JP4687389B2 - 排気ガス浄化触媒 - Google Patents

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Description

本発明は、排気ガス中に含まれる炭化水素(HC),一酸化炭素(CO),窒素酸化物NOx)等を浄化する排気ガス浄化触媒に関する。
通常、エンジンの排気システムには、このエンジンから排出される排気ガス中の有害成分を浄化するために浄化触媒が設けられている。この浄化触媒は、通常、Pt,Pd、Rh等の触媒貴金属が酸化物担体に担持されている。これらの触媒貴金属は排気ガス温度の昇温に伴ってシンタリングし易くなることから、これらの触媒貴金属を高分散に配置して高温雰囲気下でもシンタリングを抑制することが強く望まれている。
このような要望に応えた浄化触媒として、例えば、特許文献1に、ハニカム状担体のセル壁表面に、Ce、Zr及びNdを含有しさらに触媒貴金属としてのRhを結晶格子または原子間に配置した複酸化物よりなる酸素吸蔵材と活性アルミナとを含む触媒層を形成した排気ガス浄化触媒が提案されている。この浄化触媒によれば、触媒貴金属であるRhが結晶格子または原子間に配置されているので、高温雰囲気下であっても触媒貴金属が複酸化物と強固に結びついてその移動が拘束されることによりシンタリングを有効に抑制することができ、これにより耐熱性を向上させることができるとともに、これらの触媒貴金属を分散配置させることができるので、浄化性能をも向上させることができる点で有利である。
また、上記特許文献1に記載の浄化触媒のように、複酸化物の結晶格子または原子間に触媒貴金属を配設したものとして、特許文献2に記載の浄化触媒もある。
特開2004−174490号公報 特開2005−161143号公報
大気環境の改善の観点から、近年、排気ガスの浄化性能のさらなる改善が求められているところ、上記各文献に記載の浄化触媒は、シンタリングを抑制して耐熱性を向上させ浄化性能をある程度改善することができるものの、触媒貴金属を担持させた、単一の複酸化物だけではその浄化性能の改善にも一定の限界があった。
ここで、触媒貴金属をそれぞれ担持させた複酸化物を組み合わせて浄化性能のさらなる改善を図ることも考えられるが、複数の複酸化物を組み合わせるにしても、具体的にどのように組み合わせるかが問題となる。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、浄化性能をさらに改善することができる浄化触媒を提供することを目的としている。
ここで、本発明者は、鋭意研究の結果、CeとZrとを含有し、結晶格子点または格子点間に触媒貴金属が配置された複酸化物において、これらのCeOとZrOとの配合比率を質量で比較したときに、質量比で所定量を境にCeOが多い場合とZrOが多い場合とで、酸素吸蔵量が異なっていること、および添加した上記触媒貴金属の当該複酸化物表面に露出している量が異なっていることも関連して、活発に行われる反応が異なっていることを見出し、この点に着目して排気ガス成分を効率的に反応させて浄化させる本発明を完成するに至った。
すなわち、上記課題を解決するために、本発明に係る浄化触媒は、エンジンの排気通路に配設されたハニカム状担体のセル壁に、CeとZrとを含有するとともに結晶格子点または格子点間に触媒貴金属が配置された複酸化物を含む触媒層が形成された排気ガス浄化触媒であって、上記複酸化物には、CeOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第1複酸化物と、ZrOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第2複酸化物とを含み、上記触媒層は、上記第1複酸化物と上記第2複酸化物とが混合されることにより形成されていることを特徴とするものである。
この発明によれば、後述の実験データに示すように、従来の浄化触媒に比べて浄化性能を改善することができる。このメカニズムは、次の理由によるものと考えられる。
