JP4675084B2 - 超薄形状のmemsマイクロホン及びマイクロスピーカ - Google Patents
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Description
Claims (31)
- MEMSデバイスを作製するプロセスであって、
少なくとも幾つかのデバイスはマイクロ加工メッシュを有しているような複数のデバイスを支持する基板の厚さを減らすことと、
作製プロセスの少なくとも一部では、基板の一方の側にキャリアウェハを取り付けて、作製ステップを基板の他方の側から行うことと、
それら複数のマイクロ加工メッシュを解放することと、
を含む改善がなされたプロセス。 - 基板の後側にキャリアウェハを取り付けることと、
基板の上側から複数のデバイスの作製を完了することと、
複数のデバイスの作製を完了した後、複数のデバイスを個々に分離することと、
を含む改善がなされた、請求項1に記載のプロセス。 - 複数のデバイスの作製を完了することには、解放された複数のマイクロ加工メッシュが配置される領域の少なくとも幾つかの領域において、基板を貫通する複数の通気孔を作る工程が含まれる、請求項2に記載のプロセス。
- 複数のデバイスの分離は、複数のマイクロ加工メッシュの解放とほぼ同時に行われる、請求項3に記載のプロセス。
- キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む、請求項4に記載のプロセス。
- 複数のデバイスの分離は、複数の通気孔の作製とほぼ同時に行われる、請求項3に記載のプロセス。
- キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む、請求項6に記載のプロセス。
- 複数の通気孔を作る工程は、複数のマイクロ加工メッシュの解放後に行われる、請求項3に記載のプロセス。
- 複数の通気孔を作る工程は、複数のマイクロ加工メッシュの解放と同時に行われる、請求項3に記載のプロセス。
- 複数の通気孔を作る工程は、複数のマイクロ加工メッシュをエッチマスクとして用いる、請求項3に記載のプロセス。
- 複数のデバイスの作製を完了することには、複数のマイクロ加工メッシュの幾つかの少なくとも一部分をエッチマスクとして用いて、基板に複数のパイロット穴を形成する工程が含まれており、
複数のマイクロ加工メッシュを解放することには、複数のマイクロ加工メッシュ付近の基板の一部分を取り除く工程と、複数のパイロット穴を大きくすることで、複数のマイクロ加工メッシュの解放とほぼ同時に複数の通気孔を作る工程とが含まれている、請求項2に記載のプロセス。 - 複数のパイロット穴の形成には異方性エッチングが用いられて、複数のマイクロ加工メッシュの解放及び複数の通気孔の作製には等方性エッチングが用いられる、請求項11に記載のプロセス。
- 基板の後側に第1キャリアウェハを取り付ける工程と、
複数のマイクロ加工メッシュを形成及び解放する工程と、
基板の上側に第2キャリアウェハを取り付けて、基板の後側から第1キャリアウェハを取り除く工程と、
基板の後側より複数の通気孔を作る工程と、
複数のデバイスを個々に分離する工程と、
を含む改善がなされた、請求項1に記載のプロセス。 - 複数のデバイスの分離は、複数のマイクロ加工メッシュの形成とほぼ同時に行われる、請求項13に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを分離する工程の後に第2キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む、請求項14に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを分離する工程は、基板をダイシングする工程を含む、請求項13に記載のプロセス。
- 基板をダイシングする工程の後に第2キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む、請求項16に記載のプロセス。
- 基板の後側に第1キャリアウェハを取り付ける工程と、
複数のマイクロ加工メッシュを形成する工程と、
基板の上側に第2キャリアウェハを取り付けて、基板の後側から第1キャリアウェハを取り除く工程と、
基板の後側より複数の通気孔を作る工程と、
基板の後側に第3キャリアウェハを取り付けて、基板の上側から第2キャリアウェハを取り除く工程と、
複数のマイクロ加工メッシュを解放する工程と、
複数のデバイスを個々に分離する工程と、
を含む改善がなされた、請求項1に記載のプロセス。 - 基板の後側に第1キャリアウェハを取り付ける工程と、
レジストにパターンを形成して複数のマイクロ加工メッシュを規定する工程と、
基板の上側に第2キャリアウェハを取り付けて、基板の後側から第1キャリアウェハを取り除く工程と、
基板の後側より複数の通気孔を作る工程と、
基板の後側に第3キャリアウェハを取り付けて、基板の上側から第2キャリアウェハを取り除く工程と、
複数のマイクロ加工メッシュを形成及び解放する工程と、
複数のデバイスを個々に分離する工程と、
を含む改善がなされた、請求項1に記載のプロセス。 - 複数のデバイスを分離する工程は、複数のマイクロ加工メッシュの解放とほぼ同時に行われる、請求項18又は19に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを分離する工程の後に第2キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む 、請求項20に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを分離する工程は、基板をダイシングする工程を含む、請求項18又は19に記載のプロセス。
- 基板をダイシングする工程の後に第3キャリアウェハを取り除く工程をさらに含む、請求項22に記載のプロセス。
- 基板の後側にキャリアウェハを取り付けて、基板の上側よりプロセスステップを行うことを可能にすること、
基板の上側にキャリアウェハを取り付けて、基板の後側からキャリアウェハを取り除いて、基板の後側よりプロセスステップを行うことを可能にすること、
とを含む改善がさらになされた、請求項1に記載のプロセス。 - 基板の上側から幾つかのプロセスステップが行われ、
基板の上側にキャリアウェハを取り付けること、
基板の厚さを減らすこと、
基板の後側よりプロセスステップを行うこと、
とを含む改善がさらになされた、請求項1に記載のプロセス。 - さらに、基板の後側にキャリアウェハを取り付けて、基板の上側からキャリアウェハを取り除いて、基板の上側よりプロセスステップを行う工程を含む、請求項25に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを個々に分離する工程をさらに含む、請求項26に記載のプロセス。
- 基板の後側よりプロセスステップを行う工程は、複数の通気孔を形成する工程を含む、請求項26に記載のプロセス。
- 基板の上側よりプロセスステップを行う工程は、複数のマイクロ加工メッシュを形成及び解放する工程を含む、請求項26に記載のプロセス。
- 複数のデバイスを個々に分離する工程をさらに含む、請求項29に記載のプロセス。
- MEMSデバイスを作製するプロセスにおいて、
少なくとも幾つかのデバイスはマイクロ加工メッシュを有しているような複数のデバイスを支持する基板の厚さを減らすこと、
基板の第1側に取り付けられたキャリアウェハを、少なくとも幾つかのプロセスステップが基板の第2側より行われている間に利用すること、
基板の第2側に取り付けられたキャリアウェハを、少なくとも幾つかのプロセスステップが基板の第1側より行われている間に利用すること、
それら複数のマイクロ加工メッシュは、基板の第2側又は第1側の何れかから実行されたプロセスステップの1つの結果として解放されること、
