JP4672924B2 - 吸着パッド洗浄装置及び該装置を用いた吸着パッド洗浄方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエーハを研削する研削装置のごとき加工装置において、半導体ウエーハのような被加工物を吸着搬送する吸着パッドの吸着面を洗浄するのに好適な、洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
表面にLSI等のチップが多数個形成された半導体ウエーハは、個々のチップに分割される前に可能な限り薄くするために、研削装置によって裏面が研削される。この研削装置は、半導体ウエーハを吸引保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された半導体ウエーハを研削する研削手段と、研削された半導体ウエーハを吸着パッドにより吸引保持し搬出する搬送手段とを備えている。吸着パッドの吸着面は、多孔質のセラミックスパッドにより形成され、吸引源に連結されており、半導体ウエーハは真空吸着される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上述したとおりの形態の吸着パッドを有した搬送手段には、次のとおりの解決すべき問題がある。
【0004】
(1)半導体ウエーハの割れ:
研削が終了した半導体ウエーハをチャックテーブルから吸着パッドにより吸引保持し搬出する際に、吸着された半導体ウエーハが割れるという問題がある。特に携帯電話、パソコン、スマートカードなどの小形化、軽量化のためにより薄く研削される半導体ウエーハにおいて深刻な問題になっており、ウエーハを薄くする上での障害になっている。本発明者による研究では、この割れ問題の原因として、半導体ウエーハを研削する際に発生した研削屑などの異物が吸着パッドの吸着面に吸引され付着して、半導体ウエーハを吸着したときに突出した異物がウエーハを局部的に押圧し破損させることが確認された。
【0005】
(2)洗浄が困難:
上述の割れ問題を除くために、半導体ウエーハを吸着する前に、吸着面に付着した研削屑などの異物をブラシにより洗浄除去している。しかしながらこの異物の除去は、それが吸着面に強固に付着あるいは食い込んでいる場合、ブラシでは完全に洗浄除去するのが難しい。
【0006】
(3)次工程へ異物の持込み:
さらに、吸着面に付着した異物が半導体ウエーハに転写して、次工程へ持ち込まれる可能性がある。
【0007】
本発明は上記事実に鑑みてなされたもので、その技術的課題は、被加工物を吸着搬送するための吸着パッドの吸着面に、付着し、あるいは食い込んだ異物を、容易に洗浄除去することができるようにした、吸着パッド洗浄装置及び洗浄方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、上記技術的課題を解決する吸着パッド洗浄装置として、被加工物を吸着搬送するための吸着パッドの吸着面を洗浄する装置であって、該吸着面を洗浄するための円柱状の洗浄ブラシと、該吸着面を研削するための研削面を有した研削板と、該洗浄ブラシを回転させる回転駆動手段と、該研削板を該研削面の延在する方向に揺動させる揺動駆動手段と、該研削板をその研削面と直交する方向に移動させる移動手段と、該洗浄ブラシ及び該研削板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備え、該洗浄ブラシと研削板とは実質上平行に並べられ、該洗浄液供給手段がそれぞれの間及びそれぞれの外側に配設され、該移動手段は、該研削板を該洗浄ブラシの外周よりも上方に位置付ける作用位置と、下方に位置付ける非作用位置の間で移動させ、該研削板を該非作用位置に位置付けた状態では該吸着面を該洗浄ブラシを用いて洗浄し、該研削板を該作用位置に位置付けた状態では該吸着面を該研削板を用いて研削洗浄する、ことを特徴とする吸着パッド洗浄装置が提供される。
