JP4668088B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、半導体基板や液晶ガラス基板等の薄板状基板(以下、「基板」と称する)に対して、予め定められた一連の処理を連続して行う基板処理装置に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus for continuously performing a predetermined series of processing on a thin plate substrate (hereinafter referred to as “substrate”) such as a semiconductor substrate or a liquid crystal glass substrate.

従来から、プラズマディスプレイ等の平板ディスプレイを洗浄する装置として、下記特許文献1に示される装置が提案されている。この洗浄装置では、エキシマ紫外線照射装置、ブラシ、高流速シャワー、エアナイフが基板搬送方向に並設されて各処理を連続して行い、これら各処理部の間がエアカーテンで仕切られた構成が採用されている。この洗浄装置によれば、各処理部間を仕切るエアカーテンが、各処理部間に生じ得る相互干渉を排除するため、各処理部を近接して配設することができ、装置の設置面積を小さくすることができる。
特開2002−172369号公報
Conventionally, as an apparatus for cleaning a flat display such as a plasma display, an apparatus shown in Patent Document 1 below has been proposed. In this cleaning device, an excimer ultraviolet irradiation device, a brush, a high flow rate shower, and an air knife are arranged in parallel in the substrate transport direction to perform each process continuously, and the configuration in which these processing parts are partitioned by an air curtain is adopted. Has been. According to this cleaning apparatus, the air curtain that partitions the processing units can be disposed close to each other in order to eliminate mutual interference that may occur between the processing units. Can be small.
JP 2002-172369 A

しかしながら、上記特許文献1に示された洗浄装置のように、上記各処理部間をエアカーテンで仕切る構成を採用する場合、カーテン形成のために大量のエアを供給しなければならず大容量排気設備が必要になり、設備コスト及びランニングコストが高くなるという問題がある。また、基板表面を物理的な力を利用してウェット洗浄するツールは、高性能化するほど基板表面に作用するエネルギーが高くなり、処理時に発生するミスト発生量が増加するが、このように高性能なウェット洗浄ツールを用いる場合は、エアカーテンによって得られるシール効果よりも更に高いシール効果が要求される。   However, when adopting a configuration in which the processing units are partitioned by an air curtain as in the cleaning device disclosed in Patent Document 1, a large amount of air must be supplied to form the curtain. There is a problem that equipment is required and equipment costs and running costs are high. In addition, the higher the performance of a tool that wet cleans the substrate surface using physical force, the higher the energy acting on the substrate surface, and the amount of mist generated during processing increases. When a high-performance wet cleaning tool is used, a higher sealing effect than that obtained by an air curtain is required.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、コストを低減しつつ、シール効果を更に高めた基板処理装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that further increases the sealing effect while reducing costs.

本発明の請求項1に記載の発明は、基板にドライ処理を施すドライ処理部と、前記ドライ処理部に対して並設され、前記基板に液処理を施す複数の液処理ツールを有する液処理部と、前記ドライ処理部から前記液処理部の各液処理ツールにかけて基板を相対移動させる移動手段と、前記ドライ処理部と前記液処理部との間における、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、前記ドライ処理部側と前記液処理部側とに仕切る第1流体カーテンを形成するための第1カーテン形成手段と、前記液処理部内における各液処理ツール間の少なくとも一つにおける、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、基板移動方向上流側と下流側に仕切る第2流体カーテンを形成するための第2カーテン形成手段とを備え、前記第1カーテン形成手段は、前記ドライ処理部及び前記液処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第1流体カーテンとして前記空間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記ドライ処理部側の位置で前記空間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、前記第2カーテン形成手段は、前記第2流体カーテンとして、前記空間を仕切る液カーテンを形成するものである。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a liquid processing unit including a dry processing unit that performs a dry process on a substrate, and a plurality of liquid processing tools that are arranged in parallel to the dry processing unit and perform a liquid process on the substrate. And a moving means for relatively moving the substrate from the dry processing section to each liquid processing tool of the liquid processing section, and a movement path of the substrate by the moving means between the dry processing section and the liquid processing section. In at least one of the first curtain forming means for forming a first fluid curtain for partitioning a space including the dry processing unit side and the liquid processing unit side between each liquid processing tool in the liquid processing unit, said space containing the moving path of the substrate by the moving means, and a second curtain forming means for forming a second fluid curtain for partitioning the substrate moving direction upstream and downstream sides, the first curtain The forming means includes a liquid curtain that is adjacent to each other in the relative movement direction of the substrate with respect to the dry processing unit and the liquid processing unit, and that partitions the space as the first fluid curtain, and is closer to the dry processing unit than the liquid curtain. A liquid curtain forming portion and an air curtain forming portion that respectively form an air curtain that partitions the space at the position, and the second curtain forming means forms a liquid curtain that partitions the space as the second fluid curtain. To do .

この構成によれば、第1カーテン形成手段(エアカーテン形成部)によって形成するエアカーテンでドライ処理部と液処理部との間を仕切り、液処理部内に配置された各液処理ツール間の少なくとも一つを第2カーテン形成手段により液カーテンを形成して仕切ることによって、ドライ処理部に近接する箇所ではエアカーテンによりドライ処理部への水滴浸入確実に防止され、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンによりシール効果が確保されるまた、第1カーテン形成手段(液カーテン形成部)によりドライ処理部と液処理部との間に液カーテンを形成することにより高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりもドライ処理部側に上記エアカーテンを形成するようにしているので、ドライ処理部と液処理部との間を液カーテンにより確実に仕切る一方で、当該液カーテンの水滴がドライ処理部に侵入することを防止することができる。しかも、液処理部の前段階で液カーテンを形成するので、液処理の下準備としての液を基板に供給する役割を持たせて液処理の効率を高めることができ、液処理前に液を供給する別個の機構を設ける必要をなくすことが可能になる。また、エアカーテンの形成は、ドライ処理部の近接箇所のみとして、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量を比較的少なくしたので、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。
According to this configuration, the air curtain formed by the first curtain forming unit (air curtain forming unit) partitions the dry processing unit and the liquid processing unit, and at least between the respective liquid processing tools arranged in the liquid processing unit. by partitioning to form a liquid curtain by the second curtain forming means one, is at a location close to the dry treatment unit water droplets from entering the dry treatment unit is reliably prevented by the air curtain, it is used wet cleaning tools high There sealing effect is ensured by the liquid curtain at the point where high sealing effect is obtained. In addition, a high curtain is obtained by forming a liquid curtain between the dry processing section and the liquid processing section by the first curtain forming means (liquid curtain forming section). Since the air curtain is formed on the part side, the liquid curtain reliably separates the dry processing unit and the liquid processing unit, while preventing water droplets from entering the dry processing unit. can do. In addition, since the liquid curtain is formed in the previous stage of the liquid processing unit, it is possible to increase the efficiency of the liquid processing by having a role of supplying the liquid as a preparation for the liquid processing to the substrate. It is possible to eliminate the need to provide a separate mechanism for supplying. Further, since the air curtain is formed only in the vicinity of the dry processing unit, the air curtain forming equipment and the amount of air used are relatively reduced, so that the cost required for forming the air curtain can be reduced.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記第2カーテン形成手段が、前記基板の有効部領域を含む主面側にのみ設けられているものである。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect , the second curtain forming means is provided only on the main surface side including the effective portion region of the substrate. .

基板の有効部領域を含む主面とは、TFT(Thin Film Transistor)等の素子やカラーフィルタのフィルタエレメントなどが形成される有効部領域を含む主面のことであるが、洗浄時のミストの付着で処理不良が発生するのは当該有効部領域部分であるため、この構成では、当該有効部領域を含む主面に対しては第2カーテン形成手段を設けて、ミスト付着による処理不良発生を確実に防止しつつ、ミスト付着による不具合が問題視されない有効部領域を含まない主面には第2カーテン形成手段を設けないこととして設備コストの低減を図る。
The main surface including the effective area of the substrate is the main surface including the effective area where elements such as TFT (Thin Film Transistor) and filter elements of color filters are formed. Since it is the effective portion region portion where the processing failure occurs due to adhesion, in this configuration, the second curtain forming means is provided on the main surface including the effective portion region so that the processing failure occurs due to mist adhesion. Equipment costs are reduced by preventing the second curtain forming means from being provided on the main surface that does not include an effective area where troubles due to mist are not regarded as a problem while ensuring prevention.

また、請求項に記載の発明は、請求項又はに記載の基板処理装置において、前記第1カーテン形成手段の前記液カーテン形成部及び前記エアカーテン形成部のうち少なくとも一つは、基板の前記移動経路に対して接離可能に構成されているものである。
Further, the invention according to claim 3, in the substrate processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein at least one of the liquid curtain forming unit and the air curtain forming part of the first curtain forming means, the substrate It is comprised so that it can contact / separate with respect to the said movement path | route.