とを含む改善がなされたプロセス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/701,860 US6936524B2 (en) | 2003-11-05 | 2003-11-05 | Ultrathin form factor MEMS microphones and microspeakers |
US10/800,470 US20050095814A1 (en) | 2003-11-05 | 2004-03-15 | Ultrathin form factor MEMS microphones and microspeakers |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005161516A JP2005161516A (ja) | 2005-06-23 |
JP2005161516A5 JP2005161516A5 (ja) | 2007-11-22 |
JP4675084B2 true JP4675084B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=34437423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004311920A Expired - Fee Related JP4675084B2 (ja) | 2003-11-05 | 2004-10-27 | 超薄形状のmemsマイクロホン及びマイクロスピーカ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050095814A1 (ja) |
EP (1) | EP1529753B1 (ja) |
JP (1) | JP4675084B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101857866B1 (ko) * | 2015-08-18 | 2018-05-14 | 인피니언 테크놀로지스 아게 | 캐리어를 처리하는 방법 및 그래핀 층을 전사하는 방법 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080212807A1 (en) * | 2005-06-08 | 2008-09-04 | General Mems Corporation | Micromachined Acoustic Transducers |
US7439093B2 (en) | 2005-09-16 | 2008-10-21 | Dalsa Semiconductor Inc. | Method of making a MEMS device containing a cavity with isotropic etch followed by anisotropic etch |
JP2007103595A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Tokyo Electron Ltd | 半導体チップ切出し方法および半導体チップ |
US8043950B2 (en) | 2005-10-26 | 2011-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP4997439B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2012-08-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 圧電素子及びmemsデバイスの製造方法 |
ATE471635T1 (de) * | 2006-03-30 | 2010-07-15 | Sonion Mems As | Akustischer einchip-mems-wandler und herstellungsverfahren |
FR2899572B1 (fr) | 2006-04-05 | 2008-09-05 | Commissariat Energie Atomique | Protection de cavites debouchant sur une face d'un element microstructure |
US7845229B2 (en) | 2006-08-11 | 2010-12-07 | Rohm Co., Ltd. | Acceleration sensor |
DE102007019647A1 (de) | 2007-04-26 | 2008-10-30 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements mit Auffüllschicht und Maskenschicht |
US8367471B2 (en) * | 2007-06-15 | 2013-02-05 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor assemblies, stacked semiconductor devices, and methods of manufacturing semiconductor assemblies and stacked semiconductor devices |
US8798291B2 (en) | 2008-09-19 | 2014-08-05 | United Microelectronics Corp. | Structure of MEMS electroacoustic transducer and fabricating method thereof |
CN101870450B (zh) * | 2009-04-22 | 2014-04-16 | 昆山西钛微电子科技有限公司 | 微机电系统芯片穿透硅通孔封装技术制作流程 |
CN101870448B (zh) * | 2009-04-22 | 2014-03-19 | 昆山西钛微电子科技有限公司 | 微机电系统芯片穿透硅通孔封装技术的制备工艺 |
CN101870449B (zh) * | 2009-04-22 | 2014-03-19 | 昆山西钛微电子科技有限公司 | 晶圆级微机电系统芯片封装技术的多层线路制作工艺 |
EP2256084B1 (en) * | 2009-05-27 | 2012-07-11 | Nxp B.V. | Method of manufacturing a MEMS element |
DE102010000888B4 (de) * | 2010-01-14 | 2019-03-28 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Ausbilden von Aussparungen in einem Halbleiterbauelement und mit dem Verfahren hergestelltes Bauelement |
TWI430424B (zh) * | 2011-03-18 | 2014-03-11 | Pixart Imaging Inc | 微機電系統聲壓感測元件及其製作方法 |
US9402138B2 (en) | 2012-10-12 | 2016-07-26 | Infineon Technologies Ag | MEMS device and method of manufacturing a MEMS device |
ITTO20130247A1 (it) * | 2013-03-26 | 2014-09-27 | St Microelectronics Srl | Metodo di incapsulamento di un dispositivo trasduttore mems e dispositivo trasduttore mems incapsulato |
US9857229B1 (en) * | 2015-06-24 | 2018-01-02 | MP High Tech Solutions Pty Ltd | Fabrication method for micromechanical sensors |
