JP4703765B2 - プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 - Google Patents

プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 Download PDF

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Description

本発明は、プラズマ発生体およびプラズマ発生体を用いたプラズマ発生装置に関する。
例えば、ディーゼルエンジン、もしくはガソリンエンジンからの排ガス、または焼却炉から出される排ガス等の流体中には、CO、カーボン等の粒子状物質(Particulate Matter:PM)、および窒素酸化物(NOx)等が含まれている。このようなPM、酸化性成分、およびHCの排出を抑制する方法として、プラズマ反応を利用してCOおよびPMを浄化するという技術が提案されている(例えば、特開2004−92589号公報、および特開2005−93107号公報)。
このようなプラズマ反応により流体を浄化するための処理装置(以下、「プラズマ発生装置」ともいう。)は、一対の電極を一定の距離だけ離間して対向させた構造を有している。そして、プラズマ反応による浄化では、対向する一対の電極間に高電圧を印加させてプラズマ場を発生させ、このプラズマ場内に上述した流体を通過させることにより、流体を分解させる。なお、一対の電極は、それぞれ絶縁体により覆われており、この絶縁体の両端を側壁部が支持している。
しかしながら、処理される流体が高温である場合には、処理装置は、流体の通過に伴って、作動直後に高温の状態へと急激に昇温される。もしくは、処理装置を稼動した際、電極等から発生した熱が処理装置に蓄積されていくことにより処理装置が高温になることがある。このような処理装置の極端な温度上昇により、処理装置の絶縁体および側壁部に大きな熱応力がかかってしまう。そして、この熱応力が空間を形成する絶縁体と側壁部の空間側表面との接する部分に集中して、この集中した部分を起点として処理装置にクラックを発生させることが懸念される。その結果、処理装置が破損すると、電極間にプラズマ場が良好に発生しなくなり、セル内を通過するPM等を含む流体を良好に浄化することができないということが想定される。
従って、周囲または内部の温度変化に起因した熱応力による破損を抑制できるプラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置が求められている。
本発明の一形態にかかるプラズマ発生体は、複数の電極部と、複数の第1側壁部と、複数の第2側壁部とを備える。複数の電極部は、第1方向に沿って配列される。複数の第1側壁部は、隣接する電極部間に介在され、第1方向と直交する第2方向における電極部の一端部に配置される。複数の第2側壁部は、隣接する電極部間に介在され、第2方向における電極部の他端部に配置される。第1側壁部の表面と第2側壁部の表面との間に空間が形成されている。複数の電極部のうちの一の電極部を挟んで隣接する一対の第1側壁部は、一方の第1側壁部における空間に接する表面が他方の第1側壁部における空間に接する表面よりも第2方向における外側の位置で、その一対の第1側壁部によって挟まれる電極部にそれぞれ接している。また、一の電極部を挟んで隣接する一対の第2側壁部は、一方の第2側壁部における空間に接する表面が他方の第2側壁部における空間に接する表面よりも第2方向における内側の位置で、その一対の第2側壁部によって挟まれる電極部にそれぞれ接している。
本発明の一形態にかかるプラズマ発生装置は、上記プラズマ発生体を備える。電極部は、電極及びこれを保護する保護層を備える。プラズマ発生装置は、さらに、前記プラズマ発生体の前記電極に接続され、対向する電極間に交流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部を備える。
本発明の一形態にかかるプラズマ発生体およびプラズマ発生装置によれば、周囲または内部の温度変化に起因した熱応力による破損を抑制できる。
以下に、本発明のプラズマ発生体の実施の形態について詳細に説明する。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態によるプラズマ発生体P10は、図1(a),(b)に示すように、複数の電極部1と、複数の第1側壁部7a1,7a2(以下、第1側壁部7a1,7a2を区別せずに、単に「第1側壁部7a」ともいう。)と、複数の第2側壁部7b1,7b2(以下、第2側壁部7b1,7b2を区別せずに、単に「第2側壁部7b」ともいう。)とを備える。複数の電極部1は、第1方向Xに沿って配列される。電極部1は、交互に配列された第1電極部1aと第2電極部1bとを有する。