この構成では、必要に応じてカーテン形成部と基板とのギャップを変更することが可能となり、その結果、シール性能を調節することが可能となる。   In this configuration, the gap between the curtain forming portion and the substrate can be changed as necessary, and as a result, the sealing performance can be adjusted.

また、請求項に記載の発明は、請求項に記載の基板処理装置において、接離可能なカーテン形成部、他のカーテン形成部に対して平行移動するものである。
Further, the invention according to claim 4, in the substrate processing apparatus according to claim 3, detachably curtain forming unit is for moving parallel to the other curtain portion.

この構成では、簡単な構成で基板に対してカーテン形成部を接離させることが可能となる。   In this configuration, the curtain forming portion can be brought into contact with and separated from the substrate with a simple configuration.

また、請求項に記載の発明は、請求項1乃至のいずれか一項に記載の基板処理装置おいて、前記第1カーテン形成手段は、前記液処理部側に向かうように前記液カーテン及び前記エアカーテンを形成するものである。
The invention described in Claim 5, Oite substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the first curtain forming means, said liquid curtain so as to be directed to the liquid processing part side And forming the air curtain .

この構成では、第1カーテン形成手段が液処理部側に向かうカーテン及びエアカーテンを形成するので、これらカーテンが発生する気流や液流は液処理部側に向かうことになり、ミストや塵等のドライ処理部への浸入を確実に防止する。
In this configuration, since the first curtain forming means forms the liquid curtain and the air curtain toward the liquid processing unit, the air flow and the liquid flow generated by these curtains are directed toward the liquid processing unit, such as mist and dust. Intrusion into the dry processing part is reliably prevented.

また、請求項に記載の発明は、請求項1乃至のいずれか一項に記載の基板処理装置において、前記ドライ処理部及び前記液処理部は、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して同時に処理が可能となる位置に配設されているものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to any one of the first to fifth aspects , the dry processing section and the liquid processing section are moved by the moving means. The substrate is disposed at a position where processing can be performed simultaneously with respect to the substrate.

この構成によれば、ドライ処理部及び液処理部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にドライ処理部及び液処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。   According to this configuration, since the dry processing unit and the liquid processing unit are arranged at a position where each processing by the dry processing unit and the liquid processing unit can be performed simultaneously on one substrate, each processing is completed in a short time. In addition, the installation area of the substrate processing apparatus can be reduced.

また、請求項に記載の発明は、基板処理装置であって、基板に紫外線を照射する紫外線照射部と、前記基板にブラシ処理を施すブラシ処理部と、前記基板に気体と液体とを含む二流体を供給する二流体供給部と、前記基板の主面を濯ぐリンス部と、前記基板の主面に対して気体を吹き付ける気体吹付部と、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部に対してその順番で基板を相対移動させる移動手段と、前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る第1流体カーテンを形成するための第1カーテン形成手段と、前記ブラシ処理部と前記二流体供給部との間及び前記リンス部と気体吹付部との間をそれぞれ仕切る第2流体カーテンを形成するための第2カーテン形成手段とを少なくとも備え、かつ、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部による各処理を同時に実行するようにされ、前記第1カーテン形成手段は、前記紫外線照射部及び前記ブラシ処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第1流体カーテンとして前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記紫外線照射部側の位置で当該紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、前記第2カーテン形成手段は、前記第2流体カーテンとして液カーテンを形成するものである。
The invention according to claim 7 is a substrate processing apparatus , comprising: an ultraviolet irradiation unit that irradiates the substrate with ultraviolet rays; a brush processing unit that performs brush processing on the substrate; and a gas and a liquid on the substrate. A two-fluid supply unit for supplying two fluids, a rinse unit for rinsing the main surface of the substrate, a gas spraying unit for blowing gas against the main surface of the substrate , the ultraviolet irradiation unit, the brush processing unit, two-fluid supply unit, and a moving means for relatively moving the substrate in that order with respect to the rinsing unit and the gas blowing portion, for forming a first fluid curtain for partitioning between said UV irradiating unit and the brush unit a first curtain forming means, and a second curtain forming means for forming a second fluid curtain for partitioning each between and between the rinse section and the gas blowing portion between said brush section the two-fluid supply unit Less Also provided, and, for one substrate to be moved by said moving means, executes the ultraviolet irradiation unit, the brush unit, the two-fluid supply unit, the processing by the rinsing section and the gas blowing section at the same time The first curtain forming means is adjacent to each other in the relative movement direction of the substrate with respect to the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit, and the ultraviolet irradiation unit and the brush processing are used as the first fluid curtain. A liquid curtain for partitioning the unit and an air curtain for forming an air curtain for partitioning between the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit at a position closer to the ultraviolet irradiation unit than the liquid curtain. The second curtain forming means forms a liquid curtain as the second fluid curtain .

この構成では、紫外線照射部とブラシ処理部との間をエアカーテンで仕切り、少なくともブラシ処理部と二流体供給部との間、及びリンス部と気体吹付部との間を液カーテンで仕切ることによって、ドライ処理が行われる紫外線照射部に近接する箇所ではエアカーテンにより、紫外線照射部への水滴浸入を確実に防止し、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保することができる。また、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで仕切ることで高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりも紫外線照射部側を前記エアカーテンで仕切るようにしているので、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで確実に仕切りながら当該液カーテンの水滴が紫外線照射部に侵入することが防止される。また、エアカーテンの形成は、紫外線照射部の近接箇所のみとして、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量を比較的少なくしたので、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。また、紫外線照射部、ブラシ処理部、二流体供給部、リンス部及び気体吹付部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にこれら各処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
In this configuration, the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit are partitioned by an air curtain, and at least the brush processing unit and the two-fluid supply unit and the rinse unit and the gas spraying unit are partitioned by a liquid curtain. In the vicinity of the UV irradiation part where dry treatment is performed, the air curtain reliably prevents water droplets from entering the UV irradiation part, and the liquid curtain is high in places where a high cleaning effect is required using a wet cleaning tool The sealing effect can be ensured . In addition, since a high sealing property is obtained by partitioning the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit by a liquid curtain, the ultraviolet irradiation unit side is partitioned by the air curtain rather than the liquid curtain. In addition, it is possible to prevent water droplets of the liquid curtain from entering the ultraviolet irradiation unit while reliably partitioning the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit with the liquid curtain. Further, since the air curtain is formed only in the vicinity of the ultraviolet irradiation section, the air curtain forming equipment and the amount of air used are relatively reduced, so that the cost required for forming the air curtain can be reduced. In addition, each processing unit is disposed at a position where each processing by the ultraviolet irradiation unit, the brush processing unit, the two-fluid supply unit, the rinsing unit, and the gas spraying unit can be performed simultaneously on one substrate. Can be completed in a short time, and the installation area of the substrate processing apparatus can be reduced.

請求項1に記載の発明によれば、ドライ処理部に近接する箇所ではエアカーテンを形成して仕切ることで、ドライ処理部への水滴浸入を確実に防止し、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保することができる。しかも、ドライ処理部と液処理部との間を液カーテンで仕切ることで液処理部のミストに対する高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりもドライ処理部側を前記エアカーテンで仕切ることにより当該液カーテンの水滴がドライ処理部に侵入することが防止されるようになているので、液処理部のミストに対する高いシール性を確保しつつドライ処理部への水滴浸入を確実に防止することがきる。しかも、液処理の下準備としての液を基板に供給する役割を液カーテン形成部に持たせて液処理の効率を高めることができ、液処理前に液を供給する別の機構を設ける必要をなくすことが可能になる。また、エアカーテンの形成は、ドライ処理部の近接箇所のみであるため、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量も比較的少なくて足り、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。これにより、カーテン形成のためのコスト低減と、シール効果の向上とを両立させることができる。
According to the first aspect of the present invention, an air curtain is formed and partitioned at a location close to the dry processing unit to reliably prevent water droplets from entering the dry processing unit, and a high wet cleaning tool is used. In places where a sealing effect is required, a high sealing effect can be secured with a liquid curtain. In addition, a high curtain seal against the mist of the liquid processing unit is obtained by partitioning the dry processing unit and the liquid processing unit with a liquid curtain. The partition prevents water droplets in the liquid curtain from entering the dry processing unit, so that the liquid processing unit can reliably enter the dry processing unit while ensuring high sealing performance against the mist. It can be prevented. In addition, the liquid curtain forming section can be given a role of supplying the liquid as a preparation for the liquid processing to the substrate to increase the efficiency of the liquid processing, and it is necessary to provide another mechanism for supplying the liquid before the liquid processing. It becomes possible to lose. In addition, since the air curtain is formed only in the vicinity of the dry processing unit, the air curtain forming equipment and the amount of air used are relatively small, and the cost required for forming the air curtain can be reduced. Thereby, the cost reduction for curtain formation and the improvement of a sealing effect can be made to make compatible.