FR3045028B1 (fr) * | 2015-12-11 | 2018-01-05 | Tronic's Microsystems | Procede de fabrication d'un dispositif micro electromecanique et dispositif correspondant |
US9884758B2 (en) | 2016-01-15 | 2018-02-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Selective nitride outgassing process for MEMS cavity pressure control |
US10160639B2 (en) | 2016-06-27 | 2018-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor structure for MEMS Device |
US10131541B2 (en) * | 2016-07-21 | 2018-11-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | MEMS devices having tethering structures |
KR101995228B1 (ko) * | 2017-07-14 | 2019-07-02 | 엑센도 주식회사 | 멤스 웨이퍼의 쏘잉 방법 |
US11358858B2 (en) | 2020-01-24 | 2022-06-14 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing thereof |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04181136A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-29 | Nippondenso Co Ltd | 圧力検出器およびその製造方法 |
JP2000315678A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Mitsubishi Electric Corp | デバイスの製造方法 |
JP2001007346A (ja) * | 1999-04-19 | 2001-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | 外力検知センサの製造方法 |
JP2001518246A (ja) * | 1997-02-25 | 2001-10-09 | ノウルズ エレクトロニクス,インコーポレイティド | 小型シリコンコンデンサマイクロフォン |
JP2002222961A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-09 | Murata Mfg Co Ltd | 真空容器の製造方法 |
US20020197873A1 (en) * | 2001-06-25 | 2002-12-26 | Bruce Polson | Method for improved die release of a semiconductor device from a wafer |
JP2004223710A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Akustica Inc | 基板上に構造物を形成して音響接続するプロセス |
JP2006506237A (ja) * | 2002-11-14 | 2006-02-23 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 集積構造体およびその製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US349618A (en) | 1886-09-21 | Lantern | ||
US6927786B2 (en) * | 1997-07-15 | 2005-08-09 | Silverbrook Research Pty Ltd | Ink jet nozzle with thermally operable linear expansion actuation mechanism |
US6071750A (en) * | 1997-07-15 | 2000-06-06 | Silverbrook Research Pty Ltd | Method of manufacture of a paddle type ink jet printer |
US6829131B1 (en) * | 1999-09-13 | 2004-12-07 | Carnegie Mellon University | MEMS digital-to-acoustic transducer with error cancellation |
CN1427749A (zh) * | 2000-04-17 | 2003-07-02 | 宾夕法尼亚州研究基金会 | 淀积的薄膜以及它们在分离层和牺牲层应用中的使用 |
US6602427B1 (en) * | 2000-08-28 | 2003-08-05 | Xiang Zheng Tu | Micromachined optical mechanical modulator based transmitter/receiver module |
DE10065686C2 (de) * | 2000-12-29 | 2002-11-14 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Handhabung eines dünnen Halbleiterwafers oder Substrats |
US20020115263A1 (en) * | 2001-02-16 | 2002-08-22 | Worth Thomas Michael | Method and related apparatus of processing a substrate |
DE10122845C2 (de) * | 2001-05-11 | 2003-04-03 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Trennen einer Verbindung zwischen einem scheibenförmigen Gegenstand und einem Trägerwafer |
JP2003086539A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US6573156B1 (en) * | 2001-12-13 | 2003-06-03 | Omm, Inc. | Low defect method for die singulation and for structural support for handling thin film devices |
US6709948B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-03-23 | Texas Instruments Incorporated | Process for manufacturing a two-axis mirror |
US6624003B1 (en) * | 2002-02-06 | 2003-09-23 | Teravicta Technologies, Inc. | Integrated MEMS device and package |