【0009】
そして、洗浄ブラシと研削板とによって、被加工物を吸着搬送するための吸着パッドの吸着面に付着し、あるいは食い込んだ異物を洗浄除去する。
【0010】
好適実施形態においては、該洗浄ブラシに並行して備えられ該回転駆動手段により洗浄ブラシとは逆方向に回転し洗浄ブラシを洗浄するブラシ洗浄ブラシを備えている。そして、該研削板が該洗浄ブラシと実質上平行に並べて矩形の平板状に形成されたオイルストーンにより形成されている。該吸着パッドは、吸引装置及び洗浄液供給装置に切換自在に連結され、洗浄液供給装置との連結によりその吸着面から洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段を備えている。
【0011】
本発明においては、上記技術的課題を解決する洗浄方法として、該吸着パッド洗浄装置を用い、吸着パッドの吸着面を、洗浄液を供給し、洗浄ブラシにより洗浄するブラシ洗浄工程と、研削板により研削洗浄する研削洗浄工程とからなる、ことを特徴とする吸着パッド洗浄方法が提供される。
【0012】
そして、吸着パッドの吸着面を、洗浄ブラシによるブラシ洗浄工程と、研削板による研削洗浄工程とによって洗浄する。
【0013】
好適実施形態においては、該吸着パッドにより被加工物を吸着搬送する搬送経路において、被加工物を搬送した後の次の被加工物を吸着する前の空荷状態の吸着パッドを、該洗浄装置上を通過させ洗浄する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、先ず本発明に従って構成された吸着パッド洗浄装置について、好適実施形態を図示している添付図面を参照して、さらに詳細に説明する。
【0015】
図1を参照して、この吸着パッド洗浄装置が用いられる加工装置の典型例である半導体ウエーハの研削装置について説明する。全体を番号2で示す研削装置は、装置ハウジング4の一端に立設した支持板6に、一対の案内レール8、8を介して荒研削ユニット10、並びに一対の案内レール12、12を介して仕上研削ユニット14を備えている。装置ハウジング4の上面には3個のチャックテーブル16を有したターンテーブル18を備え、チャックテーブル16は上方に開口した円形状の凹部に多孔質のセラミック板からなる吸着保持チャック16aを備えている。
【0016】
チャックテーブル16には、搬入搬出域において、搬送手段22により被加工物である半導体ウエーハが前工程部20から搬入載置され吸着保持される。そしてターンテーブル18を矢印方向に回転させることにより、チャックテーブル16は荒研削加工域、仕上研削加工域を移動し加工液が供給されながら研削加工される。加工された半導体ウエーハは、搬入搬出域において吸着パッドを有した搬送手段24により次工程部26へ搬出される。
【0017】
図1とともに図2を参照して、搬送手段24について説明する。搬送手段24は、装置ハウジング4上に矢印Yで示す水平方向に軸線Zを中心に揺動自在に取付けられたアーム部28と、アーム部28の先端に取付けられた円盤状の吸着パッド30とを備えている。搬送手段24の揺動作動は、装置ハウジング4に備えられた揺動制御手段(図示していない)により制御される。吸着パッド30は、下方に開口した円形状の凹部に多孔質のセラミック板により形成された吸着板30aを有し、吸着板30aによって吸着面Sが形成されている。吸着パッド30は、アーム部28にスプリング32を介して、吸着面Sに直交する上下方向を弾性的に移動自在にして取付けられている。吸着パッド30の凹部は、アーム部28を通して装置ハウジング4に備えられた吸引装置34及び洗浄液供給装置36に、それぞれ開閉弁34a、36aを介して切換自在に連結されている。
【0018】
