JP4704051B2 - 画像形成装置 - Google Patents
画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4704051B2 JP4704051B2 JP2005012120A JP2005012120A JP4704051B2 JP 4704051 B2 JP4704051 B2 JP 4704051B2 JP 2005012120 A JP2005012120 A JP 2005012120A JP 2005012120 A JP2005012120 A JP 2005012120A JP 4704051 B2 JP4704051 B2 JP 4704051B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- intermediate transfer
- bias
- volume resistivity
- transfer member
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Description
静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記調整手段は、画像形成開始前に前記バイアス印加部材に印加する調整バイアスと前記中間転写体に印加される1次転写バイアスによって流れる電流を測定して、前記中間転写体の体積抵抗率を測定し、所定の体積抵抗率が得られるまで前記調整バイアス及び1次転写バイアスを印加し続ける
構成とした。
静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記中間転写体の動作時、軸方向全体で測定した体積抵抗率をこの中間転写体の同じ場所で、周回ごとのデータとして蓄積し、前回の周回のデータと比較して、規定の体積抵抗率の±10%の範囲内に調整する
構成とした。
静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記中間転写体の体積抵抗率を測定している間は、前記中間転写体を前記像担持体から離間させるとともに、前記バイアス印加部材を除く導電性部材で構成された前記中間転写体に当接される部材も離間させる
構成とした。
静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記バイアス印加部材はローラ形状であり、このバイアス印加部材の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えている
構成とした。
静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記バイアス印加手段が前記2次転写を行う転写装置であり、調整手段は、画像形成開始前に2次転写装置に印加される2次転写バイアスと1次転写バイアスによって流れる電流と電圧値を測定して体積抵抗率を算出し、所定の体積抵抗率が得られるまで1次転写バイアス及び2次転写バイアスを印加し続ける
構成とした。
この画像形成装置は、アモルファスSi、OPC等を用いた潜像担持体であるドラム状の感光体1の周囲に、帯電チャージャ(帯電ローラなどでもよい。)を用いた帯電器2、現像装置4、転写装置5、クリーニング装置7などを配置している。
この現像装置4は、内部に液体現像剤10を収容する現像剤収容タンク11と、現像剤担持体である現像ローラ12と、現像ローラ12の下流側で感光体1の表面に付着している現像剤を掻き取るためのスイープローラ13と、現像ローラ12に液体現像剤10を塗布する液体現像剤の塗布装置14などとを備えている。
転写装置5は、感光体1に当接するように中間転写ローラ51を配置し、感光体1上の画像部の電位との電位差が生じる電界が発生するように中間転写ローラ51へ1次転写バイアスを印加する。この1次転写バイアスは、転写前の画像部電位によって異なるが、本実施形態では−200Vの定電圧で、中間転写ローラ51裏面の基材ドラムに直接印加できるように中間転写ローラ51の回転軸に図示しない接点(バイアス印加部材)により印加している。
中間転写ローラ51は、金属製のドラム512と、ドラム512に接着・密着、あるいはドラム512上に形成された弾性導電体(弾性層)511と、表面コート層513とにより構成している。
ここでは、バイアス印加部材56としてブレード形状の部材(以下「バイアスブレード」という。)561を用いている。
この例では、バイアス印加部材56としてローラ状のバイアス印加部材(バイアスローラ)565と、このバイアスローラ565の表面を絶えずクリーニングするためのクリーニングブレード566とを設けている。なお、バイアスローラ565は、金属ローラでも良いが、中間転写ローラ51の回転振れを考慮すると、樹脂製の導電性でかつ弾性を有する部材で構成することが好ましい。
2…帯電器
3…露光装置
4…現像装置
5…転写装置
6…除電ランプ
7…クリーニング装置
11…液体現像剤収容タンク
12…現像ローラ(現像剤担持体)
14…塗布装置
51…中間転写ローラ
52…2次転写ローラ
55…クリーニング装置
56…バイアス印加部材
561…バイアスブレード
565…バイアスローラ
Claims (8)
- 静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記調整手段は、画像形成開始前に前記バイアス印加部材に印加する調整バイアスと前記中間転写体に印加される1次転写バイアスによって流れる電流を測定して、前記中間転写体の体積抵抗率を測定し、所定の体積抵抗率が得られるまで前記調整バイアス及び1次転写バイアスを印加し続ける
ことを特徴とする画像形成装置。 - 静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記中間転写体の動作時、軸方向全体で測定した体積抵抗率をこの中間転写体の同じ場所で、周回ごとのデータとして蓄積し、前回の周回のデータと比較して、規定の体積抵抗率の±10%の範囲内に調整する
ことを特徴とする画像形成装置。 - 静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記中間転写体の体積抵抗率を測定している間は、前記中間転写体を前記像担持体から離間させるとともに、前記バイアス印加部材を除く導電性部材で構成された前記中間転写体に当接される部材も離間させる
ことを特徴とする画像形成装置。 - 静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記バイアス印加部材はローラ形状であり、このバイアス印加部材の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えている
ことを特徴とする画像形成装置。 - 前記バイアス印加部材は前記中間転写体の全幅に接触し、前記調整手段は、周方向に電圧と電流を測定することによって前記中間転写体の幅方向における全周の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の画像形成装置。
- 前記中間転写体は非動作時の体積抵抗率が画像形成動作時の体積抵抗率より低いことを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の画像形成装置。