すなわち、ZrOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第2複酸化物によってHC部分酸化反応およびH生成反応が主に促進されると考えられ、一方、CeOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第1複酸化物によってH酸化反応およびCO酸化反応が主に促進されると考えられる。すなわち、第2複酸化物によるH生成反応によって生成されたHは第1複酸化物によるH酸化反応によって直ちに酸化されることになる。言い換えると、上記第1複酸化物によるH酸化反応に用いられるHは排気ガス中のものだけを用いると直ぐに枯渇するが、第2複酸化物によるH生成反応によってHが供給されるので、第1複酸化物による反応が効率的に行われるものと推測され、これにより上記したように浄化性能をさらに改善することができる。
しかも、この発明によれば触媒床を早期に昇温させ、ライトオフ性能を改善することができる。すなわち、上記第1および第2複酸化物による各反応のうち、HおよびCOがまず反応すると考えられるので、この反応に伴う発熱によって触媒床を昇温させることができ、このため早期に浄化触媒を活性化させることができ、このため、ライトオフ性能を改善することができると考えられる。
また、上記触媒層は、上記第1複酸化物と上記第2複酸化物とが混合されることにより形成されているので、各複酸化物が触媒層中に満遍なく分布して、反応副生成物、例えば第2副酸化物に基づく反応によって生成されたH が隣接する第1複酸化物による反応に直ちに利用され、これにより浄化性能を向上させることができる。
上記触媒貴金属は、Pt,Pd,Rhのうちから選択される少なくとも1種であるのが好ましい。特に、上記触媒貴金属に少なくともRhが含まれていると、複酸化物の酸素吸蔵・放出性能を格段に向上させることができる。
れらの場合、上記第1複酸化物と第2複酸化物との混合比は、特に限定されるものではないが、後述の実験結果で示すように、所定のライトオフ性能を得るためには、この混合比は、両複酸化物の総質量に対する第1複酸化物の割合が5〜99質量%の範囲内で設定されるのが好ましい。さらに好ましくは20〜99質量%、さらに好ましくは45〜75質量%の範囲内で設定されるのがよい。このように構成すれば、ライトオフ性能だけでなく高温浄化性能も改善することができる。
本発明の排気ガス浄化触媒は、第1および第2の各複酸化物によって積極的に促進される化学反応を効率的に組み合わせることにより、単一の複酸化物によって構成される排気ガス浄化触媒に比べて浄化性能を改善することができるとともに、ライトオフ性能を向上させることができるという利点がある。
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。図1は触媒コンバータを模式的に示す断面図である。
触媒コンバータ3は、エンジンに接続される排気通路に配置され、この触媒コンバータ3において排気ガス中に含まれる炭化水素、一酸化炭素および窒素酸化物が浄化されて排出されるように構成されている。この触媒コンバータ3は耐熱容器4の中に浄化触媒5が内蔵されることにより構成されている。なお、図示を省略しているが、耐熱容器4には、浄化触媒5の入口温度を検出する温度センサが設けられている。
浄化触媒5は、隔壁で区画した多数のセルを有する略円柱状のハニカム担体のセル壁表面に触媒層が形成されることにより構成され、排気ガスは上流側から下流側に向かってセルを通過する間にそのセル表面に形成された触媒層中に拡散してこの触媒層に含まれる触媒貴金属と接触することにより有害成分(HC,CO,NOx)が浄化されるようになっている。この浄化触媒5は、そのハニカム担体として例えばコージェライト製のセラミック担体、或いはステンレス製のメタル担体を用いることができる。
浄化触媒5の触媒層は、触媒材料がセル壁の表面にコーティングされることにより形成されている。この触媒材料は、触媒貴金属を担持した複酸化物として構成され、より具体的には、複酸化物の表面に触媒貴金属が担持されるとともに、当該複酸化物の内部、すなわち複酸化物を構成する各種結晶格子や原子間にも触媒貴金属が配置されている。