開閉弁34aを開け、開閉弁36aを閉じて吸着パッド30を吸引装置34に連結すると、吸着面Sに吸引力が生成され、半導体ウエーハ38が吸着される。開閉弁34aを閉じあるいは吸引装置34を止めると、吸引力がなくなり半導体ウエーハ38は吸着面Sから離される。この開閉弁34aを閉じ、他方の開閉弁36aを開けると、多孔質の吸着面Sから洗浄液が噴出される。かくして、吸着面Sから洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段40が形成される。
【0019】
研削加工された半導体ウエーハ38は、搬送手段24によってターンテーブル18上の搬入搬出域において、チャックテーブル16から矢印Yの搬送経路を通り次工程部26へ搬送される。この搬送経路Yの途中の装置ハウジング4上に吸着パッド洗浄装置42が配設されている。
【0020】
図3を参照して吸着パッド洗浄装置42について説明する。吸着パッド洗浄装置42は、外周にブラシ44aが植毛された円柱状の洗浄ブラシ44と、研削面Kを有した矩形平板状の研削板46と、洗浄ブラシ44を回転させる回転駆動手段48と、研削板46を研削面Kの延在する方向(矢印Vで示す)に揺動させる揺動駆動手段50と、洗浄ブラシ44及び研削板46に洗浄液を供給する洗浄液供給手段52とを備えている。洗浄ブラシ44及び研削板46は実質上平行に並べて配設されている。洗浄液供給手段52は、パイプ材により形成された噴射ノズル52aを3個備えている。噴射ノズル52aは、その長さを洗浄ブラシ44及び研削板46の長さと同等あるいはそれ以上に形成され、洗浄液供給装置36からの洗浄液を噴射させる複数個の穴52bを備え、洗浄ブラシ44及び研削板46の間、及びそれぞれの外側に設置されている
【0021】
上述の洗浄ブラシ44、研削板46、回転駆動手段48、揺動駆動手段50、噴射ノズル52aなどは、基台54上にまとめられユニットになっている。吸着パッド洗浄装置42はまた、洗浄ブラシ44を洗浄するための、ブラシ洗浄ブラシ56を洗浄ブラシ44に並行して備えている。ブラシ洗浄ブラシ56は、洗浄ブラシ44と実質上同一に、円柱径を小さくして形成されている。
【0022】
図3とともに図4を参照して説明すると、円柱状の洗浄ブラシ44及びブラシ洗浄ブラシ56は、それぞれの両端部が基台54に回転自在に支持されている。洗浄ブラシ44及びブラシ洗浄ブラシ56の一端側の基台54には、回転駆動手段48が電動モーター48a及び減速機48bを有して備えられ、その出力軸がブラシ洗浄ブラシ56に連結されている。ブラシ洗浄ブラシ56の他端にはギア56aが取付けられており、このギア56aは中間ギア49を介して洗浄ブラシ44の一端に取付けられたギア44bに噛み合っている。したがって、洗浄ブラシ44は回転駆動手段48により駆動されるとともに、図4に矢印で示すように洗浄ブラシ44とブラシ洗浄ブラシ56とは互いに逆の方向に回転するので、洗浄ブラシ44はブラシ洗浄ブラシ56によって効果的に洗浄される。洗浄ブラシ44は回転駆動手段48により例えば200RPMの速度で回転される。
【0023】
図3とともに図5を参照して説明すると、研削板46は、研削面Kが平坦な矩形の平板状に形成され、揺動駆動手段50に移動手段58を介し連結された基板60に取付けられている(揺動駆動手段50及び移動手段58については後に詳述する)。研削面Kには格子状に研削溝46aが刻まれている。研削板46は、いわゆる油砥石であるオイルストーン、あるいはセラミックスなどにより形成されている。本発明者による種々の材料を用いた吸着パッドの洗浄性研究では、オイルストーンが良好な結果を示した。
【0024】