第1側壁部7aは、隣接する電極部1間に介在され、第1方向Xと直交する第2方向Yにおける電極部1の一端部に配置される。複数の第2側壁部7bは、隣接する電極部1間に介在され、第2方向Yにおける電極部の他端部に配置される。第1側壁部の表面と第2側壁部の表面との間には、空間8が形成されている。複数の電極部1のうちの第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第1側壁部7aは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。また、その第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第2側壁部7bは、各々の空間に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。なお、以下では、第1側壁部7aおよび第2側壁部7bを区別せずに、単に「側壁部7」ということがある。
そして、図2に示すように、第1電極部1aは、第1電極3および第1電極3を保護する第1保護層5を備え、第2電極部1bは、第2電極4および第2電極4を保護する第2保護層6を備えている。第1保護層5および第2保護層6は、それぞれ絶縁体からなる。
第1保護層5、第2保護層6、および側壁部7は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、またはコーディエライト等の電気絶縁材料から成る。第1保護層5、第2保護層6、および側壁部7が、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合には、まず、アルミナ(Al)、シリカ(SiO)、カルシア(CaO)、およびマグネシア(MgO)等の原料粉末に適当な有機溶剤、および溶媒を添加混合して泥漿状物を作製する。次に、この泥漿状物が、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等により、シート状に成形されて、セラミックグリーンシートが得られる。次に、これらのセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工が施される。その後、これらのセラミックグリーンシートを複数枚積層する。最後に、この積層体を高温(約1500〜1800℃)で焼成することにより、第1保護層5、第2保護層6、および側壁部7が作製される。この場合、これらのセラミックグリーンシートをともに一体焼成することにより、第1保護層5、第2保護層6、および側壁部7は焼結により一体化される。そして、これらの第1保護層5と、第2保護層6と、側壁部7とにより、被処理流体が通過する空間8(図1および図2では、空間8A,8B)が形成される。
第1電極3および第2電極4は、空間8内にプラズマ場を発生させるための一対の電極である。第1電極3および第2電極4は、全面が第1保護層5および第2保護層6に覆われていてもよいし、一部が覆われていてもよい。そして、第1電極3および第2電極4は、互いに離間して対向している。第1電極3と第2電極4との間の距離は、各空間8に発生させるプラズマ場の強度によって適宜決定される。各空間8に発生させるプラズマ場の強度を同一にする場合には、空間8のX方向における距離といった他の条件を同一にするとともに、第1電極3と第2電極4との間の距離を全て同一にすればよい。なお、第1電極3および第2電極4は、プラズマ発生体P10の外表面、例えば側壁部7の外表面に形成された後述する外部端子9に電気的に接続される。
上述した第1電極3および第2電極4は、例えば、以下のように作製される。まず、タングステン、モリブデン、銅、または銀等の金属粉末を含む従来周知のメタライズペーストを準備する。そして、スクリーン印刷法等の印刷手段を用いて、第1保護層5および第2保護層6となるセラミックグリーンシートの所定の位置に、第1電極3および第2電極4用のメタライズペーストを塗布する。その後、メタライズペーストとこれらのセラミックグリーンシートとを同時焼成することにより、プラズマ発生体P10において所定の形状の第1電極3および第2電極4を形成することができる。
なお、第1電極3および第2電極4は、図2に示すように、全体が第1保護層5および第2保護層6に覆われているとよい。このような構成では、第1電極3および第2電極4が空間8内を通過するオゾンまたは排ガス等の流体に直接接触しにくくなる。従って、第1電極3および第2電極4がこの流体により腐食しにくくなり、プラズマ場の強度の低下を抑制することができる。そして、第1保護層5および第2保護層6が、例えばコーディエライトからなる場合は、第1保護層5および第2保護層6を、100μm以上の厚さに形成しておくことが好ましい。
また、第1電極3および第2電極4の一部が第1保護層5および第2保護層6に覆われる場合には、これら第1電極3および第2電極4の露出する表面に、ニッケルおよび金等の耐蝕性に優れる金属を形成しておくことが好ましい。特に第1電極3および第2電極4が、排ガス等の流体に直接曝される場合は特に好ましい。
また、ニッケルまたは金等の耐蝕性に優れる金属を単層で形成しておいても構わない。例えば、ニッケル層を形成せずに金めっき層の単層だけを被着している場合には、熱によりニッケルが金めっき層内部の粒界に沿って、金めっき層の表面まで拡散してしまうという現象が起きない。従って領域ごとのニッケルの拡散のバラツキが生じにくいため、各領域における導電特性にばらつきが生じにくくできる。このため、プラズマ発生体P10を高温下の環境にて使用する場合は、第1電極3および第2電極4の露出する表面に金めっき層のみを0.1〜10μm程度形成しておくとよい。
また、外部端子9が、プラズマ発生体P10の外表面、例えば、側壁部7の外表面に形成されている。外部端子9は、外部電源から第1電極3および第2電極4に電圧を印加するための導電路として機能する。外部端子9は、第1電極3および第2電極4のそれぞれに電気的に接続されている。外部端子9は、第1電極3および第2電極4と同様の手法により作製できる。また、外部端子9の露出する表面には、第1電極3および第2電極4の場合と同様に、ニッケルまたは金等の耐蝕性に優れる金属を形成しておくことが好ましい。
そして、外部電源の電源端子が、圧接または接合等の手段により外部端子9に電気的に接続される。この外部端子9を通して第1電極3と第2電極4とに電圧を印加することにより第1電極3と第2電極4との対向領域(第1方向Xに垂直な平面方向において、第1電極3と第2電極4とが重畳する領域)にプラズマ場を発生させることができる。そして、プラズマ発生体P10の空間8内を通過する流体は、第1電極3と第2電極4との間の対向領域内のプラズマ場を通過することにより分解されて浄化される。例えば、還元雰囲気下においては、NOは、下記の反応(1)および(2)により分解して、NおよびOが生成されて浄化される。
2NO → 2NO+O・・・・・・・・・・(1)
2NO+O → N+2O・・・・・・・・・(2)
なお、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させるために、交流電圧または直流パルス電圧が印加される。例えば、周波数の高い交流電圧が印加される場合、印加される交流電圧は、必要とされるプラズマ場の強度等によって適宜選択される。例えば、ディーゼルエンジンの排ガス中のPMまたは酸化成分等を反応させて分解するプラズマ発生体において、印加される交流電圧およびその周波数は、例えば、1kV〜100kV、10MHz〜100MHzが好ましい。また、直流パルス電圧を印加する場合は、電圧が2kV〜50kV、周波数が10MHz〜1000MHzであることが好ましい。
そして、本実施形態によるプラズマ発生体P10においては、図1〜図3に示すように、第2電極部1bを挟む隣接する一対の第1側壁部7aは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。また、その電極部1bを挟む隣接する一対の第2側壁部7bは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で、第2電極部1bにそれぞれ接している。このことから、一対の第1側壁部7aおよび一対の第2側壁部7bに挟まれた第2電極部1bの上下面において、第1側壁部7aと第2電極部1bとの応力集中箇所、および第2側壁部7bと第2電極部1bとの応力集中箇所をそれぞれずらすことができ、第2電極部1bが破断して、プラズマ発生体P10が破損することを抑制することができる。
上記の構成は、第2電極部1bの上下面に第1側壁部7aをそれぞれ重ねる際、第2電極部1bの上面と第1側壁部7a1の空間8(図1〜図3では、空間8A)に接する表面(以下、単に「空間8側表面」ともいう。)との接する位置が、第2電極部1bの下面と第1側壁部7a2の空間8(図1〜図3では、空間8B)側表面との接する位置と異なるようにしておけばよい。例えば、第2電極部1bの上下面において第2保護層6用のセラミックグリーンシートに第1側壁部7a用のセラミックグリーンシートをそれぞれ積層する際、第2電極部1bの上面側と下面側との間で、第1側壁部7a用のセラミックグリーンシートの空間8に接する表面が第2方向Yにおいてずれるように積層するとよい。このようにすれば、第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第1側壁部7aの各空間8側表面が第2電極部1bに接する位置を第2方向Yにおいて異ならせることができる。また、第2方向Yにおける距離である幅が異なる第1側壁部7aを第2電極部1bの上下面に重ねることにより、上記一対の第1側壁部7aの各空間8側表面が第2電極部1bに接する位置を第2方向Yにおいて異ならせることができる。なお、これら第1側壁部7aについての説明は、第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第2側壁部7bについても当てはまる。
