JP4659029B2 - オメガ−ハロアルキルジアルキルシランの製造方法 - Google Patents
オメガ−ハロアルキルジアルキルシランの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4659029B2 JP4659029B2 JP2007515992A JP2007515992A JP4659029B2 JP 4659029 B2 JP4659029 B2 JP 4659029B2 JP 2007515992 A JP2007515992 A JP 2007515992A JP 2007515992 A JP2007515992 A JP 2007515992A JP 4659029 B2 JP4659029 B2 JP 4659029B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hal
- formula
- diiridium
- metal
- residue
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 19
- -1 alkene halide Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 17
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 239000002609 medium Substances 0.000 claims description 10
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 claims description 8
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 5
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N chloro-(3-chloropropyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCCl BJLJNLUARMMMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 4
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 3
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 3
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RMTUBUXFIDQCGU-UHFFFAOYSA-N [Ir].[Ir].C(=C)[Si](O[Si](C)(C)C)(C)C=C Chemical compound [Ir].[Ir].C(=C)[Si](O[Si](C)(C)C)(C)C=C RMTUBUXFIDQCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004063 acid-resistant material Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- VSPLSJCNZPDHCN-UHFFFAOYSA-M carbon monoxide;iridium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Ir].[O+]#[C-].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VSPLSJCNZPDHCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- ZOLLIQAKMYWTBR-RYMQXAEESA-N cyclododecatriene Chemical compound C/1C\C=C\CC\C=C/CC\C=C\1 ZOLLIQAKMYWTBR-RYMQXAEESA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical group 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Hal------(R2R3)Si---(CH2)S---Hal (I)
それは、触媒有効量のヒドロシリル化白金族金属触媒の存在下において、式(II)のシランおよび式(III)のアルケンハロゲン化物を含む反応混合物のヒドロシリル化反応を用いる:
Hal------(R2R3)Si−H (II)
CH=CH-(CH2)S-2Hal (III)
上記式において:
−記号Halは、塩素、臭素およびヨウ素の原子から選択されるハロゲン原子を表し、塩素原子が好ましく、
−記号R2およびR3は、同一であっても異なっていてもよく、各々1〜6までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基、及びフェニル基から選択された一価の炭化水素基を示し、そして、
−sは2〜10の整数を示す。
−触媒金属を吸着する有効量の固体に液体残留物を直接接触させる:またもうひとつの方法としては、加水分解するために液体残留物を水と接触させて水相と有機相を得、そして触媒金属を吸着する有効量の固体を用いて有機相または水相/有機相を一体として処理する;そして
−前記の金属を回収するために、金属と吸着材を分離する。
Si-Hal+H2O→Si-OH+H-Hal
Si-OH+Si-Hal→Si-O-Si+H-HalおよびSi-OH+Si-OH→Si-O-Si+H2O
Hal------(R2R3)Si---(CH2)S---Hal (I)
それは、触媒有効量のヒドロシリル化白金族金属触媒の存在下において、式(II)のシランおよび式(III)のアルケンハロゲン化物を含む反応混合物のヒドロシリル化反応を用いる:
Hal------(R2R3)Si−H (II)
CH=CH-(CH2)S-2Hal (III)
上記式において:
−記号Halは、塩素、臭素およびヨウ素の原子から選択されるハロゲン原子を表し、塩素原子が好ましく、
−記号R2およびR3は、同一であっても異なっていてもよく、各々1〜6までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基、及びフェニル基から選択された一価の炭化水素基を示し、そして、