揺動駆動手段50は、基台54に固定された揺動駆動源であるエアピストン50aと、その出力軸に連結され基台54上に揺動自在に取付けられた揺動板50bとを備えている。この揺動板50bに、研削板46を研削面Kに直交する方向に移動させる移動手段58としてのエアシリンダ58aがその本体を取付けて立設されている。エアシリンダ58の出力端は、研削板46が取付けられる基板60に自在継手58bを介して取付けられている。揺動駆動手段50は、例えば毎分200サイクルの速さで研削板46を矢印V方向に揺動させる。移動手段58は、エアシリンダ58を伸縮させることにより、研削板46を、洗浄ブラシ44の外周よりも上方に位置付ける作用位置(図5に実線で示す)と、下方に位置付ける非作用位置(図5に二点鎖線で示す)の間で移動させる。自在継手58bは、研削板46の研削面Kを吸着パッド30の吸着面S(図2)の傾きに密着させることができる追従機構を形成している。
【0025】
回転駆動手段48、揺動駆動手段50、移動手段58などは、装置ハウジング4(図1)に備えられた、電源、エア源、制御手段など(いずれも図示していない)に接続されている。
【0026】
次に図1とともに図6を参照して上述の吸着パッド洗浄装置42を用いた洗浄方法について説明する。吸着パッド30の吸着面Sの洗浄は、洗浄液供給手段52の噴射ノズル52aから洗浄液を噴射させた状態で、吸着面Sを洗浄ブラシ44により洗浄する「ブラシ洗浄工程」と、研削板46により研削洗浄する「研削洗浄工程」とにより遂行される。「ブラシ洗浄工程」は、回転する(例えば前述の200RPMで回転する)洗浄ブラシ44に、吸着面Sを当接させ、吸着パッド30を円柱状の洗浄ブラシ44と略直交する方向に移動させ遂行される。「研削洗浄工程」は、揺動する(例えば前述の毎分200サイクルで揺動する)研削板46を、移動手段58により作用位置にし、研削面Kに吸着面Sを当接させながら、研削板46の延在方向と略直交する方向に移動させ遂行される。
【0027】
より具体的には、吸着パッド30により被加工物を繰り返し吸着搬送する搬送経路Y(図1)において、吸着パッド30が被加工物をチャックテーブル16から次工程部26に搬送した後の、次の被加工物をチャックテーブル16から吸着する前の空荷状態において、吸着パッド30を洗浄装置42上を通過させるときに行われる。洗浄は往複工程で行われ、洗浄ブラシ44による「ブラシ洗浄工程」を、例えば矢印R(図6)で示す往路において研削板46を移動手段58(図5)により非作用位置に位置付けて遂行する。そして、研削板46による「研削洗浄工程」を、矢印Lで示す復路において研削板46を移動手段58により作用位置に位置付けて遂行する。本発明者の研究によれば、被加工物としての半導体ウエーハを吸引する吸着パッド30においては、片道約20秒の通過時間で洗浄を適切に遂行することができた。
【0028】
上述したとおりの吸着パッド洗浄装置42及び洗浄方法の作用について説明する。
【0029】
(1)吸着パッドの吸着面の確実、容易な洗浄:
吸着パッド30の吸着面Sを、回転する洗浄ブラシ44により洗浄するとともに、強固に付着した研削屑などの異物を揺動する研削板46により削ぎ落とすように研削洗浄するので、吸着面Sは確実、容易に洗浄される。
【0030】
(2)吸着される被加工物の割れ防止:
吸着パッド30の吸着面Sに付着した研削屑などの異物が確実に洗浄除去されるので、異物による半導体ウエーハの割れが防止される。そして、半導体ウエーハを薄くする上での障害が除かれるので、ウエーハをさらに薄くすることが可能になる。
【0031】
(3)吸着面を正常に維持:
研削板46が平坦に形成され、また研削面Kが吸着面Sの傾きに追従するよう取付けられているので、吸着面Sを正常な平坦に保つことができる。
【0032】
(4)コンパクトな洗浄装置:
吸着パッド洗浄装置42は基台54上にコンパクトにまとめられているので、研削装置2など加工装置への設置が容易である。また、保守も容易である。
【0033】
(5)吸着パッドによる搬送経路上での洗浄:
コンパクトにまとめられた吸着パッド洗浄装置42を、吸着パッド30の搬送経路Y上に設けることにより、搬送工程の途中の、被加工物を吸着し搬送した後の、次の被加工物を吸着する前に、吸着パッド30の吸着面Sを洗浄することができ、研削屑などの異物に起因した半導体ウエーハのような被加工物の割れが皆無になる。