第2電極部1bと一対の第1側壁部7aの各空間8側表面とが接する位置、および第2電極部1bと一対の第2側壁部7bの各空間8側表面との接する位置は、プラズマ発生体P10の大きさ、並びにプラズマ発生体P10が使用される温度および雰囲気等の環境等により適宜決定して50〜500μm程度異なるようにしておけばよい。
また、複数の電極部1を配列し、空間8を3つ以上形成して、各電極部1とその電極部1を挟んで隣接する一対の第1側壁部7aの空間8側表面との接する位置、および各電極部1とその電極部1を挟んで隣接する一対の第2側壁部7bの空間8側表面との接する位置をそれぞれずらしてもよい。例えば、図4に示すように、4つの電極部1が配列されている場合、第2電極部1bと第1側壁部7a1の空間8A側表面とが接する位置、および第2電極部1bと第1側壁部7a2の空間8B側表面とが接する位置が第2方向Yにおいて異なっている。また、第2電極部1bと第2側壁部7b1の空間8A側表面との接する位置、および第2電極部1bと第2側壁部7b2の空間8B側表面との接する位置が第2方向Yにおいて異なっている。これにより、第2電極部1bの破断を抑制することができる。
さらに、第1電極部1aと第1側壁部7a2の空間8B側表面とが接する位置、および第1電極部1aと第1側壁部7a3の空間8C側表面とが接する位置が第2方向Yにおいて異なっている。また、第1電極部1aと第2側壁部7b2の空間8B側表面との接する位置、および第1電極部1aと第2側壁部7b3の空間8C側表面との接する位置が第2方向Yにおいて異なっている。これにより、第1電極部1aの破断を抑制することができる。
以上により、図4に示す構成では、第1電極部1および第2電極部1bの破断を抑制でき、結果としてプラズマ発生体P11の破損を抑制することができる。
また、このようなプラズマ発生体P11も上述と同様な方法を用いることにより作製することができる。
なお、図4における第1方向Xおよび第2方向Yは、図1(b)に示したそれらの方向と同一である。また、後述する図5〜図13では、第1方向Xおよび第2方向Yを記載していないが、全ての図において、第1方向Xおよび第2方向Yは、図1〜図3に示した方向と同一である。
本実施形態によるプラズマ発生体P10,P11では、各電極部1の上下において第1側壁部7aおよび第2側壁部7bを第2方向Yにおいてそれぞれ同じ方向にずらすことにより、各電極部1の上下面における応力集中箇所をずらしている。このような構成においては、各空間8の体積の差が小さくなり、各空間8における第1電極3と第2電極4との対向領域を同じにすれば、各空間8のプラズマ量の差も小さくなることから、各空間8を流れる被処理流体に対する処理能力を実質的に同一にすることができる。このような構成にすると、例えば、処理の対象となる物質が被処理流体中に均一に分布しているときに、その物質の分解等を効率よく行うことができる。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態によるプラズマ発生体P20は、図5、図6に示すように、第1方向Xにおいて端部に位置する第1側壁部7a1,7a3は、他の第1側壁部7a2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。また、第1方向Xにおいて端部に位置する第2側壁部7b1,7b3は、他の第2側壁部7b2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。
その他の構成については、第1の実施形態によるプラズマ発生体P10,P11と同様であるため、説明を省略する。
本実施形態によるプラズマ発生体P20においては、プラズマ発生体P10,P11と同様に、電極部1を挟んで隣接する一対の第1側壁部7aは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。また、電極部1を挟んで隣接する一対の第2側壁部7bは各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で電極部1にそれぞれ接している。これにより、各電極部1の上下面において、電極部1の応力集中箇所をずらすことができ、各電極部1が破断して、プラズマ発生体P20が破損することを抑制することができる。
また、本実施形態によるプラズマ発生体P20では、第2方向Yにおける距離である幅が異なる空間8を形成することにより、各電極部1の上下面における応力集中箇所をずらしている。このような構成においては、所望の空間8の体積を他の空間8と異ならせることができる。そして、その際に、幅の広い空間8において、第1電極3と第2電極4との対向領域を大きくすれば、その所望の空間8内のプラズマ量を他の空間8と異ならせることができる。