この触媒材料の具体的構成について説明すると、図2に模式的に示すように、触媒貴金属(例えばRh)は、この複酸化物の結晶格子点または格子点間に配置され、複酸化物に強く結合した状態になっている。いずれにしても、触媒材料は、Rhなどの触媒貴金属が複酸化物の表面および内部に均一に、かつ、強固に分散結合した状態となっている。
一方、従来の触媒材料のように、複酸化物の表面にRhを担持させたものを図3に模式的に示す。この従来の触媒材料では、セリウム−ジルコニウム複酸化物の表面にRhが担持されているにすぎず、したがって高温の雰囲気下ではこのRhが移動してシンタリングを生じる虞がある。これに対して、図2に示す当実施形態の複酸化物はその内部および表面に露出するようにRhが配置されているので、高温雰囲気下でもRhが移動し難く、したがってシンタリングを効果的に抑制することができる。
触媒貴金属は、炭化水素(HC)および一酸化炭素(CO)を酸化させるとともに窒素酸化物を還元するものであり、プラチナ(Pt),パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)等から選択される少なくとも一種が例示される。これらの触媒貴金属のうち、Rh,PdはNOxを低温から浄化することができるとともに雰囲気温度が高い場合でも良好な浄化性能を達成することができるという点で優れる。一方、Ptは低温始動時に発生し易い飽和炭化水素を効率的に浄化するという点で優れる。特に、Rhが含まれていると、酸素吸蔵能および酸素放出能に優れ、これにより浄化性能を向上させることができる点で有利である。
上記触媒貴金属を担持する複酸化物は、セリウム酸化物(CeO)にジルコニウム酸化物(ZrO)を固溶させたセリウム−ジルコニウム複酸化物などの酸素吸蔵材が用いられている。特に、この発明で用いられる複酸化物は、セリウム(Ce)とジルコニウム(Zr)とを含み、各々セリウム酸化物(セリア:CeO)とジルコニウム酸化物(ジルコニア:ZrO)との質量比が異なる複数のセリウム−ジルコニウム複酸化物等を混合した複酸化物の組み合わせによって構成されている。この複酸化物の中には、CeOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第1複酸化物と、このZrOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第2複酸化物とを含んでいる。言い換えると、複酸化物は、セリアを主成分とする第1複酸化物(セリアリッチ複酸化物)とジルコニアを主成分とする第2複酸化物(ジルコニアリッチ複酸化物)とを含んでいる。
この第1および第2複酸化物の調製は、触媒貴金属の硝酸塩の溶液と、CeおよびZrを含む酸性溶液とを混合し、アンモニア共沈法による複酸化物前駆体を調製することにより行われる。この複酸化物前駆体を水洗し、所定の温度で加熱乾燥させ、最後に焼成することにより上記各複酸化物が得られる。第1複酸化物は、上記触媒貴金属の硝酸塩の溶液と混合する酸性溶液において、CeとZrとは酸化物として換算してCeOの含有率がZrOの含有率に比べて高く(質量比で65質量%以上に)設定されることにより得られる。一方、第2複酸化物は、上記触媒貴金属の硝酸塩の溶液と混合する酸性溶液において、CeとZrとは酸化物として換算してZrOの含有率がCeOの含有率に比べて高く(質量比で65質量%以上に)設定されることにより得られる。
なお、複酸化物の中には、CeOおよびZrOの他、他の金属酸化物(例えばネオジム酸化物)が含まれているものであってもよい。
以下において特に少なくとも内部または表面に露出するように触媒貴金属が配置されている複酸化物を触媒貴金属ドープ複酸化物と称する。
触媒層は、第1および第2複酸化物を混合してスラリー化しこのスラリーによって単一の層を形成することにより、形成されている
媒材料におけるこの第1複酸化物と第2複酸化物との質量比は、後述する実験データで示すように、少なくともライトオフ性能T50に関し、第1複酸化物の場合よりも低温活性を示す範囲に設定されるのがよく、より好ましくは高温浄化率C400も所定値(後述の実験で例えば95%)を越えるように設定されるのがよい。例えば第1複酸化物の質量が第1および第2複酸化物の総質量に対して、ライトオフ性能について言えば5〜99質量%の範囲内であればよく、さらに高温浄化率も加味すれば20〜99質量%の範囲内に設定されるのが好ましい。また、さらに好ましくはこの第1複酸化物の質量が第1および第2複酸化物の総質量に対して30〜80質量%、さらに好ましくは45〜75質量%の範囲内で設定されるのがよい。このように第1複酸化物の質量比がさらに限定的な範囲に設定されることにより、浄化性能、特に高温浄化率C400を改善することができる。
この浄化触媒5によれば、後述する実験データで示すように、セリアまたはジルコニアをそれぞれ単独で用いる場合に比べて浄化性能(ライトオフ温度T50,高温浄化率C400,高温浄化率C500)を十分に改善することができる。
なお、このように浄化性能が改善されるのは次の理由によると推測される。
すなわち、ZrOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第2複酸化物によってHC部分酸化反応およびH生成反応が主に促進されるとともに、CeOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第1複酸化物によってH酸化反応およびCO酸化反応が主に促進されると考えられる。この知見に基づけば、第2複酸化物によるH生成反応によって生成されたHは第1複酸化物によるH酸化反応によって直ちに酸化される。言い換えると、上記第1複酸化物によるH酸化反応に用いられるHは排気ガス中のものだけを用いると直ぐに枯渇するが、第2複酸化物によるH生成反応によってHが供給されるので、第1複酸化物による反応が効率的に行われるものと推測される。したがって、この浄化触媒5による浄化反応が効率的に行われることにより浄化性能をさらに改善することができると考えられる。
しかも、上記第1および第2複酸化物による各反応のうち、HおよびCOがまず反応するので、この反応に伴う発熱によって触媒層を昇温させることができ、このため早期に触媒層を構成する触媒材料を活性化させることができる。したがって、この浄化触媒によれば、後述の実験データで示すように、ライトオフ性能を改善することができる。
このような効果を確認するため、浄化触媒5における浄化性能評価のために行った実験とその結果を次に示す。
(第1および第2複酸化物におけるCeOおよびZrOの含有率の策定)
第1複酸化物および第2複酸化物にそれぞれ含まれるZrOとCeOとの質量比は次の実験データに基づいて定められている。
すなわち、CeOおよびZrOの質量比を変更するとともに各複酸化物にRhを結晶格子或いは原子間に配置した複数のサンプルを調製し、このサンプルをモデルガス流通反応装置にセットして空燃比リッチのモデル排気ガス(温度600℃)を10分間流した後、HC,COおよびNOxの浄化に関するライトオフ温度T50、高温浄化率C400およびC500を測定し、この測定結果をグラフ化すると、ZrO/(CeO+ZrO)が高いものと低いものがそれぞれ良好な浄化性能を示したことに基づく。
これらのライトオフ温度T50、高温浄化率C400およびC500の測定結果を図4〜図6に示す。図4はZrOの比率とライトオフ温度T50の関係を示すグラフであり、図5はZrO(ZrO/(CeO+ZrO))の比率と高温浄化率C400の関係を示すグラフであり、図6はZrOの比率と高温浄化率C500の関係を示すグラフである。なお、図4〜図6に示す複酸化物は、触媒貴金属としてRhを0.486質量%含有する貴金属ドープ複酸化物であり、その調製法は、オキシ硝酸ジルコニウムと、硝酸第一セリウムと、硝酸ロジウムとを原料とし、下記第1複酸化物の調製法と同じくアンモニア水添加による共沈法で得られる。
これらの図4〜図6に基づくと、ZrOの比率を65質量%以上および35質量%未満(CeOの比率では35質量%未満および65質量%以上)に設定すると、ライトオフ温度T50、高温浄化率C400およびC500のいずれも良好な結果が得られた。特に、ZrOの比率を20〜30質量%または65〜90質量%に設定すると、T50,C400およびC500のいずれもさらに良好な結果が得られた。また、高温浄化率C400,C500において略80%以上の浄化率を達成するためには、ZrOの比率を30%以下、または80%程度に設定するのが好ましいことが分かる。
したがって、第1複酸化物および第2複酸化物を構成するZrOおよびCeOの比率は、上記範囲で設定されるのがよい。
この知見に基づいて、実験に用いる複酸化物を調製した。
(複酸化物の調整)
=第1複酸化物=
第1複酸化物の調製にあたって、オキシ硝酸ジルコニウムと、硝酸第一セリウムと、硝酸ネオジム(III)含水と、硝酸ロジウム溶液と、水とを混合して合計300mlの混合溶液を調製する。この混合溶液を室温で約1時間攪拌した後、80℃まで加熱し、その後28%アンモニア水50mlとさらに混合した。この混合は、混合溶液および上記アンモニア水をそれぞれチューブから高速ディスパーザのカップ内に落とし、このカップ内の溶液に対して回転力およびせん断力を作用させることにより約1秒以内に混合攪拌することにより行われる。
この混合溶液を一昼夜放置し、生成したケーキ(比重が重いものが固まったもの)を遠心分離器にかけ、十分に水洗した。この水洗したケーキを約150℃の温度で乾燥させた後、400℃の温度で5時間、続いて500℃の温度で2時間、焼成することによりRhドープ第1複酸化物を得た。このRhドープ第1複酸化物は、Rhを除いた組成がCeO、ZrO、Ndがそれぞれ、順に68重量%、22重量%、10重量%含むように設定されている。一方、触媒貴金属としてのRhは、0.058質量%含んでいる。
そして、このRhドープ第1複酸化物の表面に所定量のRhをさらに担持(後担持)させ、第1複酸化物を得た。
=第2複酸化物=
Rhドープ第2複酸化物の調製は、混合する溶液に含まれるCeおよびZrの配合比率が異なる点を除いて上記Rhドープ第1複酸化物の調製と同様であるので、ここではその説明を省略する。この得られたRhドープ第2複酸化物は、Rhを除いた組成がCeO、ZrO、Ndがそれぞれ、順に22重量%、68重量%、10重量%含むように設定されている。一方、触媒貴金属としてのRhは、上記Rhドープ第1複酸化物と同様に、0.058質量%含んでいる。
そして、このRhドープ第2複酸化物の表面に所定量のRhをさらに担持(後担持)させ、第2複酸化物を得た(後担持させたRh量については後述する)。
(実施例1〜3および比較例1,2)
=サンプルの調製=
得られた第1および第2複酸化物を混合して異なる配合比率の複数の浄化触媒を生成し、これらをハニカム担体にコーティングして単層の触媒層を形成することにより複数のサンプルを得た。ここで用いられるハニカム担体は、直径25.4mm、長さ50mm、1平方インチ(約6.54cm2)当たりのセル数400、相隣るセルを隔てる壁厚4ミル(約0.1mm)である。
具体的には、第1複酸化物、第2複酸化物、アルミナ、バインダとしての硝酸ジルコニルおよび水をそれぞれ所定量混合してスラリーを調製し、このスラリーに触媒層が形成される前のハニカム担体を浸漬して引き上げ、余分なスラリーを吹き飛ばして500℃の温度で2時間の焼成を行うことにより実施例1〜3および比較例1,2を調製した。各実施例および比較例のRhドープ第1および第2複酸化物の含有量、Rhドープ第1および第2複酸化物の表面に担持させるRh量(Rh後担持量)は次表に示すとおりである。なお、各量の単位であるg/lは、触媒担体1リットル当たりの質量を示している。
Figure 0004687389
これら触媒(実施例1〜3、比較例1,2)に対しては、大気雰囲気において1000℃の温度に24時間保持するエージングを行なった。
=触媒性能評価法=
モデルガス流通反応装置及び排ガス分析装置を用いて、上記実施例1〜3及び比較例1,2の各触媒(上記エージング後のものをモデルガス流通反応装置に取り付け、空燃比リッチのモデルガス(温度600℃)を10分間流した後のもの)のHC、CO及びNOxの浄化に関するライトオフ温度T50及び高温浄化率C400を測定した。T50は、触媒に流入するモデルガス温度を常温から漸次上昇させていき、浄化率が50%に達したときの触媒入口のガス温度である。C400は触媒入口ガス温度が400℃のときの浄化率である。モデルガスは、A/F=14.7±0.9とした。すなわち、A/F=14.7のメインストリームガスを定常的に流しつつ、所定量の変動用ガスを1Hzでパルス状に添加することにより、A/Fを±0.9の振幅で強制的に振動させた。空間速度SVは60000h-1、昇温速度は30℃/分である。
この結果を図7および図8に示す。図7は実施例1〜3および比較例1,2のT50を示すグラフであり、図8は各例のC400を示すグラフである。
これらのライトオフ温度T50、高温浄化率C400のいずれをとっても、第1複酸化物と第2複酸化物とを混合して触媒層を形成したものが、第1複酸化物または第2複酸化物のいずれか一方を用いて触媒層を形成したものに比べて優れていることが分かる。この実験結果によれば、例えばライトオフ性能T50を315℃程度以下に設定するには第1および第2複酸化物の総質量に対する第1複酸化物の質量が5〜99質量%の範囲内で設定するのが好ましく、また、HCについて高温浄化性能C400を95%以上に設定するには、第1および第2複酸化物の総質量に対する第1複酸化物の質量が20〜99質量%の範囲内で設定するのが好ましいことが分かった。さらに好ましくは30〜80質量%、さらに好ましくは45〜75質量%の範囲内で第1複酸化物の含有率を設定するのがよい。
このように触媒層を構成する触媒材料に第1複酸化物および第2複酸化物を混合したものを含めると、第1複酸化物または第2複酸化物のいずれか一方から構成される触媒材料に比べて浄化性能を改善することができる
実施例における浄化性能改善メカニズム)
実施例1〜は、比較例1,2に比べて浄化性能を改善することができる。このメカニズムは、次の理由によるものと考えられる。
ここで、比較例1,2のそれぞれについて、XRD(X-ray Diffractometer)により、フレッシュ時およびエージング(大気雰囲気で1000℃の温度に24時間保持)後の構造解析を行った。この構造解析では、比較例1,2を通じて第1複酸化物および第2複酸化物のそれぞれの構造上の特徴について明らかにすることができることになる。
は、比較例1、すなわち第2複酸化物の(a)はフレッシュ時のXRDチャート、(b)はエージング後のXRDチャートである。図10は、比較例2、すなわち第1複酸化物の(a)はフレッシュ時のXRDチャート、(b)はエージング後のXRDチャートである。
によれば、第2複酸化物は、フレッシュ時及びエージングのいずれにおいてもCeZrNdO2結晶の単相となっている。これは、CeO2/ZrO2質量比が小さいためと考えられ、粒成長し易く、触媒貴金属としてのRhが複酸化物粒子内に埋没し易いということができる。
一方、図10によれば、第1複酸化物は、フレッシュ時(図(a)参照)においてCeO2結晶と他の酸化物結晶との混合相になっている。従って、それらは、加熱されても、相異なる結晶相同士が互いに障壁となって粒成長することが抑制され、当該複酸化物表面に露出している触媒貴金属としてのRhの埋没が少ないということができる。しかも上記エージング後(図(b)参照)でも、結晶の組成の変化は見られるものの、混合相になっており、耐熱性が高いことがわかる。
この知見に基づけば、第1複酸化物は表面に露出しているRhが多いために、そのRhの酸化機能と、複酸化物の内部から放出される酸素とによって、次式の水素酸化反応と、CO酸化反応とを得意とする。言い換えると、第1複酸化物によって、水素酸化反応とCO酸化反応が主に促進されることになると考えられる。
Figure 0004687389
一方、第2複酸化物はRhが埋没し易く、このため表面に露出しているRhが少ないということは内部に多くのRhが存在しているということなので、酸素の吸蔵・放出が低温時においても活発であり、次式のHCの部分酸化反応と、水蒸気改質反応とを得意とする。言い換えると、第2複酸化物によって、HCの部分酸化反応と水蒸気改質反応が主に促進されることになると考えられる。特に、HCの部分酸化反応はこの第2複酸化物によって活発に行われるということができる。なお、下の部分酸化反応式において、HC’は左辺のHCのうち、酸化されずに(水、二酸化炭素にならずに)残存しているHCを示している。
Figure 0004687389
すなわち、例えば第1複酸化物によって触媒層を形成した場合について考えてみると、第1複酸化物は上記したようにH、COの酸化反応を得意とするため、排気ガス中に含まれるH、COを積極的に酸化させる。ところが、排ガス中に含まれるHは少量であるため直ぐに枯渇するので、H酸化反応が少なくなる。このH酸化反応が少なくなると、発熱量が減少して触媒上で行われる種々の反応が起こり難くなる。
そこで、当実施例のように、第1複酸化物と第2複酸化物の両方を触媒層に含ませることにより、この第2複酸化物の水蒸気改質反応によって水素が供給されるので、第1複酸化物による水素酸化反応も活発に行われることになり、発熱量が増えるとともに、HCの部分酸化反応も促進されて浄化性能が格段と向上するものと推測される。
なお、以上に説明した浄化触媒5は、本発明に係る触媒の一実施形態であって、その具体的構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
当実施形態の浄化触媒を模式的に示す説明図である。 当実施形態の浄化触媒の触媒材料構造を模式的に示す説明図である。 従来の浄化触媒の触媒材料構造を模式的に示す説明図である。 Zr−Ce系複酸化物のZrOの比率がライトオフ温度T50に及ぼす影響を示すグラフである。 Zr−Ce系複酸化物のZrOの比率が高温浄化率C400に及ぼす影響を示すグラフである。 Zr−Ce系複酸化物のZrOの比率が高温浄化率C500に及ぼす影響を示すグラフである。 浄化触媒に含まれる第1複酸化物の質量比とライトオフ温度T50との関係を示すグラフである。 浄化触媒に含まれる第1複酸化物の質量比と高温浄化率C400との関係を示すグラフである。 第2複酸化物の(a)はフレッシュ時のXRDチャート、(b)はエージング後のXRDチャートである。 第1複酸化物の(a)はフレッシュ時のXRDチャート、(b)はエージング後のXRDチャートである。
3 触媒コンバータ
4 耐熱容器
5 浄化触媒

Claims (4)

  1. エンジンの排気通路に配設されたハニカム状担体のセル壁に、CeとZrとを含有するとともに結晶格子点または格子点間に触媒貴金属が配置された複酸化物を含む触媒層が形成された排気ガス浄化触媒であって、
    上記複酸化物には、CeOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第1複酸化物と、ZrOがCeOおよびZrOの総質量に対して65質量%以上含まれる第2複酸化物とを含み、
    上記触媒層は、上記第1複酸化物と上記第2複酸化物とが混合されることにより形成されていることを特徴とする排気ガス浄化触媒。
  2. 上記触媒貴金属には、少なくともRhが含まれていることを特徴とする請求項1記載の排気ガス浄化触媒。
  3. 上記第1複酸化物と第2複酸化物との混合比は、両複酸化物の総質量に対する第1複酸化物の割合が5〜99質量%の範囲内で設定されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の排気ガス浄化触媒。
  4. 上記第1複酸化物と第2複酸化物との混合比は、両複酸化物の総質量に対する第1複酸化物の割合が20〜99質量%の範囲内で設定されていることを特徴とする請求項記載の排気ガス浄化触媒。
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