンデンサ36試料(#21〜#35)を用意して、そのコンデンサ試料における積層ズレを測定した。なお、積層ズレの測定方法は、上述した積層体試料(積層数140枚)における測定方法と同様である。 Moreover, are substantially similar to those of the laminated ceramic capacitor 36 as described above, by preparing a plurality of capacitors 36 samples with different connecting pad portion 42 in area S 2 and the thickness t 2 (# 21~ # 35) , the capacitor The stacking deviation in the sample was measured. In addition, the measuring method of lamination | stacking deviation is the same as the measuring method in the laminated body sample (140 number of lamination | stacking) mentioned above.

測定結果は、図15の表及び図16のグラフに示したとおりである。この測定結果から明らかなように、上記式(3)及び式(4)を満たす試料#21,#24〜#28,#30,#31,#33〜#35については、積層ズレが30μmより小さく抑えられている。一方、上記式(3)及び式(4)を満たさない試料#2,#3,#9,#12については、積層ズレが40μmを超えている。以上のことから、式(3)及び式(4)を満たすコンデンサ試料では、積層ズレが有意に抑制されることが確認された。   The measurement results are as shown in the table of FIG. 15 and the graph of FIG. As is apparent from the measurement results, the stacking misalignment of samples # 21, # 24 to # 28, # 30, # 31, and # 33 to # 35 satisfying the above formulas (3) and (4) is less than 30 μm. It is kept small. On the other hand, for samples # 2, # 3, # 9, and # 12 that do not satisfy the above expressions (3) and (4), the stacking deviation exceeds 40 μm. From the above, it was confirmed that the stacking deviation was significantly suppressed in the capacitor samples satisfying the expressions (3) and (4).

本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、本発明が適用される電子部品としては、上記積層セラミックコンデンサの他に、積層セラミック基板、積層セラミックパッケージ、積層圧電素子等のセラミック積層電子部品が挙げられる。また、積層数は50層以上に限定されず、所望の積層数に適宜変更可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible. For example, examples of the electronic component to which the present invention is applied include ceramic multilayer electronic components such as a multilayer ceramic substrate, a multilayer ceramic package, and a multilayer piezoelectric element in addition to the multilayer ceramic capacitor. Further, the number of stacked layers is not limited to 50 or more, and can be appropriately changed to a desired number of stacked layers.

本発明の実施形態に係る電子部品を作製する際に用いるキャリアフィルムとグリーンシートとを示した図である。It is the figure which showed the carrier film and green sheet which are used when producing the electronic component which concerns on embodiment of this invention. 図1のグリーンシート上に形成される配線パターン電極を示した平面図である。It is the top view which showed the wiring pattern electrode formed on the green sheet of FIG. 図2のIII−III線断面図である。It is the III-III sectional view taken on the line of FIG. 図2のグリーンシートに形成されたビア孔を示した平面図である。FIG. 3 is a plan view showing via holes formed in the green sheet of FIG. 2. 図4のV−V線断面図である。It is the VV sectional view taken on the line of FIG. 図4のグリーンシートに形成されたビア電極を示した平面図である。FIG. 5 is a plan view showing via electrodes formed on the green sheet of FIG. 4. 図6のVII−VII線断面図である。It is the VII-VII sectional view taken on the line of FIG. 配線パターン電極の積層状態を示した図である。It is the figure which showed the lamination | stacking state of the wiring pattern electrode. 本発明の実施形態に係る積層体を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed the laminated body which concerns on embodiment of this invention. 図9の積層体に適用する脱脂/焼成装置を示した図である。It is the figure which showed the degreasing / baking apparatus applied to the laminated body of FIG. 本発明の実施形態に係る電子部品を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed the electronic component which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施例に係る積層ズレの測定方法を示した図である。It is the figure which showed the measuring method of the lamination | stacking deviation which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例1に係る積層ズレの測定結果を示した表である。It is the table | surface which showed the measurement result of the lamination | stacking deviation which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る積層ズレの測定結果を示したグラフである。It is the graph which showed the measurement result of lamination gap concerning Example 1 of the present invention. 本発明の実施例2に係る積層ズレの測定結果を示した表である。It is the table | surface which showed the measurement result of the lamination | stacking deviation which concerns on Example 2 of this invention. 本発明の実施例2に係る積層ズレの測定結果を示したグラフである。It is the graph which showed the measurement result of lamination gap concerning Example 2 of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

12,12A,12B…セラミックグリーンシート、18…ビア孔、26…ビア電極、26a…本体部、26b…接続パッド部、36…積層セラミックコンデンサ。   12, 12A, 12B ... ceramic green sheet, 18 ... via hole, 26 ... via electrode, 26a ... main body, 26b ... connection pad, 36 ... multilayer ceramic capacitor.