プラズマ発生体P20では、上述のようにプラズマ量を異ならせることにより、空間8内におけるプラズマ反応による処理能力を、図5,図6における最も上側および最も下側における空間8A,8Cと、他の空間8Bとで異ならせることができる。従って、最も上側および最も下側における空間8A,8Cを流れる被処理流体が、他の空間8Bを流れる被処理流体よりも多く流れる場合において、プラズマ反応による流体の浄化効率を異ならせることができる。
このような空間8は、最も上側および最も下側における空間8A,8Bの幅よりも、他の空間8Bの幅を小さくすることにより形成することができる。例えば、他の空間8Bを形成する第1側壁部7a2,および第2側壁部7b2の幅を、最も上側および最も下側における空間8A,8Cを形成する第1側壁部7a1,7a3、および第2側壁部7b1,7b3の幅よりも大きくし、他の空間8Bを形成する第1側壁部7a2,および第2側壁部7b2の空間8B側表面を、空間8Aを形成する第1側壁部7a1および第2側壁部7b1の各空間8A側表面、並びに空間8Cを形成する第1側壁部7a3および第2側壁部7b3の各空間8C側表面よりも第2方向Yにおいて内側となるように積み重ねておくことにより形成することができる。
また、図7、図8に示すように、より多くの電極部1を配列しても構わない。例えば、図7、図8においては、第1方向Xにおいて端部に位置する第1側壁部7a1,7a5は、他の第1側壁部7a2〜7a4よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。また、第1方向Xにおいて端部に位置する第2側壁部7b1,7b5は、他の第2側壁部7b2〜7b4よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。
また、図8に示すように、第1方向Xにおいて中央部の第1側壁部7a3から端部の第1側壁部7a1,7a5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、第2方向Yにおいて漸次外側にずれており、第1方向Xにおいて中央部の第2側壁部7b3から端部の第2側壁部7b1,7b5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、第2方向Yにおいて漸次外側にずれていてもよい。このような構成においては、第1方向Xの中央部に位置する第1側壁部7a3および第2側壁部7b3の第2方向Yにおける距離(幅)が最も大きくなる。
第1側壁部7a3および第2側壁部7b3は、最も熱が逃げにくい空間8Cに接するため、第1側壁部7a3および第2側壁部7b3の空間8C側表面と電極部1との接する位置は、他の第1側壁部7a1,7a2,7a4,7a5および他の第2側壁部7b1,7b2,7b4,7b5の空間8A,8C側表面と電極部1との接する位置と比較して、大きな熱応力がかかる。よって、第1側壁部7a3および第2側壁部7b3の幅を大きくすることにより強度を上げると、熱応力がかかることにより第1側壁部7a3および第2側壁部7b3にクラックが入るといった影響をより低減できる。よって、プラズマ発生体の破損をより抑制できる。
また、この場合、第1方向Xにおける中央部から端部に向かって、空間8の体積が大きくなるため、第1方向Xにおける中央部から端部に向かって空間8を流れる被処理流体が漸次多く流れる場合において、プラズマ反応による流体の浄化効率を異ならせることができる。このような空間8は、プラズマ発生体P22の中央部から端部に向かって、これら空間8を形成する側壁部7の幅を漸次小さくすることにより形成することができる。例えば、セラミックグリーンシートを積層する際、側壁部7となるセラミックグリーンシートの幅を上記中央部から端部に向かって漸次小さくしておき、それらを保護層5,6用のセラミックグリーンシートと積層することにより形成される。
さらに、図9,図10に示すように、第1方向Xにおいて端部に位置する第1側壁部7a1,7a3は、他の第1側壁部7a2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける内側の位置で電極部1に接している。また、第1方向Xにおいて端部に位置する第2側壁部7b1,7b3は、他の第2側壁部7b2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける内側の位置で電極部1に接している。このようなプラズマ発生体P23においても、電極部1を挟んで隣接する一対の第1側壁部7aは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で電極部1にそれぞれ接している。また、電極部1を挟んで隣接する一対の第2側壁部7bは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で電極部1にそれぞれ接している。これにより、各電極部1の上下面において、電極部1の応力集中箇所をずらすことができ、各電極部1が破断して、プラズマ発生体が破損することを抑制することができる。
