JP4649187B2 - 荷電ビーム描画データの作成方法、荷電ビーム描画方法および荷電ビーム描画装置 - Google Patents
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- 試料上の描画領域を、複数のメインフィールド、該複数のメインフィールドよりも下の階層の複数のサブフィールドおよび該複数のサブフィールドよりも下の階層の複数の単位フィールドを含む2階層以上の階層フィールドによって分割し、前記単位フィールドを描画の単位として、前記試料上に荷電ビームを照射して前記描画領域上にパターンを描画するための荷電ビーム描画装置に使用される荷電ビーム描画データの作成方法であって、
前記描画領域上に描画する前記パターンに対応した設計データを、前記複数のメインフィールドに対応した複数の第1の設計データに分割し、前記複数の第1の設計データのそれぞれを前記複数のサブフィールドに対応した複数の第2の設計データに分割し、前記複数の第2の設計データのそれぞれを前記複数の単位フィールドに対応した複数の第3の設計データに分割する工程と、
前記複数の単位フィールドのそれぞれについて、予め決められた寸法に対してのレジスト解像性の良否を評価する工程と、
前記レジスト解像性の良否を評価する工程にて取得された前記レジスト解像性の良否の評価結果に基づいて、前記複数の単位フィールドと前記レジスト解像性の良否とを関連付けたテーブルを作成する工程と、
前記複数の第3の設計データのそれぞれについて、前記予め決められた寸法および前記テーブルに基づいて、前記予め決められた寸法を有し、かつ、前記レジスト解像性が不良である前記単位フィールド内に存在するパターンに対応するデータに該当するか否かを判断する工程と、
前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当すると判断されたものについては、前記レジスト解像性が良である前記単位フィールド内に存在するように座標変換を行った後、第1の描画データに変換し、前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当しないと判断されたものについては、座標変換を行わずに、第2の描画データに変換する工程と
を含むことを特徴とする荷電ビーム描画データの作成方法。 - 試料上の描画領域を、複数のメインフィールド、該複数のメインフィールドよりも下の階層の複数のサブフィールドおよび該複数のサブフィールドよりも下の階層の複数の単位フィールドを含む2階層以上の階層フィールドによって分割し、前記単位フィールドを描画の単位として、前記試料上に荷電ビームを照射して前記描画領域上にパターンを描画するための荷電ビーム描画装置に使用される荷電ビーム描画データの作成方法であって、
前記描画領域上に描画する前記パターンに対応した設計データを、前記複数のメインフィールドに対応した複数の第1の設計データに分割し、前記複数の第1の設計データのそれぞれを前記複数のサブフィールドに対応した複数の第2の設計データに分割し、前記複数の第2の設計データのそれぞれを前記複数の単位フィールドに対応した複数の第3の設計データに分割する工程と、
前記複数の単位フィールドのそれぞれについて、予め決められた寸法に対してのレジスト解像性の良否を評価する工程と、
前記レジスト解像性の良否を評価する工程にて取得された前記レジスト解像性の良否の評価結果に基づいて、前記複数の単位フィールドにおいて前記レジスト解像性が良である単位フィールドと不良である単位フィールドとを規定するテーブルを作成する工程と、
前記複数の第3の設計データのそれぞれについて、前記予め決められた寸法および前記テーブルに基づいて、前記予め決められた寸法を有し、かつ、前記レジスト解像性が不良である前記単位フィールド内に存在するパターンに対応するデータに該当するか否かを判断する工程と、
前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当すると判断されたものについては、前記レジスト解像性が良である前記単位フィールド内に存在するように座標変換を行った後、第1の描画データに変換し、前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当しないと判断されたものについては、座標変換を行わずに、第2の描画データに変換する工程と、
前記第1および第2の描画データを含む描画データを参照し、前記試料上に前記荷電ビームを照射して前記パターンを描画する工程であって、前記複数のメインフィールドの複数のサブフィールドのそれぞれについて、前記単位フィールドを描画の単位として、前記第1の描画データを参照して、前記サブフィールド内のパターンを描画し、かつ、前記サブフィールド内に未描画のパターンがある場合、前記第2の描画データを参照するとともに前記試料を移動させて、または、前記第2の描画データを参照するとともに前記荷電ビームの前記サブフィールド上の偏向位置を調整して、前記サブフィールド内の所望位置に前記未描画パターンを描画する工程と