請求項2に記載の発明によれば、当該有効部領域を含む主面に対しては第2カーテン形成手段を設けてミスト付着による処理不良発生を防止でき、一方、ミスト付着による不具合が問題視されない有効部領域を含まない主面に対しては第2カーテン形成手段を設けないので、設備コストの低減を図ることができる。
According to the second aspect of the present invention, the main surface including the effective area can be provided with the second curtain forming means to prevent the occurrence of processing failure due to mist adhesion, while the problem due to mist adhesion is problematic. Since the second curtain forming means is not provided for the main surface that does not include the effective portion region that is not performed, the equipment cost can be reduced.

請求項に記載の発明によれば、カーテン形成部と基板のギャップを必要に応じて調節することにより、より最適なシール性を達成することが可能となる。
According to the third aspect of the present invention, it is possible to achieve more optimal sealing performance by adjusting the gap between the curtain forming portion and the substrate as necessary.

請求項に記載の発明によれば、簡単な構成でカーテンの状態を良好に保ちつつカーテン形成部を基板に対して接離させることができる。
According to invention of Claim 4 , a curtain formation part can be made to contact / separate with respect to a board | substrate, maintaining the state of a curtain favorable with simple structure.

請求項に記載の発明によれば、第1カーテン形成手段が液処理部側に向かうカーテン及びエアカーテンを形成するので、これらカーテンにより発生する気流や液流は液処理部側に向かうことになり、ミストや塵等のドライ処理部への浸入を確実に防止することができる。
According to the invention described in claim 5 , since the first curtain forming means forms the liquid curtain and the air curtain toward the liquid processing section, the air flow and the liquid flow generated by these curtains are directed toward the liquid processing section. Thus, it is possible to reliably prevent mist and dust from entering the dry processing section.

請求項に記載の発明によれば、ドライ処理部及び液処理部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にドライ処理部及び液処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
According to the invention described in claim 6 , since the dry processing unit and the liquid processing unit are disposed at a position where each processing by the dry processing unit and the liquid processing unit can be performed simultaneously on one substrate, each processing Can be completed in a short time, and the installation area of the substrate processing apparatus can be reduced.

請求項に記載の発明によれば、ウェット洗浄ツールが用いられて高いシール効果が求められる箇所では液カーテンで高いシール効果を確保し、ドライ処理が行われる紫外線照射部に近接する箇所ではエアカーテンにより、紫外線照射部への水滴浸入を確実に防止することができる。また、紫外線照射部とブラシ処理部との間をさらに液カーテンで仕切ることで高いシール性を得るようにした上で、この液カーテンよりも紫外線照射部側を前記エアカーテンで仕切るようにしているので、紫外線照射部とブラシ処理部との間を液カーテンで確実に仕切る一方で、当該液カーテンの水滴が紫外線照射部に侵入することが防止される。また、エアカーテンの形成は、紫外線照射部の近接箇所のみであるため、エアカーテン形成用の設備及びエア使用量も比較的少なくて足り、エアカーテン形成に必要なコストを低減することができる。また、紫外線照射部、ブラシ処理部、二流体供給部、リンス部及び気体吹付部による各処理を一枚の基板に対して同時に実行可能な位置にこれら各処理部を配設するので、各処理を短時間で終了できると共に、当該基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。
According to the seventh aspect of the present invention, a high sealing effect is ensured by a liquid curtain at a location where a high cleaning effect is required by using a wet cleaning tool, and air is provided at a location close to an ultraviolet irradiation unit where dry treatment is performed. The curtain can reliably prevent water droplets from entering the ultraviolet irradiation section. In addition, a high sealing property is obtained by further partitioning the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit with a liquid curtain, and the ultraviolet irradiation unit side is partitioned by the air curtain from the liquid curtain. Therefore, while the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit are reliably partitioned by the liquid curtain, water droplets on the liquid curtain are prevented from entering the ultraviolet irradiation unit. Further, since the air curtain is formed only in the vicinity of the ultraviolet irradiation section, the air curtain forming equipment and the amount of air used are relatively small, and the cost required for forming the air curtain can be reduced. In addition, each processing unit is disposed at a position where each processing by the ultraviolet irradiation unit, the brush processing unit, the two-fluid supply unit, the rinsing unit, and the gas spraying unit can be performed simultaneously on one substrate. Can be completed in a short time, and the installation area of the substrate processing apparatus can be reduced.

以下、本発明の一実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。図1は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を概念的に示した側面図である。基板処理装置1は、装置本体10内に、紫外線照射部11と、ブラシ処理部12、二流体供給部13及びリンス部14からなる洗浄機構120と、気体吹付部15とを備えている。これら紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15は、この順で基板搬送方向Aに並べて配置されている。   Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view conceptually showing an embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention. The substrate processing apparatus 1 includes, in the apparatus main body 10, an ultraviolet irradiation unit 11, a cleaning mechanism 120 including a brush processing unit 12, a two-fluid supply unit 13 and a rinsing unit 14, and a gas spraying unit 15. The ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinse unit 14, and the gas spraying unit 15 are arranged in this order in the substrate transport direction A.

紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15の各部内には、基板を搬送する複数の搬送ローラからなる基板搬送機構(移動手段)16が設けられている。基板搬送機構16をなす搬送ローラは、基板Bの幅方向(図1の基板搬送方向Aに交差する方向)に延びる回転軸に複数のコロが取り付けられてなり、図略のモータ等の駆動源により回転軸と共に回転する。搬送ローラ上に載置された基板Bは、基板搬送方向Aに並べて設けられている複数の搬送ローラによって次々に受け渡し搬送され、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15の順に搬送されていくようになっている。   In each part of the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinsing unit 14, and the gas spraying unit 15, a substrate transport mechanism (moving unit) 16 including a plurality of transport rollers for transporting the substrate is provided. It has been. The transport roller forming the substrate transport mechanism 16 has a plurality of rollers attached to a rotation shaft extending in the width direction of the substrate B (direction intersecting the substrate transport direction A in FIG. 1), and a drive source such as a motor (not shown). To rotate with the rotating shaft. The substrate B placed on the transport roller is successively transferred and transported by a plurality of transport rollers arranged in the substrate transport direction A, and the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinse The part 14 and the gas blowing part 15 are conveyed in this order.

紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15のそれぞれ基板搬送方向上流端となる側壁には、基板通過口となる開口が設けられている。基板Bは、基板通過口付近の搬送ローラが回転駆動されることにより、基板搬送方向上流側の処理部から下流側の処理部に次々に搬送される。なお、上記開口には、開閉自在のシャッタが設けられていてもよい。   Each of the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinsing unit 14, and the gas spraying unit 15 is provided with an opening serving as a substrate passage port on the side wall at the upstream end in the substrate transport direction. The substrate B is successively transferred from the processing unit on the upstream side in the substrate transport direction to the processing unit on the downstream side by rotating the transport roller near the substrate passage opening. The opening may be provided with an openable / closable shutter.

なお、各基板搬送機構16は、上下一対で設けられた搬送ローラにより基板Bを上下から挟持して搬送する機構と、基板Bの裏面のみを搬送ローラで支持して基板Bを搬送する機構とが、各処理部の処理内容に応じて採用されている。   Each of the substrate transport mechanisms 16 includes a mechanism for transporting the substrate B by sandwiching the substrate B from above and below by transport rollers provided in a pair of upper and lower, and a mechanism for transporting the substrate B by supporting only the back surface of the substrate B with the transport rollers Is adopted according to the processing contents of each processing unit.

紫外線照射部(ドライ処理部の一例)11は、紫外線ランプ111から放射される紫外線を基板Bに照射して当該基板Bに付着している有機物を分解除去(ドライ処理の一例)するものである。   The ultraviolet irradiation unit (an example of the dry processing unit) 11 irradiates the substrate B with ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 111 to decompose and remove organic substances adhering to the substrate B (an example of the dry processing). .

洗浄機構(液処理部の一例)120は、紫外線照射部11から搬送されてきた基板Bに対して洗浄処理(液処理の一例)を施すものである。上述したように、洗浄機構120は、ブラシ処理部12、二流体供給部13及びリンス部14(これらはウェット洗浄ツールの一例)からなる。   The cleaning mechanism (an example of a liquid processing unit) 120 performs a cleaning process (an example of a liquid process) on the substrate B transported from the ultraviolet irradiation unit 11. As described above, the cleaning mechanism 120 includes the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, and the rinse unit 14 (these are examples of a wet cleaning tool).