また、このようなプラズマ発生体P23においては、各空間8内におけるプラズマ反応による処理能力を第1方向Xの両端部における空間8A,8Cと、その他の空間8Bとで異ならせることができる。従って、最も上側および最も下側における空間8A,8Cを流れる被処理流体に比べて、他の空間8Bを流れる被処理流体がより多く流れる場合において、プラズマ反応による流体の浄化効率を異ならせることができる。
このような空間8は、他の空間8Bの幅を、最も上側および最も下側における空間8A,8Cの幅よりも大きくすることにより形成することができる。例えば、他の空間8Bを形成する第1側壁部7a2および第2側壁部7b2の幅を、最も上側および最も下側における空間8A,8Cを形成する第1側壁部7a1,7a3、および第2側壁部7b1,7b3の幅よりも小さくし、他の空間8Bを形成する第1側壁部7a2,および第2側壁部7b2の空間8B側表面を、空間8Aを形成する第1側壁部7a1および第2側壁部7b1の空間8A側表面、並びに空間8Cを形成する第1側壁部7a3および第2側壁部7b3の空間8C側表面よりも第2方向Yにおいて外側となるように積み重ねておくことにより形成することができる。
また、図11、図12に示すように、より多くの電極部1を配列し、複数の空間8を形成しても構わない。例えば、図11、図12においては、第1方向Xにおいて端部に位置する第1側壁部7a1,7a5は、他の第1側壁部7a2〜7a4よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける内側の位置で電極部1に接している。また、第1方向Xにおいて端部に位置する第2側壁部7b1,7b5は、他の第2側壁部7b2〜7b4よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける内側の位置で電極部1に接している。このことから、上述と同様な理由により、電極部1が破断して、プラズマ発生体P24,P25が破損することを抑制することができる。
また、図12に示すように、第1方向Xにおいて中央部の第1側壁部7a3から端部の第1側壁部7a1,7a5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、第2方向Yにおいて漸次内側にずれており、第1方向において中央部の第2側壁部7b3から端部の第2側壁部7b1,7b5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、第2方向Yにおいて漸次内側にずれていてもよい。この場合、最も上側および最も下側の空間8A,8Eから中央側の空間8Cに向かって、空間8を流れる被処理流体が漸次多く流れる場合において、プラズマ反応による流体の浄化効率を異ならせることができる。このような空間8は、プラズマ発生体P25の最も上側および最も下側の空間8A,8Eから中央側に向かって、これら空間8を形成する第1側壁部7a、および第2側壁部7bの幅を漸次小さくすることにより形成することができる。例えば、セラミックグリーンシートを積層する際、第1側壁部7a,第2側壁部7bとなるセラミックグリーンシートの幅を中央部から最も上側および最も下側に向かって漸次小さくしておき、他のセラミックグリーンシートと積層することにより形成される。
(第3の実施の形態)
本発明の第3の実施形態によるプラズマ発生体P30は、図13に示すように、第1方向Xにおいて一方の端部の第1側壁部7a1から他方の端部の第1側壁部7a5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、漸次外側にずれており、第1方向Xにおいて一方の端部に位置する第2側壁部7b1から他方の端部に位置する第2側壁部7b5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、漸次外側にずれている。
このような構成においては、第1方向Xにおける一方の端部から他方の端部に向けて、第1側壁部7a1〜7a5の空間8側表面と電極部1との接する位置は全て異なり、第2側壁部7b1〜7b5の空間8側表面と電極部1との接する位置は全て異なる。従って、各電極部1は、その電極部1に隣接する空間8内の昇温により発生する熱応力だけでなく、他の空間8内の昇温により発生する熱応力の影響も低減することが可能になる。よって、各電極部1の破断をより抑制することができる。
また、プラズマ発生体P30では、最も下側の空間8Eの体積が大きくなっていることから、例えば、処理を行う物質がその質量が大きいといった理由から被処理流体中の下部に溜まってしまうような場合には、その物質を効率よく浄化することができる。