−sは2〜10の整数を示す。
・反応混合物の蒸留から生じた、触媒白金族金属を含む残留物の制御された加水分解。前記金属は、触媒の原形にあるか、または変化した形にある。当該制御された加水分解は、以下を可能とする特定の手順によって行われる:
a)残留物中の式(I)の生成物のSi−Hal基と水との反応
b)基本的に気相状態で形成されたハロゲン含有酸H−Halの分離、および
c)加水分解性ハロゲンSi−Halを、Halの重量として2%以下の低い含有量で有する触媒金属を含む水媒体の作製。
・次に、どんな吸着性の固体も必要とせず、耐酸性を必要としない普通の装置で行われる触媒製造業者に公知の1以上の従来技術の適用による、前記水媒体からの触媒白金族金属の回収。
[IrCl(CO)(PPh3)2]
[Ir(CO)H(PPh3)3]
[Ir(C8H12)(C5H5N)P(C6H11)3]PF6
[IrCl3]・nH2O
H2[IrCl6]・nH2O
(NH4)2IrCl6
Na2IrCl6
K2IrCl6
KIr(NO)Cl5
[Ir(C8H12)2]+BF4 -
[IrCl(CO)3]n
H2IrCl6
Ir4(CO)12
Ir(CO)2(CH3COCHCOCH3)
Ir(CH3COCHCOCH3)
IrBr3
IrCl3
IrCl4
IrO2
(C6H7)(C8H12)Ir
他のさらに適切なIr−ベースの触媒は、以下の(IV)式のイリジウム複合物の群から選択される:
[Ir(R4)Hal]2 (IV)
式中:
−記号R4は、少なくとも1の炭素=炭素の二重結合および/または少なくとも1の炭素≡炭素の三重結合不飽和炭化水素を含む不飽和炭化水素配位子を示す。これらの不飽和結合は共役でも非共役でもよく、前記配位子は、直鎖または環状(単環または多環)であり、4〜30の炭素原子を有し、1〜8のエチレンおよび/またはアセチレン不飽和を有し、任意に酸素原子および/またはケイ素原子等の1以上のヘテロ原子を含む。
−記号Halは上で定義されている。
・記号R4は、1,3−ブタジエン、1,3−ヘキサジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,3−シクロオクタジエン、1,5−シクロオクタジエン、1,5,9−シクロドデカトリエンおよびノルボルナジエン、ならびに以下の化合物から選択される:
ジ−μ−クロロビス(ジビニルテトラメチルジシロキサン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨードビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨードビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、または
ジ−μ−ヨードビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム。
塩素イオン含有量を2wt%未満に制限する、残留物のコントロールされた加水分解:
120gの水を0.400g/分の流速で、すなわち加水分解性塩素1molにつき、および1分間に0.009molの水を加える。
試験の間中、この温度条件を維持する。ガスの形で放出された塩酸は、循環する水の中に30wt%で希釈されたソーダ蒸気のカラム中に捕捉される。最終的な媒質を回収し、塩素イオンを分析する:最終的含有量は0.13wt%である。
この実施例では、水と加水分解性塩素のモル比は2.96である。
塩素イオン含有量を2wt%未満に制限する、残留物のコントロールされた加水分解:
次に、160gの水を0.5g/分の流速で、すなわち加水分解性塩素1molにつき、および1分間に0.006molの水を加え、1時間この温度条件を維持する。最終的な媒質を回収し、塩素イオンを分析する:最終的含有量は0.30wt%である。
この実施例では、水と加水分解性塩素のモル比は1.97である。
塩素イオン含有量を2wt%未満に制限することが不可能である、残留物の加水分解:
次に、160gの水を5g/分の流速で、すなわち加水分解性塩素1molにつき、および1分間に0.06molの水を加え、1時間この温度条件を維持する。最終的な媒質を回収し、塩素イオンを分析する:最終的含有量は4.30wt%である。
この実施例では、水と加水分解性塩素のモル比は1.97である。
Claims (9)
- 下記式(I)のω−ハロアルキルジアルキルハロシランの製造方法であって、
Hal------(R2R3)Si---(CH2)S---Hal (I)
触媒有効量のヒドロシリル化白金族金属触媒存在下での下記式(II)のシランおよび下記式(III)のアルケンハロゲン化物を含む反応混合物のヒドロシリル化反応を用い、
Hal------(R2R3)Si−H (II)
CH=CH-(CH2)S-2Hal (III)
上記式中、
−記号Halは、塩素、臭素およびヨウ素の原子から選択されるハロゲン原子を表し、
−記号R2およびR3は、同一であっても異なっていてもよく、各々1〜6までの炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基、及びフェニル基から選択された一価の炭化水素基を示し、および、
−sは2〜10の整数を示し、
前記方法は、
ヒドロシリル化反応の最後に、式(I)のシランを分離するための反応混合物の蒸留工程、
前記蒸留により蒸留では分離されなかった少量の式(I)のシラン、副生成物および使用された触媒金属を含む液体残留物が生じ、その残留物からの触媒金属の回収工程を含み、
前記方法は、触媒金属回収のために以下が実行されることを特徴とする:
・反応混合物の蒸留から生じた、触媒白金族金属を含む残留物の制御された加水分解であって、前記金属は、触媒の原形にあるか、または変化した形にあり、当該制御された加水分解は、以下の手順によって行われる:
a)水の量を加水分解性ハロゲン1molあたり1〜5molの範囲で加えることによる、残留物中の式(I)のシランのSi−Hal基と水との反応
b)気相状態で形成されたハロゲン含有酸、H−Halの分離、および
c)加水分解性ハロゲン化合物Si−Halを、Halの重量として2%以下の低い含有量で有する触媒金属を含む水媒体の作製、
・次に、どんな吸着性の固体も必要とせず、耐酸性を必要としない普通の装置で行われる触媒製造業者に公知の1以上の従来技術の適用による、前記水媒体からの触媒白金族金属の回収。 - 前記白金族金属がプラチナ、イリジウム、パラジウム、ルテニウムおよびオスミウムから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記式中sが3であり,前記白金族金属がイリジウムであることを特徴とする、請求項1または2記載の方法。