ブラシ処理部12は、基板Bの両主面に当接して揺動することで基板Bの両主面を洗浄する複数の揺動ブラシ121と、これら揺動ブラシ121による基板Bの洗浄前後において、基板Bの両主面に純水からなる洗浄液を供給する上下一対の洗浄液供給ノズル122とを備えている。ブラシ処理部12に導入された基板Bは、各洗浄液供給ノズル122からの洗浄液供給を受け、揺動する上下一対の揺動ブラシ121間を通過することで両主面が洗浄され、比較的大きめのパーティクルが除去される。なお、洗浄液は、純水に限られるものではなく、薬液等であってもよい。   The brush processing unit 12 is in contact with both main surfaces of the substrate B and swings so as to clean both main surfaces of the substrate B, and before and after cleaning the substrate B by the swing brush 121. And a pair of upper and lower cleaning liquid supply nozzles 122 for supplying a cleaning liquid made of pure water to both main surfaces of the substrate B. The substrate B introduced into the brush processing unit 12 receives the cleaning liquid supplied from each cleaning liquid supply nozzle 122 and passes between the pair of swinging upper and lower swinging brushes 121 so that both main surfaces are cleaned and relatively large. Particles are removed. The cleaning liquid is not limited to pure water, and may be a chemical liquid or the like.

二流体供給部13は、純水からなる液体に圧力をかけて霧吹き状に基板に噴射することで液流体と気流体の二流体を噴射して基板Bの主面を洗浄する二流体ノズル131を、基板Bの両主面側に備える。二流体供給部13は、仕上げの洗浄処理を施すものであり、二流体ノズル131からの二流体の噴射により、先の洗浄処理で除去し得なかった比較的小さめのパーティクルを基板Bから取り除く。   The two-fluid supply unit 13 applies a pressure to a liquid made of pure water and sprays the liquid onto the substrate in the form of a mist, thereby spraying two fluids of liquid fluid and gas fluid to clean the main surface of the substrate B. Are provided on both main surface sides of the substrate B. The two-fluid supply unit 13 performs a finishing cleaning process, and removes relatively small particles from the substrate B that could not be removed by the previous cleaning process by jetting two fluids from the two-fluid nozzle 131.

リンス部14は、二流体供給部13を通過後の基板Bの両主面に対して純水からなるリンス液を供給するリンス液供給ノズル141を、基板Bの両主面側に備える。このリンス液供給ノズル141から供給されるリンス液により基板Bの主面上に残存する汚れ及び洗浄液を洗い流すようになっている。なお、リンス液は、純水に限られるものではなく、薬液等であってもよい。   The rinse unit 14 includes rinse liquid supply nozzles 141 that supply a rinse liquid made of pure water to both main surfaces of the substrate B after passing through the two-fluid supply unit 13 on both main surface sides of the substrate B. Dirt and cleaning liquid remaining on the main surface of the substrate B are washed away by the rinse liquid supplied from the rinse liquid supply nozzle 141. The rinse liquid is not limited to pure water, and may be a chemical liquid or the like.

気体吹付部15は、洗浄機構120による洗浄処理後に基板Bの主面上に残留しているリンス液を取り除いて乾燥処理を施すものである。気体吹付部15は、基板搬送路を挟んで上下で対向した一対のエアナイフ151を有している。かかる一対のエアナイフ151は、基板幅方向(基板搬送方向に交差する方向)に延びる細いスリットを有し、このスリットから基板Bの両主面(表裏面)にカーテン状に気体が高圧で吹き付けられることにより、基板Bの両主面に残留したリンス液が取り除かれる。これによって基板Bに対する乾燥処理が完了する。   The gas spraying unit 15 removes the rinsing liquid remaining on the main surface of the substrate B after the cleaning process by the cleaning mechanism 120 and performs a drying process. The gas blowing unit 15 has a pair of air knives 151 facing each other up and down across the substrate transport path. The pair of air knives 151 have thin slits extending in the substrate width direction (direction intersecting the substrate transport direction), and gas is blown from the slits to both main surfaces (front and back surfaces) of the substrate B in a curtain shape at a high pressure. As a result, the rinse liquid remaining on both main surfaces of the substrate B is removed. Thus, the drying process for the substrate B is completed.

紫外線照射部11と洗浄機構120の間には、当該空間を基板Bの搬送方向上流側と下流側に仕切るエアカーテンを形成するエアカーテン形成ノズル(カーテン形成手段の一例)21が、基板Bの両主面に対する位置に設けられている。このエアカーテン形成ノズル21は、基板Bの幅方向に亘って設けられ、同幅方向に延びる空気噴射スリットを有している。エアカーテン形成ノズル21は、空気噴射スリットから、基板Bの主面に対してカーテン状に空気流を噴射することにより、エアカーテン形成ノズル21から基板Bの主面にかけてエアカーテンを形成する。このエアカーテンにより、紫外線照射部11と洗浄機構120の間における、基板搬送機構16による基板Bの搬送経路を含む空間が、基板搬送方向上流側と下流側(すなわち、紫外線照射部11側と洗浄機構120側)とに仕切られる。エアカーテン形成ノズル21は、エアカーテンにより、紫外線照射部11と洗浄機構120との間での気流の行き来を遮断し、洗浄機構120で発生したミスト等が紫外線照射部11に浸入することを防止する。   Between the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism 120, an air curtain forming nozzle (an example of a curtain forming unit) 21 that forms an air curtain that partitions the space into an upstream side and a downstream side in the transport direction of the substrate B is provided on the substrate B. It is provided at a position relative to both main surfaces. The air curtain forming nozzle 21 is provided over the width direction of the substrate B and has an air injection slit extending in the width direction. The air curtain forming nozzle 21 forms an air curtain from the air curtain forming nozzle 21 to the main surface of the substrate B by injecting an air flow in a curtain shape from the air injection slit to the main surface of the substrate B. By this air curtain, the space including the transport path of the substrate B by the substrate transport mechanism 16 between the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism 120 is upstream and downstream in the substrate transport direction (that is, cleaned with the ultraviolet irradiation unit 11 side). And the mechanism 120 side). The air curtain forming nozzle 21 blocks air flow between the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism 120 by the air curtain, and prevents mist generated by the cleaning mechanism 120 from entering the ultraviolet irradiation unit 11. To do.

ブラシ処理部12及び二流体供給部13の間には、当該空間を基板Bの搬送方向上流側と下流側に仕切る液カーテンを形成する液カーテン形成ノズル(液カーテン形成手段)22が設けられている。この液カーテン形成ノズル22は、基板Bの幅方向に亘って設けられ、同幅方向に延びる液吐出スリットを有している。液カーテン形成ノズル22は、基板Bの主面に対してカーテン状に、純水からなる洗浄液を噴射することにより、液カーテン形成ノズル22から基板Bの主面にかけて液カーテンを形成する。なお、液カーテンを形成する洗浄液は純水に限られず、他の洗浄液であってもよい。しかし、液カーテン形成ノズル22の配設位置の直近の下流側に配設されている処理部で用いられる液と同種であることが好ましい。この液カーテンにより、ブラシ処理部12と二流体供給部13の間であって、基板搬送機構16による基板Bの搬送経路を含む空間が、基板搬送方向上流側と下流側とに仕切られる。液カーテン形成ノズル22は、(1)液カーテンにより、ブラシ処理部12と二流体供給部13との間での気流の行き来を遮断し、一方の処理部で発生したミスト等が他方の処理部に浸入することを防止する。また、液カーテン形成ノズル22は、(2)基板の主面上を流れる液を液カーテンで遮り、当該主面上の液が液カーテンの上流側又は下流側の処理部に流出することを防止して、隣り合う各処理部の液同士の干渉により洗浄効果に悪影響を与えることを防止する。   A liquid curtain forming nozzle (liquid curtain forming means) 22 is provided between the brush processing unit 12 and the two-fluid supply unit 13 to form a liquid curtain that divides the space into the upstream side and the downstream side in the transport direction of the substrate B. Yes. The liquid curtain forming nozzle 22 is provided over the width direction of the substrate B and has a liquid discharge slit extending in the width direction. The liquid curtain forming nozzle 22 forms a liquid curtain from the liquid curtain forming nozzle 22 to the main surface of the substrate B by spraying a cleaning liquid made of pure water in a curtain shape on the main surface of the substrate B. Note that the cleaning liquid forming the liquid curtain is not limited to pure water, and may be another cleaning liquid. However, it is preferable that the liquid is the same type as the liquid used in the processing unit disposed on the downstream side closest to the position where the liquid curtain forming nozzle 22 is disposed. By this liquid curtain, a space between the brush processing unit 12 and the two-fluid supply unit 13 and including the substrate B transport path by the substrate transport mechanism 16 is partitioned into an upstream side and a downstream side in the substrate transport direction. The liquid curtain forming nozzle 22 (1) blocks the flow of airflow between the brush processing unit 12 and the two-fluid supply unit 13 by the liquid curtain, and the mist generated in one processing unit is the other processing unit. To prevent intrusion. The liquid curtain forming nozzle 22 (2) blocks the liquid flowing on the main surface of the substrate with the liquid curtain and prevents the liquid on the main surface from flowing out to the processing section on the upstream side or the downstream side of the liquid curtain. Thus, it is possible to prevent the cleaning effect from being adversely affected by the interference between the liquids of the adjacent processing units.

