JP4622764B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
図6及び図7は、本発明の実施の形態1におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図8及び図9は、本発明の実施の形態2におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
202 ガス供給装置
203 排気装置
204 調圧弁
205 プラズマ源
206 高周波電源
207 プラズマ
208 ターゲット
209 冷却プレート
210 トレイ
211 粘着シート
212 基板
213 ガス供給装置
214 冷却プレート
215 圧力計
216 圧力調整弁
218 リング
Claims (3)
- 真空室内にプロセスガスを供給するとともに排気し、前記真空室内に配置されたフレキシブル基板を保持するトレイに対向して配置されたプラズマ源に電力を印加することで、前記真空室内にプラズマを発生させ前記基板を処理するプラズマ処理方法において、
前記トレイはその表面に着脱可能な粘着シートを有し、前記粘着性シートの凸部の面積は前記粘着性シート全体の20%以上50%以下であり、かつ、粘着性シートの凸部と凹部の高さの差が5μm以上300μm以下であり、
前記基板の裏面の圧力をモニタリングし、前記基板の裏面の圧力が一定圧力なるまでの期間において、基板裏面の圧力が最大値を示し、降下し始めた時点から、前記基板と前記トレイとの間に形成された空間に熱伝導性気体を送り込みながら排気することで、前記基板を処理すること
を特徴するプラズマ処理方法。 - 前記基板の周囲を熱伝導性気体の圧力とほぼ同等の単位面積当たりの重さのリングで押さえるようにしたこと
を特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。 - 前記粘着性シートの硬度がJIS K 6253による硬さ試験方法において、20〜60であること
を特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理方法。
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