JP4674792B2 - 静電チャック - Google Patents
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Description
本実施形態のプラズマ処理装置10は、例えば図1に示すように、高真空を保持し得るチャンバー11と、このチャンバー11内に配置され且つ被吸着基板(例えば、ウエハ)Wを載置する載置体12と、この載置体12をチャンバー11から電気的に絶縁する絶縁体13とを備え、チャンバー11に排気管14Aを介して接続された真空排気系14によって所定の真空度を保持したチャンバー11内でウエハWに対して所定のプラズマ処理を施すように構成されている。
16A セラミック誘電体
16C 突起部
16D 第1の環状突起部
16E 第2の環状突起部
16H 第1のガス供給口
16I 第2のガス供給口
Claims (7)
- 静電気力を使用して被吸着基板を吸着する静電チャックであって、
上記静電チャックは、
上記被吸着基板と接触する複数の突起部を有し且つ上記突起部が所定の粒径を有する結晶粒子を含むセラミック誘電体によって形成されていると共に、上記複数の突起部の上記被吸着基板との接触面を、プラズマによるドライクリーニングによって表面処理することにより上記粒径に依存して最終的に安定する一定の表面粗度に形成してなり、且つ、
上記セラミック誘電体が酸化アルミニウムを主成分とするものであり、
上記所定の粒径が1〜2μmであり、
上記接触面の表面粗度がRa0.2〜0.3μmである
ことを特徴とする静電チャック。 - 上記セラミック誘電体は、炭化珪素を含むことを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 上記突起部の硬度を、ヴィッカース硬度でHv2000以上に設定したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の静電チャック。
- 上記複数の突起部の上記被吸着基板の単位面積当たりの接触面積比率を、15%以下に設定したことを特徴する請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の静電チャック。
- 上記突起部を、直径が0.5mm以下の円柱状の突起として形成したことを特徴とする請求項4に記載の静電チャック。
- 上記複数の突起部間の距離を、1mm以下に設定したことを特徴とする請求項4または請求項5に記載の静電チャック。
- 上記突起部の高さを、30μm以上に設定したことを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれか1項に記載の静電チャック。
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