同様に、二流体供給部13とリンス部14との間、リンス部14と気体吹付部15との間にも、リンス液を吐出して液カーテンを形成する液カーテン形成ノズル22が設けられている。この二流体供給部13とリンス部14との間に配設された液カーテン形成ノズル22も、上記(1)(2)に示した作用を発揮する。   Similarly, a liquid curtain forming nozzle 22 is also provided between the two fluid supply unit 13 and the rinse unit 14 and between the rinse unit 14 and the gas spraying unit 15 to discharge the rinse liquid and form a liquid curtain. Yes. The liquid curtain forming nozzle 22 disposed between the two-fluid supply unit 13 and the rinse unit 14 also exhibits the operations shown in the above (1) and (2).

上記のように、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15のそれぞれの間の位置に、液カーテン形成ノズル22を配設して液カーテンを形成することにより、エアカーテンによる場合よりも高いミスト遮断性を確保することで、上記ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15として、基板Bの主面に作用するエネルギーが高くミスト発生量が多い高性能ツールを用いることが可能になる。また、液カーテンの形成のために使用した洗浄液又はリンス液は、図略の排液回収タンクにより回収して再利用することが可能であるため、上記位置にエアカーテン形成部を設置してエアカーテンによりミストを遮断する構成を採用する場合と比較してランニングコストを低減することができる。   As described above, by disposing the liquid curtain forming nozzle 22 at a position between each of the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinsing unit 14, and the gas spraying unit 15 to form a liquid curtain, Ensuring a higher mist blocking property than when using an air curtain, the energy applied to the main surface of the substrate B as the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinsing unit 14, and the gas spraying unit 15 is high. It becomes possible to use a high-performance tool with a large amount of generation. In addition, since the cleaning liquid or rinsing liquid used for forming the liquid curtain can be collected and reused by a waste liquid collection tank (not shown), an air curtain forming section is installed at the above position to The running cost can be reduced as compared with the case where a configuration in which the mist is blocked by the curtain is adopted.

上記各液カーテン形成ノズル22は、基板Bの有効部領域を含む主面側に設けられている。基板Bの有効部領域を含む主面とは、TFT(Thin Film Transistor)等の素子やカラーフィルタのフィルタエレメントなどが形成される有効部領域を含む主面のことであり、図1に示す本実施形態では、基板Bの上面が、基板Bの有効部領域を含む主面である。   Each liquid curtain forming nozzle 22 is provided on the main surface side including the effective part region of the substrate B. The main surface including the effective portion region of the substrate B is a main surface including the effective portion region where an element such as a TFT (Thin Film Transistor) or a filter element of a color filter is formed. In the embodiment, the upper surface of the substrate B is a main surface including the effective portion region of the substrate B.

また、図1に示すように、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15は、基板搬送機構16によって搬送される1枚の基板Bに対して各部の処理を同時に実行できる位置に近接させて配置されている。かかる近接配置は、上記エアカーテン形成ノズル21によって形成されるエアカーテン、及び各液カーテン形成ノズル22によって形成される液カーテンによって、各処理部同士が互いに干渉しない状態となることで実現可能となるものである。   Further, as shown in FIG. 1, the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinse unit 14, and the gas spraying unit 15 are applied to one substrate B transported by the substrate transport mechanism 16. Are arranged close to a position where the processing of each part can be executed simultaneously. Such close arrangement can be realized by the processing of the processing units not interfering with each other by the air curtain formed by the air curtain forming nozzle 21 and the liquid curtain formed by each liquid curtain forming nozzle 22. Is.

次に、エアカーテン形成ノズル21を説明する。図2は、エアカーテン形成ノズル21の概略を示す側面図である。エアカーテン形成ノズル21は、紫外線照射部11と洗浄機構120とを仕切る側壁125に、取付板125aを介して取り付けられている。取付板125aは、その下端部が基板搬送方向Aに向けて傾斜されている。そのため、エアカーテン形成ノズル21の先端部に設けられている空気噴射スリット21aは、基板搬送方向Aに向けられている。エアカーテン形成ノズル21は、上述したように、洗浄機構120で発生したミストの紫外線照射部11への浸入を防止するものであるため、エアナイフほどの高圧力でのエア噴射性能は必要とされない。また、基板Bの裏面側にも、下端部が基板搬送方向Aに向けて傾斜された取付板125aにエアカーテン形成ノズル21が取り付けられている。なお、図2では、エアカーテン形成ノズル21にエアカーテン形成用のエアを供給するエア配管の図示は省略している。   Next, the air curtain forming nozzle 21 will be described. FIG. 2 is a side view schematically showing the air curtain forming nozzle 21. The air curtain forming nozzle 21 is attached to a side wall 125 that partitions the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism 120 via an attachment plate 125a. The attachment plate 125a is inclined at the lower end thereof toward the substrate transport direction A. Therefore, the air ejection slit 21 a provided at the tip of the air curtain forming nozzle 21 is directed in the substrate transport direction A. As described above, since the air curtain forming nozzle 21 prevents the mist generated by the cleaning mechanism 120 from entering the ultraviolet irradiation unit 11, air injection performance at a pressure as high as that of an air knife is not required. Further, the air curtain forming nozzle 21 is also attached to the attachment plate 125 a whose lower end is inclined toward the substrate transport direction A on the back side of the substrate B. In FIG. 2, illustration of an air pipe that supplies air curtain forming air to the air curtain forming nozzle 21 is omitted.

基板Bの両主面側に配設された各エアカーテン形成ノズル21が、基板搬送方向Aに向けてエアを噴射して同方向に向かうエアカーテンを形成することによって、エアカーテン自体が発生させる気流は、基板搬送方向Aの下流側にある洗浄機構120に向かうので、エアカーテンの気流によって運ばれるミスト等が紫外線照射部11に浸入することは確実に防止される。   Each air curtain forming nozzle 21 disposed on both main surfaces of the substrate B ejects air toward the substrate transport direction A to form an air curtain that goes in the same direction, thereby generating the air curtain itself. Since the airflow is directed to the cleaning mechanism 120 on the downstream side in the substrate conveyance direction A, it is reliably prevented that mist or the like carried by the airflow of the air curtain enters the ultraviolet irradiation unit 11.

図3(a)は、エアカーテン形成ノズル21の他の実施形態を示している。この図に示すエアカーテン形成ノズル21は、先端端部が基板搬送方向Aの下流側に向けられた取付板125aの上下両側に、互いに平行な空気噴射スリット21aを備えた2つのノズル(第1、第2エアカーテン形成部)211,212が設けられた構成となっている。   FIG. 3A shows another embodiment of the air curtain forming nozzle 21. The air curtain forming nozzle 21 shown in this figure has two nozzles (first nozzles) having air injection slits 21a parallel to each other on both upper and lower sides of a mounting plate 125a whose front end is directed downstream in the substrate transport direction A. The second air curtain forming part) 211, 212 is provided.

これらノズル211,212のうち下側(上流側)に位置するノズル211(第1ノズル211という)は取付板125aに対して固定的に設けられている。これに対して上側(下流側)に位置するノズル212(第2ノズル212という)は、基板Bの移動経路に対して接近した位置と離間した位置との間で移動可能(接離可能)に構成されている。すなわち取付板125aに対してスライド可能に、具体的にはエアの噴射方向(空気噴射スリット21aに対して直交する方向)に、第1ノズル211に対して平行移動可能に設けられており、これによって同図に示すように両ノズル211,212のノズル先端が並ぶ状態、図3(b)に実線で示すように第2ノズル212が第1ノズル211よりも前方に迫り出す状態、および同図中一点鎖線で示すように第2ノズル212が第1ノズル211よりも後方に引き下がる状態とに亘って第2ノズル212の配置を変更できるように構成されている。   Among these nozzles 211 and 212, a nozzle 211 (referred to as a first nozzle 211) located on the lower side (upstream side) is fixedly provided to the mounting plate 125a. On the other hand, the nozzle 212 (referred to as the second nozzle 212) located on the upper side (downstream side) is movable (contactable / separable) between a position approaching and separating from the movement path of the substrate B. It is configured. That is, it is slidable with respect to the mounting plate 125a, specifically, is provided to be movable in parallel with respect to the first nozzle 211 in the air injection direction (direction orthogonal to the air injection slit 21a). As shown in FIG. 3, the nozzle tips of both nozzles 211 and 212 are aligned, the second nozzle 212 protrudes forward of the first nozzle 211 as shown by the solid line in FIG. As shown by the middle one-dot chain line, the arrangement of the second nozzle 212 can be changed over the state in which the second nozzle 212 is pulled backward from the first nozzle 211.

