JP4703765B2 - プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 - Google Patents
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 39
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8-tetrachloro-dibenzo-p-dioxin Chemical compound O1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2OC2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/0892—Electric or magnetic treatment, e.g. dissociation of noxious components
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2418—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the electrodes being embedded in the dielectric
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
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Description
本発明の第1の実施形態によるプラズマ発生体P10は、図1(a),(b)に示すように、複数の電極部1と、複数の第1側壁部7a1,7a2(以下、第1側壁部7a1,7a2を区別せずに、単に「第1側壁部7a」ともいう。)と、複数の第2側壁部7b1,7b2(以下、第2側壁部7b1,7b2を区別せずに、単に「第2側壁部7b」ともいう。)とを備える。複数の電極部1は、第1方向Xに沿って配列される。電極部1は、交互に配列された第1電極部1aと第2電極部1bとを有する。第1側壁部7aは、隣接する電極部1間に介在され、第1方向Xと直交する第2方向Yにおける電極部1の一端部に配置される。複数の第2側壁部7bは、隣接する電極部1間に介在され、第2方向Yにおける電極部の他端部に配置される。第1側壁部の表面と第2側壁部の表面との間には、空間8が形成されている。複数の電極部1のうちの第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第1側壁部7aは、各々の空間8に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。また、その第2電極部1bを挟んで隣接する一対の第2側壁部7bは、各々の空間に接する表面が、第2方向Yにおける異なる位置で第2電極部1bにそれぞれ接している。なお、以下では、第1側壁部7aおよび第2側壁部7bを区別せずに、単に「側壁部7」ということがある。
2NO+O2 → N2+2O2・・・・・・・・・(2)
なお、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させるために、交流電圧または直流パルス電圧が印加される。例えば、周波数の高い交流電圧が印加される場合、印加される交流電圧は、必要とされるプラズマ場の強度等によって適宜選択される。例えば、ディーゼルエンジンの排ガス中のPMまたは酸化成分等を反応させて分解するプラズマ発生体において、印加される交流電圧およびその周波数は、例えば、1kV〜100kV、10MHz〜100MHzが好ましい。また、直流パルス電圧を印加する場合は、電圧が2kV〜50kV、周波数が10MHz〜1000MHzであることが好ましい。
本発明の第2の実施形態によるプラズマ発生体P20は、図5、図6に示すように、第1方向Xにおいて端部に位置する第1側壁部7a1,7a3は、他の第1側壁部7a2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。また、第1方向Xにおいて端部に位置する第2側壁部7b1,7b3は、他の第2側壁部7b2よりも、空間8に接する表面が、第2方向Yにおける外側の位置で電極部1に接している。
本発明の第3の実施形態によるプラズマ発生体P30は、図13に示すように、第1方向Xにおいて一方の端部の第1側壁部7a1から他方の端部の第1側壁部7a5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、漸次外側にずれており、第1方向Xにおいて一方の端部に位置する第2側壁部7b1から他方の端部に位置する第2側壁部7b5にかけて、空間8に接する表面が電極部1に接する位置は、漸次外側にずれている。
本実施形態によるプラズマ発生装置は、上述のプラズマ発生体と第1電極3と第2電極4との間に交流電圧または直流パルス電圧を印加するための電圧印加部(図14において符号10を付している)とを有する。この電圧印加部によって第1電極3と第2電極4との間に交流電圧または直流パルス電圧を印加することにより、電極部1が対向する空間8内にプラズマを発生させる。このような空間8に被処理流体を流入させると、被処理流体に対して、プラズマ反応をさせることができる。
Claims (8)
- 第1方向に沿って配列される複数の電極部と、
隣接する前記電極部間に介在され、前記第1方向と直交する第2方向における前記電極部の一端部に配置される複数の第1側壁部と、
隣接する前記電極部間に介在され、前記第2方向における前記電極部の他端部に配置される複数の第2側壁部と、を備え、
前記第1側壁部の表面と前記第2側壁部の表面との間に空間が形成されており、
前記複数の電極部のうちの一の電極部を挟んで隣接する一対の前記第1側壁部は、一方の前記第1側壁部における前記空間に接する表面が他方の前記第1側壁部における前記空間に接する表面よりも前記第2方向における外側の位置で当該電極部に接しており、
前記一の電極部を挟んで隣接する一対の前記第2側壁部は、一方の前記第2側壁部における前記空間に接する表面が他方の前記第2側壁部における前記空間に接する表面よりも前記第2方向における内側の位置で前記電極部に接しているプラズマ発生体。 - 前記複数の第1側壁部の表面と前記複数の第2側壁部の表面との間にそれぞれ前記空間が形成されており、それぞれの前記空間での前記第1側壁部と前記第2側壁部との前記第2方向における間隔が同じである請求項1に記載のプラズマ発生体。
- それぞれの前記空間での前記第1側壁部と前記第2側壁部との対向領域の体積が同じである請求項2に記載のプラズマ発生体。
- 前記第1方向において中央部の前記第1側壁部から端部の前記第1側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次内側にずれており、