- 前記触媒が、下記(IV)式に該当することを特徴とする請求項3記載の方法:
[Ir(R4)Hal]2 (IV)
式中:
−記号R4は、少なくとも1の炭素=炭素の二重結合および/または少なくとも1のC≡C三重結合不飽和炭化水素を含む不飽和炭化水素配位子を示し、これらの不飽和結合は共役でも非共役でもよく、前記配位子は、直鎖または環状(単環または多環)であり、4〜30の炭素原子を有し、1〜8のエチレンおよび/またはアセチレン不飽和を有し、任意に1以上のヘテロ原子を含む。 - 前記触媒が以下から選択されることを特徴とする請求項4記載の方法:
ジ−μ−クロロビス(ジビニルテトラメチルジシロキサン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨードビス(η−1,5−ヘキサジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ヨードビス(η−1,5−シクロオクタジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−クロロビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、
ジ−μ−ブロモビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム、または
ジ−μ−ヨードビス(η−2,5−ノルボルナジエン)ジイリジウム。 - 式(I)のシラン、(II)のシランおよび(III)のアルケンハロゲン化物によって形成された反応混合物の総重量に対する前記触媒含有量の金属触媒の重量として計算された値が、30ppmを超えることを特徴とする請求項4または5記載の方法。
- 前記加水分解を、半連続方式で、前記残留物に水を添加し、かつ、媒質中に水が蓄積するのを避け、どの瞬間に形成されたH−Hal酸も水相に溶解しないように水添加速度を調節することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載の方法。
- 形成された前記ハロゲン含有酸の脱気が、形成されたハロゲン化水素H−Hal及び残留物を構成する生成物に対して不活性なガスを用いたストリッピングによって促進されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の方法。
- 式(I)のシランが、3−クロロプロピルジメチルクロロシラン、式(II)のシランが、ジメチルヒドロクロロシラン、式(III)のアルケンハロゲン化物が、塩化アリルであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0406502A FR2871802B1 (fr) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | Procede de preparation d'un omega-halogenoalkyl dialylhalogenosilane |
PCT/FR2005/001469 WO2006003323A1 (fr) | 2004-06-16 | 2005-06-14 | Procede de preparation d'un omega-halogenoalkyl dialkylhalogenosilane |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008502660A JP2008502660A (ja) | 2008-01-31 |
JP2008502660A5 JP2008502660A5 (ja) | 2010-07-08 |
JP4659029B2 true JP4659029B2 (ja) | 2011-03-30 |
Family
ID=34949303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007515992A Expired - Fee Related JP4659029B2 (ja) | 2004-06-16 | 2005-06-14 | オメガ−ハロアルキルジアルキルシランの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7741504B2 (ja) |
EP (1) | EP1756122B1 (ja) |
JP (1) | JP4659029B2 (ja) |
CN (1) | CN1980941A (ja) |
AT (1) | ATE438651T1 (ja) |
DE (1) | DE602005015847D1 (ja) |
FR (1) | FR2871802B1 (ja) |
WO (1) | WO2006003323A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109912636B (zh) * | 2019-04-11 | 2020-04-07 | 苏州金宏气体股份有限公司 | 一种高纯正硅酸乙酯的生产方法 |
WO2024090337A1 (ja) * | 2022-10-25 | 2024-05-02 | 信越化学工業株式会社 | (メタ)アクリロキシ基を有する有機ケイ素化合物の製造方法およびアクリロキシ基を有する有機ケイ素化合物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001322993A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法 |
WO2003048169A1 (fr) * | 2001-12-06 | 2003-06-12 | Rhodia Chimie | aROCEDE D'OBTENTION DE MONOORGANOXYSILANES POLYSULFURES. |
WO2004016628A1 (fr) * | 2002-08-09 | 2004-02-26 | Rhodia Chimie | Procede de preparation d' halogenoalkyldialkylchlorosilane |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10053037C1 (de) * | 2000-10-26 | 2002-01-17 | Consortium Elektrochem Ind | Herstellung von Organosilanen |