なお、第2ノズル212は、取付板125aに形成されるフラットな案内面に沿ってスライド可能に支持されており、図示を省略するが、例えば取付板125aにボルトで固定されている。そして、そのボルト孔が長孔とされることにより、この長孔の範囲内で前記スライド方向の任意の位置に第2ノズル212を固定できるようになっている。   The second nozzle 212 is supported so as to be slidable along a flat guide surface formed on the mounting plate 125a. Although not shown, the second nozzle 212 is fixed to the mounting plate 125a with bolts, for example. Then, by making the bolt hole a long hole, the second nozzle 212 can be fixed at an arbitrary position in the sliding direction within the long hole.

このようなエアカーテン形成ノズル21の構成によると、第1、第2のノズル211,212からエアが噴射されて二重のエアカーテンが形成されることによりシール性が向上し、紫外線照射部11へのミスト等の浸入がより確実に防止される。特に、第2ノズル212を第1ノズル211に対してオフセットすることにより、基板Bに作用するエア圧等を微妙に変化させることが可能となり、従って、基板Bの搬送速度等の処理条件に応じたより最適なエアカーテンを形成することができ、その結果、ミスト等の紫外線照射部11への浸入をより確実に防止できるようになる。   According to such a configuration of the air curtain forming nozzle 21, the air is ejected from the first and second nozzles 211 and 212 to form a double air curtain, whereby the sealing performance is improved, and the ultraviolet irradiation unit 11. Intrusion of mist, etc. into the can be prevented more reliably. In particular, by offsetting the second nozzle 212 with respect to the first nozzle 211, it is possible to slightly change the air pressure or the like acting on the substrate B, and accordingly, according to the processing conditions such as the conveyance speed of the substrate B. In addition, a more optimal air curtain can be formed, and as a result, the intrusion of mist or the like into the ultraviolet irradiation unit 11 can be more reliably prevented.

なお、図3に示すエアカーテン形成ノズル21では、第2ノズル212がスライド可能に構成されているが、逆に、取付板125aに対して第1ノズル211だけをスライド可能に設けた構成としてもよい。また、図4に示すように、取付板125aに対して両方のノズル211,212をそれぞれ個別にスライド可能に設けた構成としてもよい。このように両方のノズル211,212をスライド可能にした構成によると、基板Bに対するエア圧等の調節の自由度が向上するため、基板Bの処理条件に応じてよりシール性の高いエアカーテンを形成できるようになるというメリットがある。   In the air curtain forming nozzle 21 shown in FIG. 3, the second nozzle 212 is configured to be slidable, but conversely, only the first nozzle 211 may be slidable with respect to the mounting plate 125a. Good. Moreover, as shown in FIG. 4, it is good also as a structure which provided both the nozzles 211 and 212 with respect to the attachment board 125a so that each could be slid separately. According to the configuration in which both the nozzles 211 and 212 are slidable as described above, the degree of freedom in adjusting the air pressure or the like with respect to the substrate B is improved. There is an advantage that it can be formed.

次に、本発明の他の実施形態を説明する。図5は、カーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。上述した基板処理装置1では、紫外線照射部11と洗浄機構120の間の位置には、エアカーテンを形成するエアカーテン形成ノズル21が設けられているが、これに代えて、エアカーテン及び液カーテンの両方を形成するカーテン形成手段(本発明の第1カーテン形成手段に相当する)23を当該位置に設けるようにしてもよい。なお、この施形態では、前記液カーテン形成ノズル22が本発明の第2カーテン形成手段に相当する。 Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a side view schematically showing the curtain forming nozzle. In the substrate processing apparatus 1 described above, an air curtain forming nozzle 21 that forms an air curtain is provided at a position between the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism 120. Instead, an air curtain and a liquid curtain are provided. The curtain forming means ( corresponding to the first curtain forming means of the present invention ) 23 for forming both of them may be provided at this position. In this embodiment, the liquid curtain forming nozzle 22 corresponds to the second curtain forming means of the present invention.

この実施形態では、先端端部が基板搬送方向Aの下流側に向けられた取付板125aに、上述した液カーテン形成ノズル22と同等の性能を有する液カーテン形成ノズル(液カーテン形成部)231と、上述したエアカーテン形成ノズル21と同等の性能を有するエアカーテン形成ノズル(エアカーテン形成部)232とを有するカーテン形成部23が取り付けられている。液カーテン形成ノズル231は、エアカーテン形成ノズル232よりも基板搬送方向Aにおいて下流側、すなわち、洗浄機構120側に設けられ、エアカーテン形成ノズル232は、液カーテン形成ノズル231と紫外線照射部11との間に配設される。   In this embodiment, a liquid curtain forming nozzle (liquid curtain forming portion) 231 having a performance equivalent to that of the liquid curtain forming nozzle 22 described above is attached to the mounting plate 125a whose front end is directed downstream in the substrate transport direction A. A curtain forming portion 23 having an air curtain forming nozzle (air curtain forming portion) 232 having the same performance as the air curtain forming nozzle 21 described above is attached. The liquid curtain forming nozzle 231 is provided downstream of the air curtain forming nozzle 232 in the substrate transport direction A, that is, on the cleaning mechanism 120 side. The air curtain forming nozzle 232 includes the liquid curtain forming nozzle 231, the ultraviolet irradiation unit 11, and the like. Between the two.

この実施形態の構成では、液カーテン形成ノズル231が形成する液カーテンによって、(1)洗浄機構120が発生させるミストを高いシール性で遮断すると共に、(2)エアカーテン形成部232が形成するエアカーテンによって、洗浄機構120からのミストを更に確実に遮断し、かつ、液カーテン形成ノズル231が形成した液カーテンの水滴等が紫外線照射部11に浸入することを防止する。これにより、紫外線照射部11に水滴等が浸入することを防ぎつつ、洗浄機構120からのミストを更に高いシール性をもって遮断できる。また、洗浄機構120の基板搬送方向Aにおける上流において、基板Bに対して洗浄液を供給して液カーテンを形成するため、洗浄機構120による洗浄前に、その下準備としての洗浄液を基板Bに供給しておくことができ、洗浄処理の効率を高めることができる。   In the configuration of this embodiment, the liquid curtain formed by the liquid curtain forming nozzle 231 (1) blocks the mist generated by the cleaning mechanism 120 with high sealing performance, and (2) air formed by the air curtain forming unit 232. The curtain further reliably blocks mist from the cleaning mechanism 120 and prevents water droplets or the like of the liquid curtain formed by the liquid curtain forming nozzle 231 from entering the ultraviolet irradiation unit 11. Thereby, the mist from the cleaning mechanism 120 can be blocked with higher sealing performance while preventing water droplets or the like from entering the ultraviolet irradiation unit 11. Further, upstream of the cleaning mechanism 120 in the substrate transport direction A, the cleaning liquid is supplied to the substrate B to form a liquid curtain. Therefore, before the cleaning by the cleaning mechanism 120, the cleaning liquid as the preparation is supplied to the substrate B. The efficiency of the cleaning process can be increased.

また、基板Bがカーテン形成部23に差し掛かっている状態で、基板Bの搬送が何らかの事情により停止した場合には、図略の制御部が、エアカーテン形成ノズル232からの空気噴射量を増大させる制御を行うようにしてもよい。例えば、エアカーテン形成ノズル232に空気を供給する供給路を2つ設けておき、各供給路にそれぞれ設けられているバルブを、基板Bが正常に搬送されている場合はいずれか1つの供給路のバルブを開けて当該供給路から空気を供給し、基板Bが停止した場合には、2つの供給路の両方のバルブを開けて2つの供給路から空気を供給して、エアカーテン形成ノズル232に供給する空気量を増やすようにする。   In addition, when the transport of the substrate B is stopped for some reason while the substrate B is approaching the curtain forming unit 23, the control unit (not shown) increases the amount of air injected from the air curtain forming nozzle 232. Control may be performed. For example, two supply paths for supplying air to the air curtain forming nozzle 232 are provided, and each of the supply paths is provided with any one of the supply paths when the substrate B is transported normally. When the substrate B is stopped when the valve is opened and air is supplied from the supply path, both valves of the two supply paths are opened to supply air from the two supply paths, and the air curtain forming nozzle 232 is opened. Increase the amount of air supplied to the

基板Bがカーテン形成部23に差し掛かっている状態で搬送停止すると、基板Bの主面上に存在する液が基板Bと共に下流側に搬送されないことになるので、停止状態の基板Bの主面上を、液が上流側に向かって移動する事態が生じ得る。特に、基板Bを、基板搬送方向に直交する方向に基板Bを傾けた姿勢で搬送している場合は、基板Bの主面上の液が、下側となる基板B側端部に流れ、当該側端部を伝って紫外線照射部11側に進入しやすくなることが考えられる。このような場合に、エアカーテン形成ノズル232からの空気噴射量を増大させ、カーテンの上流側と下流側の遮断性を向上させることで、基板Bの主面上の液が上流側の紫外線照射部11に進入することを確実に防止する。   If transport stops when the substrate B is approaching the curtain forming portion 23, the liquid existing on the main surface of the substrate B will not be transported downstream together with the substrate B. There is a possibility that the liquid moves toward the upstream side. In particular, when the substrate B is transported in a posture in which the substrate B is inclined in a direction orthogonal to the substrate transport direction, the liquid on the main surface of the substrate B flows to the lower end of the substrate B side, It is conceivable that it becomes easier to enter the ultraviolet irradiation unit 11 side through the side end portion. In such a case, the amount of air injected from the air curtain forming nozzle 232 is increased, and the shielding property between the upstream side and the downstream side of the curtain is improved, so that the liquid on the main surface of the substrate B is irradiated with ultraviolet rays on the upstream side. Entering the part 11 is reliably prevented.