前記第1方向において中央部の前記第2側壁部から端部の前記第2側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次内側にずれている請求項1に記載のプラズマ発生体。 - 前記第1方向において一方の端部に位置する前記第1側壁部から他方の端部に位置する前記第1側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次外側にずれており、
前記第1方向において一方の端部に位置する前記第2側壁部から他方の端部に位置する前記第2側壁部にかけて、前記空間に接する表面が前記電極部に接する位置は、前記第2方向において漸次外側にずれている請求項1に記載のプラズマ発生体。 - 前記電極部は、電極及びこれを保護する保護層を備え、
前記保護層、前記第1側壁部、および前記第2側壁部が、同一の材料を含んでなる請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のプラズマ発生体。 - 請求項6に記載のプラズマ発生体と、
前記プラズマ発生体の前記電極に接続され、対向する前記電極間に交流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部と、を備えたプラズマ発生装置。 - 前記空間に流体を流入させる第1の経路と、
前記空間から排出される流体を、前記空間から流出させる第2の流路とをさらに備えた請求項7に記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009520662A JP4703765B2 (ja) | 2007-06-28 | 2008-06-30 | プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007171018 | 2007-06-28 | ||
JP2007171018 | 2007-06-28 | ||
JP2009520662A JP4703765B2 (ja) | 2007-06-28 | 2008-06-30 | プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 |
PCT/JP2008/061871 WO2009001961A1 (ja) | 2007-06-28 | 2008-06-30 | プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009001961A1 JPWO2009001961A1 (ja) | 2010-08-26 |
JP4703765B2 true JP4703765B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=40185767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009520662A Expired - Fee Related JP4703765B2 (ja) | 2007-06-28 | 2008-06-30 | プラズマ発生体およびこれを用いたプラズマ発生装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4703765B2 (ja) |
WO (1) | WO2009001961A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6738175B2 (ja) * | 2016-03-23 | 2020-08-12 | 日本特殊陶業株式会社 | プラズマリアクタ |
WO2023276337A1 (ja) * | 2021-07-02 | 2023-01-05 | 日本特殊陶業株式会社 | オゾン発生体、オゾン発生ユニット及びオゾン発生器 |
JP7360422B2 (ja) * | 2021-07-02 | 2023-10-12 | 日本特殊陶業株式会社 | オゾン発生体及びオゾン発生器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0312167A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Tosoh Corp | 芳香性脱臭剤 |
JP2002336620A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-26 | Hitachi Metals Ltd | セラミックハニカムフィルタ |
JP2005188424A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Ngk Insulators Ltd | プラズマ発生電極及びプラズマ反応器 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3012167B2 (ja) * | 1995-04-12 | 2000-02-21 | 日本碍子株式会社 | 排ガス浄化フィルタおよびそれを用いた排ガス浄化装置 |
-
2008
- 2008-06-30 JP JP2009520662A patent/JP4703765B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-30 WO PCT/JP2008/061871 patent/WO2009001961A1/ja active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0312167A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Tosoh Corp | 芳香性脱臭剤 |
JP2002336620A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-26 | Hitachi Metals Ltd | セラミックハニカムフィルタ |
JP2005188424A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Ngk Insulators Ltd | プラズマ発生電極及びプラズマ反応器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009001961A1 (ja) | 2008-12-31 |
JPWO2009001961A1 (ja) | 2010-08-26 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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