JP4683902B2 - 熱処理装置および熱処理方法 - Google Patents
熱処理装置および熱処理方法Info
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Description
上記本発明の第1の局面に基づく熱処理装置にあっては、上記遮蔽手段が、出口側遮蔽手段をさらに含んでいることが好ましく、その場合に、上記出口側遮蔽手段が、上記加熱領域の一部の領域を遮蔽するものであり、上記加熱領域の出口部分に設けられていることが好ましい。
本発明の第2の局面に基づく熱処理装置は、加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、上記加熱領域において上記被処理基板に対して熱処理を行なうものであって、上記被処理基板を上記搬送路上において連続的に搬送する搬送手段と、上記加熱領域に設けられ、上記被処理基板に対して熱を供給する加熱源と、上記加熱源と上記搬送路との間に開閉自在に設けられ、開状態において上記加熱源から輻射される輻射熱が上記被処理基板に対して供給されるようにし、閉状態において上記加熱源から輻射される輻射熱が上記被処理基板に対して実質的に供給されないように遮蔽する遮蔽手段とを備え、上記遮蔽手段は、出口側遮蔽手段を含み、上記出口側遮蔽手段が、上記加熱領域の一部の領域を遮蔽するものであり、上記加熱領域の出口部分に設けられていることを特徴とするものである。
上記本発明の第1および第2の局面に基づく熱処理装置にあっては、上記出口側遮蔽手段が、上記被処理基板の前端部が上記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から上記被処理基板の全体が上記加熱領域から搬出されるまでの間、上記被処理基板を遮蔽することが好ましい。
上記本発明の第1の局面に基づく熱処理方法にあっては、上記被処理基板が上記加熱領域から搬出される際に、上記加熱領域の一部の領域である出口部分において、上記被処理基板の前端部が上記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から上記被処理基板の全体が上記加熱領域から搬出されるまでの間、上記加熱源からの輻射熱が上記被処理基板に実質的に供給されないように遮蔽する状態とすることをさらに特徴としていてもよい。
本発明の第2の局面に基づく熱処理方法は、加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、上記加熱領域において加熱源を用いて上記被処理基板に対して熱処理を行なうものであって、上記被処理基板を上記搬送路上において連続的に搬送し、上記被処理基板が上記加熱領域から搬出される際に、上記加熱領域の一部の領域である出口部分において、上記被処理基板の前端部が上記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から上記被処理基板の全体が上記加熱領域から搬出されるまでの間、上記加熱源からの輻射熱が上記被処理基板に実質的に供給されないように遮蔽する状態とすることを特徴としている。
まず、本実施の形態における連続熱処理装置の構成について説明する。図1は、本発明の実施の形態1における連続熱処理装置の構成を示す概略構成図である。
図11は、本発明の実施の形態2における連続熱処理装置の構成を示す概略構成図である。なお、上述の実施の形態1における連続熱処理装置1Aと同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
図12は、本発明の実施の形態3における連続熱処理装置の構成を示す概略構成図である。なお、上述の実施の形態2における連続熱処理装置1Bと同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
図17は、本発明の実施の形態4における連続熱処理装置の構成を示す概略構成図である。なお、上述の実施の形態3における連続熱処理装置1Cと同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
Claims (14)
- 加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、前記加熱領域において前記被処理基板に対して熱処理を行なう熱処理装置であって、
前記被処理基板を前記搬送路上において連続的に搬送する搬送手段と、
前記加熱領域に設けられ、前記被処理基板に対して熱を供給する加熱源と、
前記加熱源と前記搬送路との間に開閉自在に設けられ、開状態において前記加熱源から輻射される輻射熱が前記被処理基板に対して供給されるようにし、閉状態において前記加熱源から輻射される輻射熱が前記被処理基板に対して実質的に供給されないように遮蔽する遮蔽手段とを備え、
前記遮蔽手段は、入口側遮蔽手段を含み、