上記基板Bが搬送停止されたとして、エアカーテン形成ノズル232からの空気噴射量を増大させるタイミングは、(1)基板Bが洗浄機構120に進入した後の経過時間、又は基板Bが洗浄機構120に進入してから洗浄機構120を搬出されるまでの時間が、図略のタイマによるカウントで予め定められた時間に達した時、或いは、(2)基板搬送方向における紫外線照射部11と洗浄機構120との間、すなわち、カーテン形成部23の近傍に基板検出センサ(光センサ等)を設け、このセンサにより基板Bの存在が検出されている状態が、予め設定した時間継続した時、とすればよい。   Assuming that the transfer of the substrate B is stopped, the timing of increasing the air injection amount from the air curtain forming nozzle 232 is (1) the elapsed time after the substrate B enters the cleaning mechanism 120, or the substrate B is cleaned by the cleaning mechanism 120. When the cleaning mechanism 120 is unloaded from the time when it reaches the predetermined time as counted by a timer (not shown), or (2) the ultraviolet irradiation unit 11 and the cleaning mechanism in the substrate transport direction 120, that is, when a substrate detection sensor (such as an optical sensor) is provided in the vicinity of the curtain forming unit 23 and the presence of the substrate B is detected by this sensor continues for a preset time. That's fine.

なお、図示を省略が、図5に示す上記カーテン形成部23についても、図3,図4に示したエアカーテン形成ノズル21と同様に、液カーテン形成ノズル231およびエアカーテン形成ノズル232の何れか一方側、あるいは両方を取付板125aに対してスライド可能な構成としてもよい。この構成によれば、液カーテン形成ノズル231又はエアカーテン形成ノズル232と基板Bとのギャップ調整を個別に行うことが可能となるので、基板Bの処理条件に応じたよりシール性の高いカーテンを形成することが可能となる。   Although not shown, the curtain forming unit 23 shown in FIG. 5 is either the liquid curtain forming nozzle 231 or the air curtain forming nozzle 232, as with the air curtain forming nozzle 21 shown in FIGS. One side or both may be slidable with respect to the mounting plate 125a. According to this configuration, it is possible to individually adjust the gap between the liquid curtain forming nozzle 231 or the air curtain forming nozzle 232 and the substrate B, so that a curtain having higher sealing properties according to the processing conditions of the substrate B is formed. It becomes possible to do.

ところで、本発明は上記実施の形態の構成に限られず種々の変形が可能である。例えば、上記各実施形態では、基板搬送機構16による基板Bの搬送姿勢を特に限定していないが、基板Bの搬送姿勢は、水平姿勢であっても、傾斜姿勢(例えば、基板搬送方向に直交する方向に基板Bを傾けた姿勢等である。但し、当該傾斜姿勢に限定する趣旨ではない)であっても構わない。   By the way, the present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and various modifications are possible. For example, in each of the above embodiments, the transport posture of the substrate B by the substrate transport mechanism 16 is not particularly limited. However, even if the transport posture of the substrate B is a horizontal posture, it is inclined (for example, orthogonal to the substrate transport direction). For example, a posture in which the substrate B is tilted in the direction in which the substrate B is tilted (however, it is not limited to the tilted posture).

また、上記実施形態では、エアカーテン形成ノズル21及びカーテン形成部23が、基板搬送方向Aの下流側に向かうカーテンを形成するものとしているが、本発明は当該構成に限定されるものではなく、例えば、基板Bの主面に対して他の角度(垂直に近い角度等)でカーテンが形成されるようにしてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the air curtain formation nozzle 21 and the curtain formation part 23 shall form the curtain which goes to the downstream of the board | substrate conveyance direction A, this invention is not limited to the said structure, For example, the curtain may be formed at another angle (an angle close to vertical or the like) with respect to the main surface of the substrate B.

また、上記実施形態では、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15は、基板搬送機構16によって搬送される1枚の基板Bに対して各部の処理を同時に実行できる位置に近接させて配置されているが、本発明は当該構成に限定されるものではなく、例えば、1枚の基板に対して、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15による各処理が別々のタイミングで行われるようにすることも可能である。   In the above embodiment, the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinse unit 14, and the gas spraying unit 15 are provided for each substrate B transported by the substrate transport mechanism 16. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, Each process by the two-fluid supply unit 13, the rinse unit 14, and the gas blowing unit 15 can be performed at different timings.

また、上記実施形態では、基板搬送機構16によって基板Bを、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15の各処理部に対して移動させるようにしているが、これに代えて、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15を移動させる搬送機構を設け、かかる機構により、基板Bに対して、紫外線照射部11、ブラシ処理部12、二流体供給部13、リンス部14及び気体吹付部15が移動する構成を採用してもよい。   Moreover, in the said embodiment, it is made to move the board | substrate B with respect to each process part of the ultraviolet irradiation part 11, the brush process part 12, the two fluid supply part 13, the rinse part 14, and the gas spraying part 15 by the board | substrate conveyance mechanism 16. However, instead of this, a transport mechanism for moving the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinsing unit 14, and the gas spraying unit 15 is provided. In addition, a configuration in which the ultraviolet irradiation unit 11, the brush processing unit 12, the two-fluid supply unit 13, the rinse unit 14, and the gas spraying unit 15 move may be employed.

また、上記実施形態では、液カーテン形成ノズル22が、二流体供給部13及びリンス部14の間に設けられているが、この二流体供給部13及びリンス部14の間に設けられる液カーテン形成ノズル22は、設置を省略することも可能である。   Moreover, in the said embodiment, although the liquid curtain formation nozzle 22 is provided between the two fluid supply part 13 and the rinse part 14, the liquid curtain formation provided between this two fluid supply part 13 and the rinse part 14 is provided. The nozzle 22 can be omitted.

また、上記実施形態では、ドライ処理部を、紫外線照射部11を例にして説明しているが、ドライ処理部は紫外線照射部11に限定されるものではなく、常圧状態でプラズマ化したガスを供給するプラズマ処理部や、オゾンガス供給部等であっても、本発明の適用が可能である。   In the above-described embodiment, the dry processing unit is described by taking the ultraviolet irradiation unit 11 as an example. However, the dry processing unit is not limited to the ultraviolet irradiation unit 11 and is a plasma gasified at normal pressure. The present invention can also be applied to a plasma processing unit, an ozone gas supply unit, and the like.

また、上記実施形態では、洗浄機構120に備えられる処理部として、二流体供給部13を採用しているが、これを、超音波洗浄処理部や、高圧水流(高圧ジェット)処理部等とした場合であっても、本発明の適用が可能である。上記実施形態で示したように、液カーテン形成ノズル22による液カーテンにより、これら処理部と、隣接する他の処理部とを遮断するようにすれば、これらの処理部が発生させる多量のミストを効果的に遮断して隣接する処理部へのミストの浸入を確実に防止することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the two-fluid supply part 13 is employ | adopted as a process part with which the washing | cleaning mechanism 120 is equipped, this was made into the ultrasonic cleaning process part, the high pressure water flow (high pressure jet) process part, etc. Even in this case, the present invention can be applied. As shown in the above embodiment, if the processing unit and the other adjacent processing unit are blocked by the liquid curtain by the liquid curtain forming nozzle 22, a large amount of mist generated by these processing units is generated. It is possible to effectively block and prevent mist from entering the adjacent processing unit.

また、図3,図4に示すエアカーテン形成ノズル21では、ノズル211,212を相対的に平行移動させるように構成されているが、必ずしも平行移動である必要はない。但し、実施形態のように平行移動させる構成によれば、構造的に簡単で、また、エアの噴射方向および位置を一定に保ったままでノズル211,212の配置を変更できるため、簡単な構成で、エアカーテンの状態を良好に保ちつつノズル212等と基板Bとのギャップ調整を行うことができるという利点がある。   3 and 4, the air curtain forming nozzle 21 is configured to relatively translate the nozzles 211 and 212. However, the air curtain forming nozzle 21 does not necessarily need to be translated. However, according to the configuration for parallel movement as in the embodiment, the arrangement is simple, and the arrangement of the nozzles 211 and 212 can be changed while keeping the air injection direction and position constant. There is an advantage that the gap between the nozzle 212 and the substrate B can be adjusted while keeping the air curtain in a good state.