-
2004
- 2004-06-16 FR FR0406502A patent/FR2871802B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-14 WO PCT/FR2005/001469 patent/WO2006003323A1/fr active Application Filing
- 2005-06-14 US US11/629,593 patent/US7741504B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-14 DE DE602005015847T patent/DE602005015847D1/de active Active
- 2005-06-14 JP JP2007515992A patent/JP4659029B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-14 EP EP05777214A patent/EP1756122B1/fr not_active Not-in-force
- 2005-06-14 AT AT05777214T patent/ATE438651T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-06-14 CN CNA2005800228996A patent/CN1980941A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001322993A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法 |
WO2003048169A1 (fr) * | 2001-12-06 | 2003-06-12 | Rhodia Chimie | aROCEDE D'OBTENTION DE MONOORGANOXYSILANES POLYSULFURES. |
WO2004016628A1 (fr) * | 2002-08-09 | 2004-02-26 | Rhodia Chimie | Procede de preparation d' halogenoalkyldialkylchlorosilane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2871802A1 (fr) | 2005-12-23 |
EP1756122A1 (fr) | 2007-02-28 |
EP1756122B1 (fr) | 2009-08-05 |
WO2006003323A1 (fr) | 2006-01-12 |
ATE438651T1 (de) | 2009-08-15 |
JP2008502660A (ja) | 2008-01-31 |
US20080287700A1 (en) | 2008-11-20 |
CN1980941A (zh) | 2007-06-13 |
DE602005015847D1 (de) | 2009-09-17 |
FR2871802B1 (fr) | 2006-07-21 |
US7741504B2 (en) | 2010-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5726294B2 (ja) | ジオルガノジハロシランの調製方法 | |
JP5654490B2 (ja) | 高沸点廃棄物の再生プロセス | |
JPH08208838A (ja) | 促進剤として不飽和ケトンを用いたヒドロシリル化法 | |
JP2015536918A (ja) | ハロゲン化シラヒドロカルビレンの調製方法 | |
JP4659029B2 (ja) | オメガ−ハロアルキルジアルキルシランの製造方法 | |
JP3786986B2 (ja) | ベントガス流中の塩化物の回収法 | |
JP6040254B2 (ja) | ジオルガノジハロシランの調製方法 | |
KR20110107349A (ko) | 오가노할로하이드로실란의 제조 공정 | |
JP2014501243A (ja) | ジオルガノジハロシランの製造方法 | |
JP5792828B2 (ja) | トリハロシランを作製する方法 | |
US7307180B2 (en) | Method of preparing halogenoalkyldialkyl chlorosilane | |
EP2032588B1 (en) | Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content | |
KR100517429B1 (ko) | 유기 금속 화학 증착용 액체 전구체를 정제하는데 사용되는 물과 산성수의 용도 | |
JP2005511700A (ja) | ポリスルフィドモノオルガノオキシシランの製造法 | |
JP4120034B2 (ja) | ハロオルガノシラン化合物の製造方法 | |
JP2008502660A5 (ja) | ||
JPH0344079B2 (ja) | ||
JPH02235887A (ja) | アルコキシシラン中の塩素含有物質の除去方法 | |
JP5402808B2 (ja) | ハロシリル化鎖状炭化水素の製造方法 | |
JP2018501231A (ja) | ケイ素含有三元金属間化合物からハロシランを生成する方法 | |
JP2002205995A (ja) | 含フッ素有機ケイ素化合物の製造法 | |
FR2843391A1 (fr) | Procede de preparation d'halogenoalkyldialkylchlorosilane |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100513 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20100513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101214 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101224 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |