JP4700712B2 - 光学素子の表面平滑化方法 - Google Patents
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Description
2 光学素子
13 ステージ
14 光源
41 凹部
42 凸部
43 先鋭化部分
Claims (7)
- 光学素子の表面を所定の溶質分子を含む液体表面へ向けて近接させつつ、上記光学素子に対して上記溶質分子の吸収端波長以上の光を照射し、
上記光学素子の表面が上記液体表面へほぼ接触した時において、上記照射した光に応じて上記光学素子表面に形成された凹凸における少なくとも角部に発生させた近接場光に基づいて上記溶質分子を解離させてエッチングすること
を特徴とする光学素子の表面平滑化方法。 - 塩素分子を含む溶質分子を含む上記液体へ上記光学素子の表面を接触させること
を特徴とする請求項1記載の光学素子の表面平滑化方法。 - 光の回折限界以下のピッチで上記凹凸が形成された光学素子を上記液体へ接触させること
を特徴とする請求項1又は2記載の光学素子の表面平滑化方法。 - 所望のエッチング形状に応じて、上記液体の液面に対する上記光学素子の表面の接触角度を調整すること
を特徴とする請求項1〜3のうち何れか1項に記載の光学素子の表面平滑化方法。 - 溶質分子を含む液体中に光学素子を浸漬し、
上記溶質分子の吸収端波長以上の光を上記液体を通過させて上記光学素子に照射することにより、上記光学素子表面に形成された凹凸における少なくとも先鋭化部分に発生させた近接場光に基づいて上記溶質分子を解離させてエッチングすること
を特徴とする光学素子の表面平滑化方法。 - 塩素分子を含む溶質分子を含む上記液体中に光学素子を浸漬すること
を特徴とする請求項5記載の光学素子の表面平滑化方法。 - 請求項1〜6のうち何れか1項に記載の光学素子の表面平滑化方法の工程を有すること
を特徴とする光学素子の作製方法。
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