US7203393B2 (en) * | 2002-03-08 | 2007-04-10 | Movaz Networks, Inc. | MEMS micro mirrors driven by electrodes fabricated on another substrate |
US20040063237A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-04-01 | Chang-Han Yun | Fabricating complex micro-electromechanical systems using a dummy handling substrate |
US6964882B2 (en) * | 2002-09-27 | 2005-11-15 | Analog Devices, Inc. | Fabricating complex micro-electromechanical systems using a flip bonding technique |
US6933163B2 (en) * | 2002-09-27 | 2005-08-23 | Analog Devices, Inc. | Fabricating integrated micro-electromechanical systems using an intermediate electrode layer |
DE10246053A1 (de) * | 2002-10-02 | 2004-04-15 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Substratchip |
US6943448B2 (en) * | 2003-01-23 | 2005-09-13 | Akustica, Inc. | Multi-metal layer MEMS structure and process for making the same |
US7089635B2 (en) * | 2003-02-25 | 2006-08-15 | Palo Alto Research Center, Incorporated | Methods to make piezoelectric ceramic thick film arrays and elements |
US6936524B2 (en) * | 2003-11-05 | 2005-08-30 | Akustica, Inc. | Ultrathin form factor MEMS microphones and microspeakers |
-
2004
- 2004-03-15 US US10/800,470 patent/US20050095814A1/en not_active Abandoned
- 2004-10-19 EP EP04077867.2A patent/EP1529753B1/en not_active Not-in-force
- 2004-10-27 JP JP2004311920A patent/JP4675084B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04181136A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-29 | Nippondenso Co Ltd | 圧力検出器およびその製造方法 |
JP2001518246A (ja) * | 1997-02-25 | 2001-10-09 | ノウルズ エレクトロニクス,インコーポレイティド | 小型シリコンコンデンサマイクロフォン |
JP2001007346A (ja) * | 1999-04-19 | 2001-01-12 | Murata Mfg Co Ltd | 外力検知センサの製造方法 |
JP2000315678A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Mitsubishi Electric Corp | デバイスの製造方法 |
JP2002222961A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-09 | Murata Mfg Co Ltd | 真空容器の製造方法 |
US20020197873A1 (en) * | 2001-06-25 | 2002-12-26 | Bruce Polson | Method for improved die release of a semiconductor device from a wafer |
JP2006506237A (ja) * | 2002-11-14 | 2006-02-23 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 集積構造体およびその製造方法 |
JP2004223710A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Akustica Inc | 基板上に構造物を形成して音響接続するプロセス |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101857866B1 (ko) * | 2015-08-18 | 2018-05-14 | 인피니언 테크놀로지스 아게 | 캐리어를 처리하는 방법 및 그래핀 층을 전사하는 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050095814A1 (en) | 2005-05-05 |
EP1529753B1 (en) | 2017-09-13 |
JP2005161516A (ja) | 2005-06-23 |
EP1529753A2 (en) | 2005-05-11 |
EP1529753A3 (en) | 2006-01-25 |
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---|---|---|
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US6936524B2 (en) | Ultrathin form factor MEMS microphones and microspeakers | |
JP4672984B2 (ja) | 基板上に構造物を形成して音響接続するプロセス | |
EP1996507B1 (en) | Method for fabricating a mems microphone | |
US8129803B2 (en) | Micromachined microphone and multisensor and method for producing same | |
US10384934B2 (en) | MEMS device and method of manufacturing a MEMS device | |
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US8685776B2 (en) | Wafer level packaged MEMS device | |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
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A621 | Written request for application examination |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140204 Year of fee payment: 3 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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