【0034】
(6)次工程へ異物の持込み防止:
吸着面Sから被加工物に研削屑などの異物の転写がなくなるので、次工程への異物の持込みが防止される。
【0035】
(7)吸着パッドからの洗浄液噴出:
吸着パッド30の吸着面Sから洗浄液を噴出できるので、これによっても吸着面Sは洗浄される。
【0036】
【発明の効果】
本発明によれば、被加工物を吸着搬送するための吸着パッドの吸着面に、付着し、あるいは食い込んだ異物を、容易に洗浄除去することができるようにした、吸着パッド洗浄装置及び洗浄方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って構成された吸着パッド洗浄装置を備えた、半導体ウエーハの研削装置の斜視図。
【図2】図1のA−A矢印方向に見て示した、吸着パッドを有する搬送手段の断面図。
【図3】図1に示す吸着パッド洗浄装置の拡大斜視図。
【図4】図3のB矢印方向に見て示した回転駆動手段の構成説明図。
【図5】図3のC−C矢印方向に見て示した、研削板の揺動駆動手段及び移動手段の部分の断面図。
【図6】本発明に従って構成された吸着パッド洗浄装置による洗浄方法を説明する図。
【符号の説明】
2:研削装置
24:搬送手段
30:吸着パッド
38:半導体ウエーハ(被加工物)
40:洗浄液噴出手段
42:吸着パッド洗浄装置
44:洗浄ブラシ
46:研削板
48:回転駆動手段
50:揺動駆動手段
52:洗浄液供給手段
56:ブラシ洗浄ブラシ
58:移動手段
K:研削面
S:吸着面
Y:搬送経路
Claims (6)
- 被加工物を吸着搬送するための吸着パッドの吸着面を洗浄する装置であって、
該吸着面を洗浄するための円柱状の洗浄ブラシと、該吸着面を研削するための研削面を有した研削板と、該洗浄ブラシを回転させる回転駆動手段と、該研削板を該研削面の延在する方向に揺動させる揺動駆動手段と、該研削板をその研削面と直交する方向に移動させる移動手段と、該洗浄ブラシ及び該研削板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備え、
該洗浄ブラシと研削板とは実質上平行に並べられ、該洗浄液供給手段がそれぞれの間及びそれぞれの外側に配設され、
該移動手段は、該研削板を該洗浄ブラシの外周よりも上方に位置付ける作用位置と、下方に位置付ける非作用位置の間で移動させ、
該研削板を該非作用位置に位置付けた状態では該吸着面を該洗浄ブラシを用いて洗浄し、該研削板を該作用位置に位置付けた状態では該吸着面を該研削板を用いて研削洗浄する、ことを特徴とする吸着パッド洗浄装置。 - 該洗浄ブラシに並行して備えられ該回転駆動手段により洗浄ブラシとは逆方向に回転し洗浄ブラシを洗浄するブラシ洗浄ブラシを備えている、請求項1記載の吸着パッド洗浄装置。
- 該研削板が該洗浄ブラシと実質上平行に並べて矩形の平板状に形成されたオイルストーンにより形成されている、請求項1又は2記載の吸着パッド洗浄装置。
- 該吸着パッドは、吸引装置及び洗浄液供給装置に切換自在に連結され、洗浄液供給装置との連結によりその吸着面から洗浄液を噴出させる洗浄液噴出手段を備えている、請求項1から3までのいずれかに記載の吸着パッド洗浄装置。
- 請求項1から4までのいずれかに記載の吸着パッド洗浄装置を用いた洗浄方法であって、吸着パッドの吸着面を、洗浄液を供給し、洗浄ブラシにより洗浄するブラシ洗浄工程と、研削板により研削洗浄する研削洗浄工程とからなる、ことを特徴とする吸着パッド洗浄方法。
- 該吸着パッドにより被加工物を吸着搬送する搬送経路において、被加工物を搬送した後の次の被加工物を吸着する前の空荷状態の吸着パッドを、該洗浄装置上を通過させ洗浄する、請求項5記載の吸着パッド洗浄方法。
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