なお、これまで説明したプラズマ発生体P10〜P30において、第1保護層5および第2保護層6、並びに第1側壁部7aおよび第2側壁部7bが、同一の材料を含んでなることが好ましい。このことから、これら各部材間の熱特性を近いものとできる。すなわち、これら部材間の熱膨張率の差が小さい、もしくは熱膨張率が等しくなるので、これら各部材間に熱応力が発生することを抑制し、プラズマ発生体の破損を抑制することができる。
なお、同一の材料を含んでいるとは、例えば、第1保護層5が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合には、第2保護層6、第1側壁部7a、および第2側壁部7bが酸化アルミニウム質焼結体を含む材料からそれぞれ形成され、第1保護層5が窒化アルミニウム質焼結体からなる場合には、第2保護層6、第1側壁部7a、および第2側壁部7bが窒化アルミニウム質焼結体を含む材料からそれぞれ形成されることをいう。なお、第1保護層5、第2保護層6、第1側壁部7a、および第2側壁部7bは、その効果をより高めるために、焼結により一体化して形成されることが好ましく、このような部材は、上述のように、各部材用のセラミックグリーンシートを積層した後、焼成することにより製作することができる。
(第4の実施の形態)
本実施形態によるプラズマ発生装置は、上述のプラズマ発生体と第1電極3と第2電極4との間に交流電圧または直流パルス電圧を印加するための電圧印加部(図14において符号10を付している)とを有する。この電圧印加部によって第1電極3と第2電極4との間に交流電圧または直流パルス電圧を印加することにより、電極部1が対向する空間8内にプラズマを発生させる。このような空間8に被処理流体を流入させると、被処理流体に対して、プラズマ反応をさせることができる。
例えば、本実施形態によるプラズマ発生装置は、被処理流体が酸素であり、空間8に酸素を流入させることによりオゾンを発生させる。これにより、プラズマ反応により良好に酸素をオゾンに変化させることができる。このようなプラズマ発生装置は、例えば、オゾン発生器として使用することができる。
また、本実施形態によるプラズマ発生装置は、図14に示すように、被処理流体が、炉もしくは内燃機関からの排ガスであり、空間8に排ガスを流入させる第1の流路11と、空間8から排出される被処理ガスを、空間8から流出させる第2の流路12とをさらに備えていてもよい。このようなプラズマ発生装置は、例えば、自動車、船舶、または発電機等に使用されるエンジン等の排ガスの排ガス処理装置として使用することができる。これにより、第1の流路11を介して排ガスをプラズマ発生体の空間に良好に流入させることができるので、プラズマ発生体において排ガスを、プラズマ反応により良好に浄化された被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路12を介して放出させることができる。
なお、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上述においては、自動車、船舶、または発電機等に使用されるエンジン等の排ガスの浄化等について説明を行っているが、その他の用途に使用されるプラズマ発生体に適用しても良い。例えば、消臭、ダイオキシンの分解、若しくは花粉の分解等に使用される空気洗浄機器、プラズマエッチング、または薄膜装置等に搭載されるプラズマ発生体およびプラズマ発生体を備えた装置、流体処理装置等に適用することができる。
(a)は、本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す平面図であり、(b)は、(a)のA方向から見た側面図である。 (a)は、図1(a)のプラズマ発生体のB−B’線における断面図、(b)は、図1(b)のC−C’線における断面図、(c)は、図1(b)のD−D’線における断面図、(d)は、図1(b)のE−E’線における断面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す斜視図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す斜視図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生他を示す斜視図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生体を示す側面図である。 本発明の一実施形態にかかるプラズマ発生装置を示す模式図である。

Claims (8)

  1. 第1方向に沿って配列される複数の電極部と、
    隣接する前記電極部間に介在され、前記第1方向と直交する第2方向における前記電極部の一端部に配置される複数の第1側壁部と、