- 静電潜像が形成される像担持体と、この像担持体に形成された静電潜像を現像剤により顕像化する現像手段と、顕像化された現像剤像を1次転写する中間転写体と、この中間転写体に転写された現像剤像を更に転写部材に2次転写する転写装置とを有する画像形成装置において、
前記中間転写体にバイアスを印加するバイアス印加部材と、
このバイアス印加部材にバイアスを印加して前記中間転写体の体積抵抗率を測定して前記中間転写体を所定の体積抵抗率に調整する調整手段と、を備え、
前記バイアス印加手段が前記2次転写を行う転写装置であり、調整手段は、画像形成開始前に2次転写装置に印加される2次転写バイアスと1次転写バイアスによって流れる電流と電圧値を測定して体積抵抗率を算出し、所定の体積抵抗率が得られるまで1次転写バイアス及び2次転写バイアスを印加し続ける
ことを特徴とする画像形成装置。 - 2次転写バイアスは2次転写時に使用するバイアス値以上のバイアス電圧であることを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005012120A JP4704051B2 (ja) | 2005-01-19 | 2005-01-19 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005012120A JP4704051B2 (ja) | 2005-01-19 | 2005-01-19 | 画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006201412A JP2006201412A (ja) | 2006-08-03 |
JP4704051B2 true JP4704051B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=36959470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005012120A Expired - Fee Related JP4704051B2 (ja) | 2005-01-19 | 2005-01-19 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4704051B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5353306B2 (ja) * | 2008-09-25 | 2013-11-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
JP6849466B2 (ja) | 2017-02-09 | 2021-03-24 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11143248A (ja) * | 1997-11-14 | 1999-05-28 | Casio Electron Mfg Co Ltd | 転写装置 |
JP2004252134A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
-
2005
- 2005-01-19 JP JP2005012120A patent/JP4704051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11143248A (ja) * | 1997-11-14 | 1999-05-28 | Casio Electron Mfg Co Ltd | 転写装置 |
JP2004252134A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006201412A (ja) | 2006-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4340556B2 (ja) | 液体現像方法 | |
US9665032B2 (en) | Image forming apparatus with exposure controlled in dependence on cumulative operating time and humidity | |
JP2006259305A (ja) | 画像形成装置 | |
CN111610701B (zh) | 图像形成装置 | |
JP2009058732A (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP4428131B2 (ja) | 画像形成装置及びこれに用いられるクリーニング装置 | |
JP4704051B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP2006301162A (ja) | 画像形成装置 | |
JP4801911B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JPH11194622A (ja) | 現像装置 | |
JP2006243082A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2006189639A (ja) | 画像形成装置 | |
US20160161886A1 (en) | Liquid development device and image-forming apparatus | |
US20240019794A1 (en) | Image forming apparatus | |
JP2007065336A (ja) | 画像形成装置及び画像形成方法 | |
JP4636293B2 (ja) | 現像装置及び画像形成装置 | |
JPH11218999A (ja) | 帯電装置 | |
JP4563742B2 (ja) | 液体現像剤の塗布装置及び画像形成装置 | |
JP2004170827A (ja) | 画像形成装置の現像装置 | |
JPH06308810A (ja) | 画像形成装置 | |
JP4635573B2 (ja) | 現像装置および画像形成装置 | |
JP2005164779A (ja) | 画像形成装置 | |
JP4642451B2 (ja) | 接触抵抗値測定方法 | |
JP4701692B2 (ja) | 現像装置、画像形成装置 | |
JP2003173071A (ja) | 帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100730 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100921 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101019 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110309 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |