JP4643842B2 - ３，５−ビスアルキルフェノールの製造法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、抗炎症剤、殺虫剤等の製造中間体である３，５−ジイソプロピルフェノール等の製造法及び該化合物の製造に用いられるカルビノール化合物及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
３，５−ジイソプロピルフェノールは、抗炎症薬として知られるピリジン誘導体（ＷＯ９９／２４４０４号公報）及び殺虫剤として知られるカルバメート誘導体（特開昭５１−１１２５１９号公報）等の合成中間体として重要である。
従来、３，５−ジイソプロピルフェノールの製造法としては、下記反応ａ及びｂで示されるように、１，３−ジイソプロピルベンゼンを出発原料として合成する方法が報告されている。
【０００３】
【化９】
【０００４】
（Journal of Organic Chemistry ３６巻 １９３−１９６頁（１９７１年））
【０００５】
【化１０】
【０００６】
（Journal of Organic Chemistry ３２巻 ５８５−５８８頁（１９６７年））
【０００７】
しかし、反応ａによる場合、精製が煩雑でかつ通算収率が低い（約４５％）等の欠点があり、反応ｂにおいては、工程数は２工程と少ないものの、第一工程のアミノ基の導入反応において用いられるトリクロロアミンには毒性や爆発性がある等、安全性上難点があり、また収率も８％と低いという問題もあった。
【０００８】
また、特開昭６１−１５２６３５号公報及び米国特許第２７９００１０明細書には、下記反応ｃに示すように、
【０００９】
【化１１】
【００１０】
１，３，５−トリイソプロピルベンゼンを出発原料として２工程で３，５−ジイソプロピルフェノールを合成する方法が記載されているが、この場合、通算収率は５６％であるものの、中間体として不安定で爆発性且つ毒性を有する過酸化体を経由すること、また、最終物の精製には精密蒸留が必要となる等の問題があり、反応ａ〜ｃの何れの方法も３，５−ジイソプロピルフェノールの大量合成に適するものではなかった。
【００１１】
また、その他の方法として、フェノール体をプロペンでアルキル化する方法も報告されているが（特開昭４６−６０１８号公報、特開昭５４−６１１３１号公報）、反応の選択性が低く低収率であり、更に異性体との分離が難しい問題があり、実用的ではない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、３，５−ビスアルキルフェノールを、短工程で効率よく、安全しかも高純度且つ高収率で得ることができる製造法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、斯かる実状に鑑み、３，５−ビスアルキルフェノールの大量合成に適した製造法について鋭意検討した結果、イソフタル酸エステル誘導体をアルキル化して得られる新規なカルビノール化合物を経由する方法により、２又は３工程で収率よく３，５−ビスアルキルフェノールを製造できることを見出し、本発明を完成した。
【００１４】
すなわち、本発明は、以下の反応式で表されるように、
【００１５】
【化１２】
【００１６】
〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。〕
一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体を金属アルキル化試薬と反応させて一般式（１）で表されるカルビノール化合物とし（工程−１）、次いで、これを加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離すること（工程−２）を特徴とする３，５−ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、上記式中、一般式（１）で表されるカルビノール化合物を提供するものである。
【００１８】
また、本発明は、上記式中、一般式（１）で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離することを特徴とする３，５−ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するものである。
【００１９】
更に、本発明は、上記式中、一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体に金属アルキル化試薬を反応させることを特徴とする、一般式（１）で表されるカルビノール化合物の製造法を提供するものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明において、一般式（１）及び（３）の式中、Ｒ1で示されるアルカリ金属原子としては、リチウム、ナトリウム又はカリウム原子等が好ましく、また、アルカリ土類金属原子は、カルシウム、マグネシウム原子等が好ましい。
【００２１】
Ｒ1で示される水酸基保護基としては、水酸基の金属アルキル化試薬による金属塩形成に由来する溶解性の低下を防ぐ目的で水酸基を保護し、加水素分解又は酸又はアルカリ処理他、周知の方法で脱離するものであれば特に限定されるものではない。
加水素分解により脱離するものとしては、例えばベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等挙げられ、加水素分解によって脱離しないが、酸又はアルカリ処理又はその他の方法によって脱離する基としては、例えばメトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシエトキシメチル基等のアセタール型保護基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等のアルキル基、アリル基等のアルケニル基、プロパルギル基等のアルキニル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のアラルキル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基等のスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等のアシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基等の炭酸エステル基、ｐ−ブロモフェナシル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
このうち加水素分解によって脱離する基を用いることが、カルビノール水酸基の加水素分解と水酸基保護基の脱離が同時に行われるため好ましい。
【００２２】
Ｒ2で示される炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基のうち、炭素数１〜５の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が好ましく、中でもメチル基及びエチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。
また、置換基を有していてもよいフェニル基としては、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基等で１又は２置換されていていもよいフェニル基が挙げられ、例えばフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルチオフェニル基等が挙げられる。
【００２３】
Ｒ3及びＲ4で示される低級アルキル基としては、炭素数１〜７の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基等が挙げられる。このうち、炭素数１〜５のものが好ましく、特にメチル基が好ましい。
【００２４】
Ｒ3及びＲ4で示されるアラルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル部分をもつアラルキル基、具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のフェニル−Ｃ1-3アルキル基が挙げられ、中でもベンジル基が特に好ましい。
【００２５】
Ｒ3及びＲ4で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基の他、メチル基やメトキシキ基等で置換されたフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２６】
以下本発明の製造法の各工程について詳細に説明する。
工程−１
イソフタル酸エステル誘導体（３）を金属アルキル化試薬と反応させることにより、カルビノール化合物（１）を得ることができる。
【００２７】
ここで用いられる金属アルキル化試薬としては、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミド、ペンチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムヨージド等のグリニャール試薬や活性化マグネシウムを用いて調製されたグリニャール試薬、メチルリチウム、ブチルリチウム等の有機金属試薬、更にはサマリウム等の希土類金属原子を用いた、例えばアルキルハライドとヨウ化サマリウムから調製された有機金属試薬が挙げられ、好ましくはメチルマグネシウムブロミドである。
【００２８】
斯かる金属アルキル化試薬は、イソフタル酸エステル誘導体（３）に対して４〜８当量用いることが好ましい。
【００２９】
反応溶媒としては、原料化合物を溶解し、目的化合物の生成を阻害しないものであればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。また、斯かる溶媒には、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホルアミド等の溶解補助溶媒を加えることが好ましい。また三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン、塩化セリウム、トリメチルアルミニウム等のルイス酸、更にはアルキルアンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニウムブロミドを添加してもよい。
反応は、湿気を遮断し、窒素又はアルゴン雰囲気下０〜１００℃で、３〜１０時間行えばよく、特にテトラヒドロフラン還流下、３〜６時間行うことが好ましい。
【００３０】
反応終了後、反応液に希塩酸、希硫酸等の酸又は飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、有機溶媒で抽出することによりカルビノール化合物（１）を得ることができる。
【００３１】
斯かる工程−１においては、副生成物として、下記に示されるようなケトン体（４）が不純物として生成するが、抽出粗生成物にスルホニルヒドラジン樹脂を用いた吸着処理を行うことにより、斯かる不純物を除去することができる。
【００３２】
【化１３】
【００３３】
具体的には、アルキル化反応処理終了後、粗生成物をメタノール、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、スルホニルヒドラジン樹脂を加え、室温〜１００℃、好ましくは室温〜５０℃で振盪することにより、ケトン体（４）を樹脂に吸着させることができ、反応液を濾過すれば、ケトン体（４）が除去された高純度のカルビノール化合物（１）を得ることができる。尚、斯かる吸着処理は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル又はテトラヒドロフラン等の上記溶媒使用量に対して、酢酸を５％（Ｖ／Ｖ）添加し、室温で振盪することで反応時間を著しく短縮することができる。
【００３４】
ここで用いられるスルホニルヒドラジン樹脂としては、例えばポリスチレンスルホン酸樹脂等を原料とし、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂に変換することにより使用できる。具体的にはアンバーリストＡ−１５（ローム＆ハース社製）を用いて、Journal of Organic Chemistry ４４巻 ４６３４頁（１９７９年）に記載の方法により調製したもの、又は商業的に入手可能なアルゴノート社製のポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂を用いることが好ましい。
このように、ケトン体の除去処理を行った後に工程−２の反応を行うことにより、ケトン体由来物質を含まない３，５−ビスアルキルフェノールを得ることができ、純度を向上させることができる。
【００３５】
尚、出発物質のイソフタル酸エステル誘導体（３）のうち、Ｒ1が水酸基保護基である化合物は、商業的に入手可能な５−ヒドロキシイソフタル酸ジエステル誘導体の水酸基を常法により保護することにより得ることができる。
【００３６】
工程−２
カルビノール化合物（１）を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離することにより、３，５−ビスアルキルフェノール（２）を得ることができる。
【００３７】
本工程で用いられる加水素分解反応は、例えば、カルビノール化合物（１）を、１）エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等の有機溶媒に溶解し、触媒としてパラジウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、酸化白金、好ましくはパラジウム−炭素存在下、濃塩酸を加え、室温から加熱還流の温度条件下、加水素分解する方法、２）液体アンモニアと金属ナトリウムを用いるバーチ還元法等を用いることができる。
【００３８】
ここで、Ｒ1の水酸基保護基が、ベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等の加水素分解によって脱離する基である場合には、加水素分解反応において当該保護基は同時に脱離され、３，５−ビスアルキルフェノール（２）が得られる。一方、水酸基保護基として、前述したような加水素分解によっては容易に脱離されない基を用いた場合には、加水素分解に続いて、酸又はアルカリ処理他、周知の手段により脱保護を行えばよい。
例えば酸又はアルカリ処理は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の含水系溶媒中で行われ、酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等の無機酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸、酢酸、シュウ酸等の有機カルボン酸が用いられ、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド等、ピペリジン、モルホリン等の有機塩基等が用いられる。更に、酸又はアルカリ処理以外としては、例えば三塩化アルミニウム、三臭化ホウ素等のルイス酸処理が用いられる。
【００３９】
また、目的物の単離は、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各種クロマトグラフィー等により行うことができる。
【００４０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
参考例１ ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートの合成
ジメチル ５−ヒドロキシイソフタレート（５０．０ｇ，２３８mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５００mL）溶液に炭酸カリウム（４２．４ｇ，３０７mmol）の存在下、臭化ベンジル（２９．５mL，２４８mmol）を滴下し、室温にて２時間攪拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮し、得られた固形物をジエチルエーテルより結晶化し、ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートを無色針状晶として６８．９ｇ（収率９６％）得た。
【００４１】
融点：９６−９７℃
IR(KBr)cm-1：3420, 2955, 1721, 1596, 1501, 1460.
1H-NMR(CDCl3)δ：3.94(6H,s), 5.15(2H,s), 7.33-7.46(5H,m), 7.84(2H,s),8.30(1H,s).
EIMS m/z：300(M+), 91(100)
元素分析：C17H16O5として
計算値：C,67.99; H,5.37
実測値：C,68.01; H,5.48
【００４２】
実施例１
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
アルゴン雰囲気下、ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレート（２８．６ｇ，９５．２mmol）を無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００mL）に溶解し、氷冷下、メチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ溶液（５２０mL，５２３．３mmol）を滴下し、３時間、加熱還流を行った。反応液にメタノール、水及び１Ｎ ＨＣｌを加えた後、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（１２００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂（３７．３ｇ，１００．３mmol）を加えて、室温にて３６時間振盪した。反応液を濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた結晶をヘキサン−クロロホルムより再結晶し、５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールを無色針状晶として２６．６ｇ（収率９３％）得た。
【００４３】
融点：１４６−１４７℃
IR(KBr)cm-1：3474, 3267, 2976, 1592, 1429, 1364.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.58(12H,s), 5.08(2H,s), 7.02(2H,s), 7.22(1H,s), 7.33(1H,t,J=7.0Hz), 7.39(2H,t,J=7.0Hz), 7.45(2H,d,J=7.0Hz).
EIMS m/z：300(M+), 91(100)
元素分析：C19H24O3として
計算値：C,75.97; H,8.05
実測値：C,75.92; H,8.04
【００４４】
実施例２
３，５−ジイソプロピルフェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール（２２．９ｇ，７６mmol）のエタノール（５００mL）溶液に、濃塩酸（２．６mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（８．０ｇ）を加え、水素雰囲気下、６０℃にて２３時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮し、３，５−ジイソプロピルフェノールを固形物として１３．６ｇ（収率１００％）得た。これをヘキサンから結晶化し無色針状晶を得た。
【００４５】
融点：５１−５２℃
IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 1595.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sept,J=7.0Hz), 6.53(2H,s), 6.67(1H,s)
EIMS m/z：178(M+), 163(100)
【００４６】
実施例３
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
アルゴン雰囲気下、ジメチル５−ヒドロキシイソフタレート（３１．５ｇ，１５０．０mmol）の無水ＴＨＦ（１５００mL）溶液にメチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ（９６９mL，９７５．０mmol）を氷冷下、滴下した。滴下後、反応液を３時間加熱還流し放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え過剰のグリニャール試薬を失活させ、続いて水及び１Ｎ ＨＣｌを順次加え希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノール（１５００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂（９０．３ｇ，２８５．３mmol）を加え、室温で２４時間振盪した。樹脂を濾別し、これをメタノールで洗浄し、濾液を併せて減圧濃縮した。得られた白色固形物をヘキサン−ジエチルエーテルより結晶化し、５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール２０．６ｇ（収率６５．３％）を無色針状晶として得た。
【００４７】
融点：１３７−１３８℃
IR(KBr)cm-1：3358, 3227, 2973, 1606, 1503, 1432.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.57(12H,s), 6.88(2H,s), 7.15(1H,s).
EIMS m/z:210(M+), 177(100)
元素分析：C12H18O3として
計算値：C,68.55, H,8.63
実測値：C,68.40, H,8.52
【００４８】
実施例４
３，５−ジイソプロピルフェノールの合成
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール（２０．０ｇ，９５．１mmol）のエタノール（６００mL）溶液に、濃塩酸（１２．０mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（１１．０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で２２時間攪拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた白色固形物をヘキサンより結晶化し、３，５−ジイソプロピルフェノール１６．５ｇ（収率９７．３％）を無色針状晶として得た。
【００４９】
融点：５１−５２℃
IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 1595
1H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sept,J=7.0Hz), 6.53(2H,s),6.67(1H,s).
EIMS m/z:178(M+) 163(100)
【００５０】
実施例５
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにエチルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５１】
IR(film)cm-1:3474, 2969, 2937, 2879, 1593, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.74(12H,t,J=7.4Hz), 1.78(4H,dq,J=14.3,7.4Hz), 1.85(4H, dq,J=14.3,7.4Hz), 5.07(2H,s), 6.90(2H,s), 6.92(1H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５２】
実施例６
３，５−ビス（１−エチルプロピル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００５３】
IR(KBr)cm-1:3350, 2962, 2924, 2872, 1618, 1597.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,t,J=7.4Hz), 1.44-1.56(4H,m), 1.58-1.70(4H,m), 2.22(2H,tt,J=9.2,5.3Hz), 4.52(1H,s), 6.43(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５４】
実施例７
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-プロビルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５５】
IR(film)cm-1:3470, 2958, 2934, 2872, 1593, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.84(12H,t,J=7.3Hz), 0.99-1.11(4H,m), 1.21-1.34(4H,m), 1.72(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 1.78(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 5.07(2H,s), 6.88(2H,s), 6.92(1H,s), 7.32(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５６】
実施例８
３，５−ビス（１−プロピルブチル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５７】
IR(film)cm-1:3348, 2957, 2929, 1617, 1595, 1502.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.83(12H,t,J=7.3Hz), 1.08-1.22(8H,m), 1.41-1.60(8H,m), 2.42(2H,tt,J=9.4,5.7Hz), 4.59(1H,br.s), 6.42(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５８】
実施例９
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-ブチルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色粉末晶として得た。
【００５９】
IR(KBr)cm-1:3466, 2957, 2933, 1609, 1594, 1499.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.82(12H,t,J=7.2Hz), 0.92-1.07(4H,m), 1.13-1.32(12H,m), 1.68-1.86 (8H,m), 5.08(2H,s), 6.89(1H,s), 6.90(2H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００６０】
実施例１０
３，５−ビス（１−ブチルペンチル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００６１】
IR(film)cm-1:3355, 2957, 2927, 1616, 1597.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.81(12H,t,J=7.3Hz), 1.05-1.33(12H,m), 1.43-1.63(8H,m), 2.37(2H,tt,J=9.1,5.1Hz), 4.52(1H,s), 6.42(2H,s), 6.47 (1H,s).
【００６２】
実施例１１
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにイソプロピルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６３】
IR(film)cm-1:3536, 2968, 2936, 1591, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,d,J=6.8Hz), 0.83(12H,d,J=6.8Hz), 2.26(4H,sept,J=6.8Hz), 5.08(2H,s), 6.91(1H,s), 6.94(2H,s), 7.30(1H,t,J=7.3Hz), 7.37(2H,t,J=7.3Hz), 7.45(2H,d,J=7.3Hz).
【００６４】
実施例１２
３，５−ビス（１−イソプロピル−２−メチルプロピル）フェノール
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６５】
IR(film)cm-1:3385, 2958, 2928, 1614, 1593, 1489.
1H-NMR(CD3OD)δ:0.66(12H,d,J=6.6Hz), 0.76(12H,d,J=6.6Hz), 1.88(2H,t,J=6.6Hz), 1.99(4H,oct,J=6.6Hz), 6.23(1H,s), 6.29(2H,s).
【００６６】
実施例１３
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにフェニルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６７】
IR(film)cm-1:3558, 3467, 3061, 3032, 1593, 1492.
1H-NMR(CDCl3)δ:2.72(2H,br.s), 4.87(2H,s), 6.82(1H,s), 6.85(2H,s), 7.17-7.33(25H,m).
【００６８】
実施例１４
３，５−ジベンズヒドリルフェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６９】
IR(film)cm-1:3536, 3410, 3061, 3026, 1597, 1494.
1H-NMR(CDCl3)δ:4.52(1H,br.s), 5.40(2H,s), 6.37(2H,s), 6.57(1H,s), 7.05(8H,dd,J=8.3,1.5Hz), 7.15-7.26(12H,m).
【００７０】
【発明の効果】
本発明の製造法によれば、医薬及び農薬の合成中間体として重要な３，５−ジイソプロピルフェノール等を短工程で効率よく安全に、しかも高純度且つ高収率で得ることができ、当該医薬及び農薬の安定供給に寄与する。
【発明の属する技術分野】
本発明は、抗炎症剤、殺虫剤等の製造中間体である３，５−ジイソプロピルフェノール等の製造法及び該化合物の製造に用いられるカルビノール化合物及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
３，５−ジイソプロピルフェノールは、抗炎症薬として知られるピリジン誘導体（ＷＯ９９／２４４０４号公報）及び殺虫剤として知られるカルバメート誘導体（特開昭５１−１１２５１９号公報）等の合成中間体として重要である。
従来、３，５−ジイソプロピルフェノールの製造法としては、下記反応ａ及びｂで示されるように、１，３−ジイソプロピルベンゼンを出発原料として合成する方法が報告されている。
【０００３】
【化９】
（Journal of Organic Chemistry ３６巻 １９３−１９６頁（１９７１年））
【０００５】
【化１０】
（Journal of Organic Chemistry ３２巻 ５８５−５８８頁（１９６７年））
【０００７】
しかし、反応ａによる場合、精製が煩雑でかつ通算収率が低い（約４５％）等の欠点があり、反応ｂにおいては、工程数は２工程と少ないものの、第一工程のアミノ基の導入反応において用いられるトリクロロアミンには毒性や爆発性がある等、安全性上難点があり、また収率も８％と低いという問題もあった。
【０００８】
また、特開昭６１−１５２６３５号公報及び米国特許第２７９００１０明細書には、下記反応ｃに示すように、
【０００９】
【化１１】
１，３，５−トリイソプロピルベンゼンを出発原料として２工程で３，５−ジイソプロピルフェノールを合成する方法が記載されているが、この場合、通算収率は５６％であるものの、中間体として不安定で爆発性且つ毒性を有する過酸化体を経由すること、また、最終物の精製には精密蒸留が必要となる等の問題があり、反応ａ〜ｃの何れの方法も３，５−ジイソプロピルフェノールの大量合成に適するものではなかった。
【００１１】
また、その他の方法として、フェノール体をプロペンでアルキル化する方法も報告されているが（特開昭４６−６０１８号公報、特開昭５４−６１１３１号公報）、反応の選択性が低く低収率であり、更に異性体との分離が難しい問題があり、実用的ではない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、３，５−ビスアルキルフェノールを、短工程で効率よく、安全しかも高純度且つ高収率で得ることができる製造法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、斯かる実状に鑑み、３，５−ビスアルキルフェノールの大量合成に適した製造法について鋭意検討した結果、イソフタル酸エステル誘導体をアルキル化して得られる新規なカルビノール化合物を経由する方法により、２又は３工程で収率よく３，５−ビスアルキルフェノールを製造できることを見出し、本発明を完成した。
【００１４】
すなわち、本発明は、以下の反応式で表されるように、
【００１５】
【化１２】
〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。〕
一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体を金属アルキル化試薬と反応させて一般式（１）で表されるカルビノール化合物とし（工程−１）、次いで、これを加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離すること（工程−２）を特徴とする３，５−ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、上記式中、一般式（１）で表されるカルビノール化合物を提供するものである。
【００１８】
また、本発明は、上記式中、一般式（１）で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離することを特徴とする３，５−ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するものである。
【００１９】
更に、本発明は、上記式中、一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体に金属アルキル化試薬を反応させることを特徴とする、一般式（１）で表されるカルビノール化合物の製造法を提供するものである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明において、一般式（１）及び（３）の式中、Ｒ1で示されるアルカリ金属原子としては、リチウム、ナトリウム又はカリウム原子等が好ましく、また、アルカリ土類金属原子は、カルシウム、マグネシウム原子等が好ましい。
【００２１】
Ｒ1で示される水酸基保護基としては、水酸基の金属アルキル化試薬による金属塩形成に由来する溶解性の低下を防ぐ目的で水酸基を保護し、加水素分解又は酸又はアルカリ処理他、周知の方法で脱離するものであれば特に限定されるものではない。
加水素分解により脱離するものとしては、例えばベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等挙げられ、加水素分解によって脱離しないが、酸又はアルカリ処理又はその他の方法によって脱離する基としては、例えばメトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、メトキシエトキシメチル基等のアセタール型保護基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等のアルキル基、アリル基等のアルケニル基、プロパルギル基等のアルキニル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のアラルキル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基等のスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等のアシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基等の炭酸エステル基、ｐ−ブロモフェナシル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
このうち加水素分解によって脱離する基を用いることが、カルビノール水酸基の加水素分解と水酸基保護基の脱離が同時に行われるため好ましい。
【００２２】
Ｒ2で示される炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基のうち、炭素数１〜５の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が好ましく、中でもメチル基及びエチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。
また、置換基を有していてもよいフェニル基としては、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基等で１又は２置換されていていもよいフェニル基が挙げられ、例えばフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルチオフェニル基等が挙げられる。
【００２３】
Ｒ3及びＲ4で示される低級アルキル基としては、炭素数１〜７の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基等が挙げられる。このうち、炭素数１〜５のものが好ましく、特にメチル基が好ましい。
【００２４】
Ｒ3及びＲ4で示されるアラルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル部分をもつアラルキル基、具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のフェニル−Ｃ1-3アルキル基が挙げられ、中でもベンジル基が特に好ましい。
【００２５】
Ｒ3及びＲ4で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基の他、メチル基やメトキシキ基等で置換されたフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２６】
以下本発明の製造法の各工程について詳細に説明する。
工程−１
イソフタル酸エステル誘導体（３）を金属アルキル化試薬と反応させることにより、カルビノール化合物（１）を得ることができる。
【００２７】
ここで用いられる金属アルキル化試薬としては、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミド、ペンチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムヨージド等のグリニャール試薬や活性化マグネシウムを用いて調製されたグリニャール試薬、メチルリチウム、ブチルリチウム等の有機金属試薬、更にはサマリウム等の希土類金属原子を用いた、例えばアルキルハライドとヨウ化サマリウムから調製された有機金属試薬が挙げられ、好ましくはメチルマグネシウムブロミドである。
【００２８】
斯かる金属アルキル化試薬は、イソフタル酸エステル誘導体（３）に対して４〜８当量用いることが好ましい。
【００２９】
反応溶媒としては、原料化合物を溶解し、目的化合物の生成を阻害しないものであればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中でもテトラヒドロフランが好ましい。また、斯かる溶媒には、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホルアミド等の溶解補助溶媒を加えることが好ましい。また三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン、塩化セリウム、トリメチルアルミニウム等のルイス酸、更にはアルキルアンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニウムブロミドを添加してもよい。
反応は、湿気を遮断し、窒素又はアルゴン雰囲気下０〜１００℃で、３〜１０時間行えばよく、特にテトラヒドロフラン還流下、３〜６時間行うことが好ましい。
【００３０】
反応終了後、反応液に希塩酸、希硫酸等の酸又は飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、有機溶媒で抽出することによりカルビノール化合物（１）を得ることができる。
【００３１】