Claims (6)

貫通孔が形成された複数のセラミックグリーンシートの前記貫通孔に、前記貫通孔内を充たす本体部と、前記セラミックグリーンシートの上面より上側に位置し、且つ、前記本体部と一体的に形成された接続パッド部とを有するビア電極を形成するステップと、
前記ビア電極が形成された前記貫通孔が重なるように、前記複数のセラミックグリーンシートを積層するステップとを備え、
前記セラミックグリーンシートの表面における前記接続パッド部の面積S(mm)及び前記接続パッド部の厚さt(mm)が、下記式(1)及び式(2)
/S≦1.35 ・・・(1)
≦1.3×10−2 ・・・(2)
を満たす、電子部品の製造方法。
The through hole of the plurality of ceramic green sheets in which the through holes are formed is formed integrally with the main body part, which is located above the upper surface of the ceramic green sheet, and a main body part filling the through hole. Forming a via electrode having a connection pad portion;
Laminating the plurality of ceramic green sheets so that the through-holes in which the via electrodes are formed overlap,
The area S 1 (mm 2 ) of the connection pad portion on the surface of the ceramic green sheet and the thickness t 1 (mm) of the connection pad portion are represented by the following formulas (1) and (2).
t 1 / S 1 ≦ 1.35 (1)
S 1 ≦ 1.3 × 10 −2 (2)
An electronic component manufacturing method that satisfies the above requirements.
前記セラミックグリーンシートの厚さが20μm以下である、請求項1に記載の電子部品の製造方法。   The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the thickness of the ceramic green sheet is 20 μm or less. 前記セラミックグリーンシートを積層する際、少なくとも50枚の前記セラミックグリーンシートを積層する、請求項1又は2に記載の電子部品の製造方法。   The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein at least 50 ceramic green sheets are stacked when the ceramic green sheets are stacked. 貫通孔が形成された複数のセラミックグリーンシートの前記貫通孔に、前記貫通孔内を充たす本体部と、前記セラミックグリーンシートの上面より上側に位置し、且つ、前記本体部と一体的に形成された接続パッド部とを有するビア電極を形成すると共に、前記ビア電極が形成された前記貫通孔が重なるように、前記複数のセラミックグリーンシートを積層した後に焼成された電子部品であって、
焼成後の前記セラミックグリーンシートの表面における焼成後の前記接続パッド部の面積S(mm)及び焼成後の前記接続パッド部の厚さt(mm)が、下記式(3)及び式(4)
/S≦1.59 ・・・(3)
≦9.7×10−3 ・・・(4)
を満たす、電子部品。
The through hole of the plurality of ceramic green sheets in which the through holes are formed is formed integrally with the main body part, which is located above the upper surface of the ceramic green sheet, and a main body part filling the through hole. An electronic component that is fired after laminating the plurality of ceramic green sheets so that the through holes in which the via electrodes are formed overlap with each other.
The area S 2 (mm 2 ) of the connection pad portion after firing on the surface of the ceramic green sheet after firing and the thickness t 2 (mm) of the connection pad portion after firing are represented by the following formulas (3) and (3): (4)
t 2 / S 2 ≦ 1.59 (3)
S 2 ≦ 9.7 × 10 −3 (4)
Meet the electronic parts.
前記セラミックグリーンシートの焼成後の厚さが17μm以下である、請求項4に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 4, wherein a thickness of the ceramic green sheet after firing is 17 μm or less. 少なくとも50枚の前記セラミックグリーンシートが積層された後に焼成された、請求項4又は5に記載の電子部品。

The electronic component according to claim 4, wherein the electronic component is fired after the at least 50 ceramic green sheets are laminated.

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