    隣接する前記電極部間に介在され、前記第2方向における前記電極部の他端部に配置される複数の第2側壁部と、を備え、
    前記第1側壁部の表面と前記第2側壁部の表面との間に空間が形成されており、
    前記複数の電極部のうちの一の電極部を挟んで隣接する一対の前記第1側壁部は、一方の前記第1側壁部における前記空間に接する表面が他方の前記第1側壁部における前記空間に接する表面よりも前記第2方向における外側の位置で当該電極部に接しており、
    前記一の電極部を挟んで隣接する一対の前記第2側壁部は、一方の前記第2側壁部における前記空間に接する表面が他方の前記第2側壁部における前記空間に接する表面よりも前記第2方向における内側の位置で前記電極部に接しているプラズマ発生体。
  2. 前記複数の第1側壁部の表面と前記複数の第2側壁部の表面との間にそれぞれ前記空間が形成されており、それぞれの前記空間での前記第1側壁部と前記第2側壁部との前記第2方向における間隔が同じである請求項1に記載のプラズマ発生体。
  3. それぞれの前記空間での前記第1側壁部と前記第2側壁部との対向領域の体積が同じである請求項に記載のプラズマ発生体。
  4. 前記第1方向において中央部の前記第1側壁部から端部の前記第1側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次内側にずれており、
    前記第1方向において中央部の前記第2側壁部から端部の前記第2側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次内側にずれている請求項1に記載のプラズマ発生体。
  5. 前記第1方向において一方の端部に位置する前記第1側壁部から他方の端部に位置する前記第1側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次外側にずれており、
    前記第1方向において一方の端部に位置する前記第2側壁部から他方の端部に位置する前記第2側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次外側にずれている請求項1に記載のプラズマ発生体。
  6. 前記電極部は、電極及びこれを保護する保護層を備え、
    前記保護層、前記第1側壁部、および前記第2側壁部が、同一の材料を含んでなる請求項1乃至請求項のいずれかに記載のプラズマ発生体。
  7. 請求項に記載のプラズマ発生体と、
    前記プラズマ発生体の前記電極に接続され、対向する前記電極間に交流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部と、を備えたプラズマ発生装置。
  8. 前記空間に流体を流入させる第1の経路と、
    前記空間から排出される流体を、前記空間から流出させる第2の流路とをさらに備えた請求項に記載のプラズマ発生装置。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6738175B2 (ja) * 2016-03-23 2020-08-12 日本特殊陶業株式会社 プラズマリアクタ
WO2023276337A1 (ja) * 2021-07-02 2023-01-05 日本特殊陶業株式会社 オゾン発生体、オゾン発生ユニット及びオゾン発生器
JP7360422B2 (ja) * 2021-07-02 2023-10-12 日本特殊陶業株式会社 オゾン発生体及びオゾン発生器

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0312167A (ja) * 1989-06-09 1991-01-21 Tosoh Corp 芳香性脱臭剤
JP2002336620A (ja) * 2001-05-15 2002-11-26 Hitachi Metals Ltd セラミックハニカムフィルタ
JP2005188424A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3012167B2 (ja) * 1995-04-12 2000-02-21 日本碍子株式会社 排ガス浄化フィルタおよびそれを用いた排ガス浄化装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0312167A (ja) * 1989-06-09 1991-01-21 Tosoh Corp 芳香性脱臭剤
JP2002336620A (ja) * 2001-05-15 2002-11-26 Hitachi Metals Ltd セラミックハニカムフィルタ
JP2005188424A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器

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