を含むことを特徴とする荷電ビーム描画方法。 - 前記複数の単位フィールドのそれぞれについて、予め決められた寸法に対してのレジスト解像性の良否を評価する工程は、前記複数の単位フィールドから照射された荷電ビームの形状の評価に基づいてリアルタイムに行うことを特徴とする請求項2に記載の荷電ビーム描画方法。
- 前記階層フィールドは、前記複数のメインフィールド、前記複数のサブフィールドおよび前記複数の単位フィールドとしての分割サブフィールドを含む2階層フィールド、または、前記複数のメインフィールド、前記複数のサブフィールド、該複数のサブフィールドよりも下の層のサブ々フィールドおよび前記複数の単位フィールドとしての分割サブフィールドを含む3階層フィールドであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の荷電ビーム描画データの作成方法。
- 試料上の描画領域を、複数のメインフィールド、該複数のメインフィールドよりも下の階層の複数のサブフィールドおよび該複数のサブフィールドよりも下の階層の複数の単位フィールドを含む2階層以上の階層フィールドによって分割し、前記単位フィールドを描画の単位として、前記試料上に荷電ビームを照射して前記描画領域上にパターンを描画するための荷電ビーム描画装置であって、
前記描画領域上に描画する前記パターンに対応した設計データを、前記複数のメインフィールドに対応した複数の第1の設計データに分割し、前記複数の第1の設計データのそれぞれを前記複数のサブフィールドに対応した複数の第2の設計データに分割し、前記複数の第2の設計データのそれぞれを前記複数の単位フィールドに対応した複数の第3の設計データに分割する分割手段と、
前記複数の単位フィールドのそれぞれについて、予め決められた寸法に対してのレジスト解像性の良否を評価する解像性評価手段と、
前記解像性評価手段にて取得された前記レジスト解像性の良否の評価結果に基づいて、前記複数の単位フィールドと前記レジスト解像性の良否とを関連付けたテーブルを作成するテーブル作成手段と、
前記複数の第3の設計データのそれぞれについて、前記予め決められた寸法および前記テーブルに基づいて、前記予め決められた寸法を有し、かつ、前記レジスト解像性が不良である前記単位フィールド内に存在するパターンに対応するデータに該当するか否かを判断する判断手段と、
前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当すると判断されたものを、前記レジスト解像性が良である前記単位フィールド内に存在するように座標変換する座標変換手段と、
前記座標変換手段により座標変換された前記第3の設計データを第1の描画データに変換する第1のデータ変換手段と、
前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当しないと判断されたものを、前記座標変換手段により座標変換せずに、描画データに変換する第2のデータ変換手段と、
前記第1および第2の描画データを含む描画データを参照し、前記試料上に前記荷電ビームを照射して前記パターンを描画する描画手段であって、前記複数のメインフィールドの複数のサブフィールドのそれぞれについて、前記単位フィールドを描画の単位として、前記第1の描画データを参照して、前記サブフィールド内のパターンを描画し、かつ、前記サブフィールド内に未描画のパターンがある場合、前記第2の描画データを参照するとともに前記試料を移動させて、または、前記第2の描画データを参照するとともに前記荷電ビームの前記サブフィールド上の偏向位置を調整して、前記サブフィールド内の所望位置に前記未描画パターンを描画する描画手段と
を具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。 - 前記解像性評価手段は、前記複数の単位フィールドから照射された荷電ビームの形状の評価に基づいてリアルタイムに行うことを特徴とする請求項5に記載の荷電ビーム描画装置。
- 前記階層フィールドは、前記複数のメインフィールド、前記複数のサブフィールドおよび前記複数の単位フィールドとしての分割サブフィールドを含む2階層フィールド、または、前記複数のメインフィールド、前記複数のサブフィールド、該複数のサブフィールドよりも下の層のサブ々フィールドおよび前記複数の単位フィールドとしての分割サブフィールドを含む3階層フィールドであることを特徴とする請求項5または6に記載の荷電ビーム描画装置。
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