前記入口側遮蔽手段は、前記加熱領域の一部の領域を遮蔽するものであり、前記加熱領域の入口部分に設けられている、熱処理装置。 - 前記入口側遮蔽手段は、前記被処理基板が前記加熱領域に搬入される時点から前記被処理基板の全体が前記加熱領域に搬入されるまでの間、前記被処理基板を遮蔽する、請求項1に記載の熱処理装置。
- 前記遮蔽手段は、出口側遮蔽手段を含み、
前記出口側遮蔽手段は、前記加熱領域の一部の領域を遮蔽するものであり、前記加熱領域の出口部分に設けられている、請求項1または2に記載の熱処理装置。 - 加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、前記加熱領域において前記被処理基板に対して熱処理を行なう熱処理装置であって、
前記被処理基板を前記搬送路上において連続的に搬送する搬送手段と、
前記加熱領域に設けられ、前記被処理基板に対して熱を供給する加熱源と、
前記加熱源と前記搬送路との間に開閉自在に設けられ、開状態において前記加熱源から輻射される輻射熱が前記被処理基板に対して供給されるようにし、閉状態において前記加熱源から輻射される輻射熱が前記被処理基板に対して実質的に供給されないように遮蔽する遮蔽手段とを備え、
前記遮蔽手段は、出口側遮蔽手段を含み、
前記出口側遮蔽手段は、前記加熱領域の一部の領域を遮蔽するものであり、前記加熱領域の出口部分に設けられている、熱処理装置。 - 前記出口側遮蔽手段は、前記被処理基板の前端部が前記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から前記被処理基板の全体が前記加熱領域から搬出されるまでの間、前記被処理基板を遮蔽する、請求項3または4に記載の熱処理装置。
- 前記遮蔽手段は、前記搬送路の上方および下方に対を成して設置され、
これら対を成して設置された遮蔽手段が同時に開閉する、請求項1から5のいずれかに記載の熱処理装置。 - 前記遮蔽手段は、前記被処理基板の搬送方向と平行な方向に移動可能なように設けられた遮蔽板からなる、請求項1から6のいずれかに記載の熱処理装置。
- 前記遮蔽板は、前記被処理基板の搬送方向と平行な方向に独立してスライド移動可能な複数の分割体にて構成され、
前記複数の分割体が個々にスライド移動することにより、前記遮蔽手段が前記開状態と前記閉状態とをとるように構成されている、請求項7に記載の熱処理装置。 - 前記遮蔽手段は、回動可能に設けられた遮蔽板からなる、請求項1から6のいずれかに記載の熱処理装置。
- 前記遮蔽板は、前記閉状態において、前記加熱源から前記搬送路上を移動する前記被処理基板に対する熱の供給方向と交差する方向に延在して位置し、前記開状態において、前記加熱源から前記搬送路上を移動する前記被処理基板に対する熱の供給方向と平行な方向に延在して位置する、請求項9に記載の熱処理装置。
- 前記遮蔽板は、独立して回動可能な複数の分割体にて構成され、
前記複数の分割体が個々に回動することにより、前記遮蔽手段が前記開状態と前記閉状態とをとるように構成されている、請求項9または10に記載の熱処理装置。 - 加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、前記加熱領域において加熱源を用いて前記被処理基板に対して熱処理を行なう熱処理方法であって、
前記被処理基板を前記搬送路上において連続的に搬送し、
前記被処理基板が前記加熱領域に搬入される際に、前記加熱領域の一部の領域である入口部分において、前記被処理基板が前記加熱領域に搬入される時点から前記被処理基板の全体が前記加熱領域に搬入されるまでの間、前記加熱源からの輻射熱が前記被処理基板に実質的に供給されないように遮蔽する状態とし、前記被処理基板の全体が前記加熱領域に搬入された時点で、前記加熱源からの輻射熱が前記被処理基板の全体に対して供給される状態とすることを特徴とする、熱処理方法。 - 前記被処理基板が前記加熱領域から搬出される際に、前記加熱領域の一部の領域である出口部分において、前記被処理基板の前端部が前記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から前記被処理基板の全体が前記加熱領域から搬出されるまでの間、前記加熱源からの輻射熱が前記被処理基板に実質的に供給されないように遮蔽する状態とすることを特徴とする、請求項12に記載の熱処理方法。
- 加熱領域を通過するように設けられた搬送路上において被処理基板を搬送しつつ、前記加熱領域において加熱源を用いて前記被処理基板に対して熱処理を行なう熱処理方法であって、
前記被処理基板を前記搬送路上において連続的に搬送し、
前記被処理基板が前記加熱領域から搬出される際に、前記加熱領域の一部の領域である出口部分において、前記被処理基板の前端部が前記加熱領域の内部の所定位置に達した時点から前記被処理基板の全体が前記加熱領域から搬出されるまでの間、前記加熱源からの輻射熱が前記被処理基板に実質的に供給されないように遮蔽する状態とすることを特徴とする、熱処理方法。
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