また、図3,図4に示すエアカーテン形成ノズル21は、一対のノズル211,212を有する構成となっているが、勿論、必要に応じて3つ以上のノズルを並べてより多重のエアカーテンを形成するようにしてもよい。   The air curtain forming nozzle 21 shown in FIG. 3 and FIG. 4 has a pair of nozzles 211 and 212. Of course, if necessary, three or more nozzles are arranged to form a multiple air curtain. You may make it form.

本発明に係る基板処理装置の一実施形態を概念的に示した側面図である。1 is a side view conceptually showing an embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention. エアカーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of an air curtain formation nozzle. エアカーテン形成ノズルの他の例を模式的に示す図である((a)は第1ノズルと第2ノズルが並んだ状態、(b)は第1ノズルに対して第2ノズルがオフセットされた状態をそれぞれ示す)。It is a figure which shows the other example of an air curtain formation nozzle typically ((a) is the state in which the 1st nozzle and the 2nd nozzle were located in a line, (b), the 2nd nozzle was offset with respect to the 1st nozzle. Each state). エアカーテン形成ノズルの他の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the other example of an air curtain formation nozzle. カーテン形成ノズルの概略を示す側面図である。It is a side view which shows the outline of a curtain formation nozzle.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板処理装置
11 紫外線照射部
120 洗浄機構
12 ブラシ処理部
13 二流体供給部
14 リンス部
15 気体吹付部
151 エアナイフ
16 基板搬送機構
21 エアカーテン形成ノズル
21a 空気噴射スリット
211 第1ノズル
212 第2ノズル
22 液カーテン形成ノズル
23 カーテン形成部
231 液カーテン形成ノズル
232 エアカーテン形成ノズル
111 紫外線ランプ
125 側壁
125a 取付板
141 リンス液供給ノズル
B 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 11 Ultraviolet irradiation part 120 Cleaning mechanism 12 Brush processing part 13 Two-fluid supply part 14 Rinse part 15 Gas spraying part 151 Air knife 16 Substrate conveyance mechanism 21 Air curtain formation nozzle 21a Air injection slit 211 First nozzle 212 Second nozzle 22 Liquid curtain forming nozzle 23 Curtain forming portion 231 Liquid curtain forming nozzle 232 Air curtain forming nozzle 111 UV lamp 125 Side wall 125a Mounting plate 141 Rinse liquid supply nozzle B Substrate

Claims (7)

基板にドライ処理を施すドライ処理部と、
前記ドライ処理部に対して並設され、前記基板に液処理を施す複数の液処理ツールを有する液処理部と、
前記ドライ処理部から前記液処理部の各液処理ツールにかけて基板を相対移動させる移動手段と、
前記ドライ処理部と前記液処理部との間における、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、前記ドライ処理部側と前記液処理部側とに仕切る第1流体カーテンを形成するための第1カーテン形成手段と、
前記液処理部内における各液処理ツール間の少なくとも一つにおける、前記移動手段による基板の移動経路を含む空間を、基板移動方向上流側と下流側に仕切る第2流体カーテンを形成するための第2カーテン形成手段とを備え
前記第1カーテン形成手段は、前記ドライ処理部及び前記液処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第1流体カーテンとして前記空間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記ドライ処理部側の位置で前記空間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、
前記第2カーテン形成手段は、前記第2流体カーテンとして、前記空間を仕切る液カーテンを形成することを特徴とする基板処理装置。
A dry processing unit for performing dry processing on the substrate;
A liquid processing unit that is provided in parallel with the dry processing unit and has a plurality of liquid processing tools for performing liquid processing on the substrate;
Moving means for relatively moving the substrate from the dry processing unit to each liquid processing tool of the liquid processing unit;
A first fluid curtain is formed between the dry processing unit and the liquid processing unit to divide a space including a substrate moving path by the moving unit into the dry processing unit side and the liquid processing unit side . First curtain forming means;
In at least one of between the liquid processing tools in the liquid processing section, a space including the moving path of the substrate by the moving means, the second to form a second fluid curtain for partitioning the substrate moving direction upstream and downstream Curtain forming means ,
The first curtain forming means includes a liquid curtain that is adjacent to each other in the relative movement direction of the substrate with respect to the dry processing unit and the liquid processing unit, and partitions the space as the first fluid curtain, and the liquid curtain is more than the liquid curtain. A liquid curtain forming part and an air curtain forming part for forming an air curtain for partitioning the space at a position on the dry processing part side,
The substrate processing apparatus, wherein the second curtain forming unit forms a liquid curtain that partitions the space as the second fluid curtain .
前記第2カーテン形成手段が、前記基板の有効部領域を含む主面側にのみ設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the second curtain forming unit is provided only on a main surface side including an effective portion region of the substrate. 前記第1カーテン形成手段の前記液カーテン形成部及び前記エアカーテン形成部のうち少なくとも一つは、基板の前記移動経路に対して接離可能に構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。 At least one of the liquid curtain forming unit and the air curtain forming part of the first curtain forming means, also claim 1, characterized in that it is configured to be separable with respect to the path of movement of the substrate 2. The substrate processing apparatus according to 2. 接離可能なカーテン形成部は、他のカーテン形成部に対して平行移動することを特徴とする請求項に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3 , wherein the contactable / separable curtain forming portion moves in parallel with respect to another curtain forming portion . 前記第1カーテン形成手段は、前記液処理部側に向かうように前記液カーテン及び前記エアカーテンを形成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The first curtain forming means, the substrate processing apparatus according to any one of the liquid processing section and the liquid to face the side curtains and claims 1 to 4 you and forming the air curtain. 前記ドライ処理部及び前記液処理部は、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して同時に処理が可能となる位置に配設されていることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の基板処理装置。 Said dry section and the liquid processing section are all of claims 1 to 5, characterized in that disposed on the same time processing can be located with respect to one substrate to be moved by said moving means the substrate processing apparatus according to an item or. 基板に紫外線を照射する紫外線照射部と、
前記基板にブラシ処理を施すブラシ処理部と、
前記基板に気体と液体とを含む二流体を供給する二流体供給部と、
前記基板の主面を濯ぐリンス部と、
前記基板の主面に対して気体を吹き付ける気体吹付部と、
前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部に対してその順番で基板を相対移動させる移動手段と、
前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る第1流体カーテンを形成するための第1カーテン形成手段と、
前記ブラシ処理部と前記二流体供給部との間及び前記リンス部と気体吹付部との間をそれぞれ仕切る第2流体カーテンを形成するための第2カーテン形成手段とを少なくとも備え、かつ、前記移動手段によって移動される一枚の基板に対して、前記紫外線照射部、前記ブラシ処理部、前記二流体供給部、前記リンス部及び前記気体吹付部による各処理を同時に実行するようにされ、
前記第1カーテン形成手段は、前記紫外線照射部及び前記ブラシ処理部に対する前記基板の相対移動方向に互いに隣接し、かつ、前記第1流体カーテンとして前記紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切る液カーテン及びこの液カーテンよりも前記紫外線照射部側の位置で当該紫外線照射部と前記ブラシ処理部との間を仕切るエアカーテンをそれぞれ形成する液カーテン形成部及びエアカーテン形成部を備えており、
前記第2カーテン形成手段は、前記第2流体カーテンとして液カーテンを形成するものであることを特徴とする基板処理装置。
An ultraviolet irradiation unit for irradiating the substrate with ultraviolet rays;
A brush processing unit that performs brush processing on the substrate;
A two-fluid supply unit for supplying two fluids including a gas and a liquid to the substrate;
A rinse part for rinsing the main surface of the substrate;
A gas blowing part for blowing gas against the main surface of the substrate;
Moving means for relatively moving the substrate in that order with respect to the ultraviolet irradiation unit, the brush processing unit, the two-fluid supply unit, the rinse unit, and the gas spray unit;
First curtain forming means for forming a first fluid curtain that partitions between the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit;
At least a second curtain forming means for forming a second fluid curtain for partitioning between the brush processing unit and the two fluid supply unit and between the rinse unit and the gas spraying unit, and the movement For each substrate moved by the means, the ultraviolet irradiation unit, the brush processing unit, the two-fluid supply unit, the rinsing unit, and the gas spraying unit are simultaneously executed,
The first curtain forming unit is adjacent to each other in the relative movement direction of the substrate with respect to the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit, and is located between the ultraviolet irradiation unit and the brush processing unit as the first fluid curtain. A liquid curtain forming part and an air curtain forming part for forming an air curtain for partitioning between the ultraviolet irradiation part and the brush processing part at a position closer to the ultraviolet irradiation part than the liquid curtain are provided. ,
The substrate processing apparatus, wherein the second curtain forming means forms a liquid curtain as the second fluid curtain .
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