斯かる工程−１においては、副生成物として、下記に示されるようなケトン体（４）が不純物として生成するが、抽出粗生成物にスルホニルヒドラジン樹脂を用いた吸着処理を行うことにより、斯かる不純物を除去することができる。
【００３２】
【化１３】
具体的には、アルキル化反応処理終了後、粗生成物をメタノール、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、スルホニルヒドラジン樹脂を加え、室温〜１００℃、好ましくは室温〜５０℃で振盪することにより、ケトン体（４）を樹脂に吸着させることができ、反応液を濾過すれば、ケトン体（４）が除去された高純度のカルビノール化合物（１）を得ることができる。尚、斯かる吸着処理は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル又はテトラヒドロフラン等の上記溶媒使用量に対して、酢酸を５％（Ｖ／Ｖ）添加し、室温で振盪することで反応時間を著しく短縮することができる。
【００３４】
ここで用いられるスルホニルヒドラジン樹脂としては、例えばポリスチレンスルホン酸樹脂等を原料とし、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂に変換することにより使用できる。具体的にはアンバーリストＡ−１５（ローム＆ハース社製）を用いて、Journal of Organic Chemistry ４４巻 ４６３４頁（１９７９年）に記載の方法により調製したもの、又は商業的に入手可能なアルゴノート社製のポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂を用いることが好ましい。
このように、ケトン体の除去処理を行った後に工程−２の反応を行うことにより、ケトン体由来物質を含まない３，５−ビスアルキルフェノールを得ることができ、純度を向上させることができる。
【００３５】
尚、出発物質のイソフタル酸エステル誘導体（３）のうち、Ｒ1が水酸基保護基である化合物は、商業的に入手可能な５−ヒドロキシイソフタル酸ジエステル誘導体の水酸基を常法により保護することにより得ることができる。
【００３６】
工程−２
カルビノール化合物（１）を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離することにより、３，５−ビスアルキルフェノール（２）を得ることができる。
【００３７】
本工程で用いられる加水素分解反応は、例えば、カルビノール化合物（１）を、１）エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等の有機溶媒に溶解し、触媒としてパラジウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、酸化白金、好ましくはパラジウム−炭素存在下、濃塩酸を加え、室温から加熱還流の温度条件下、加水素分解する方法、２）液体アンモニアと金属ナトリウムを用いるバーチ還元法等を用いることができる。
【００３８】
ここで、Ｒ1の水酸基保護基が、ベンジル基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等の加水素分解によって脱離する基である場合には、加水素分解反応において当該保護基は同時に脱離され、３，５−ビスアルキルフェノール（２）が得られる。一方、水酸基保護基として、前述したような加水素分解によっては容易に脱離されない基を用いた場合には、加水素分解に続いて、酸又はアルカリ処理他、周知の手段により脱保護を行えばよい。
例えば酸又はアルカリ処理は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の含水系溶媒中で行われ、酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等の無機酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸、酢酸、シュウ酸等の有機カルボン酸が用いられ、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド等、ピペリジン、モルホリン等の有機塩基等が用いられる。更に、酸又はアルカリ処理以外としては、例えば三塩化アルミニウム、三臭化ホウ素等のルイス酸処理が用いられる。
【００３９】
また、目的物の単離は、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各種クロマトグラフィー等により行うことができる。
【００４０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
参考例１ ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートの合成
ジメチル ５−ヒドロキシイソフタレート（５０．０ｇ，２３８mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５００mL）溶液に炭酸カリウム（４２．４ｇ，３０７mmol）の存在下、臭化ベンジル（２９．５mL，２４８mmol）を滴下し、室温にて２時間攪拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮し、得られた固形物をジエチルエーテルより結晶化し、ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートを無色針状晶として６８．９ｇ（収率９６％）得た。
【００４１】
融点：９６−９７℃
IR(KBr)cm-1：3420, 2955, 1721, 1596, 1501, 1460.
1H-NMR(CDCl3)δ：3.94(6H,s), 5.15(2H,s), 7.33-7.46(5H,m), 7.84(2H,s),8.30(1H,s).
EIMS m/z：300(M+), 91(100)
元素分析：C17H16O5として
計算値：C,67.99; H,5.37
実測値：C,68.01; H,5.48
【００４２】
実施例１
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
アルゴン雰囲気下、ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレート（２８．６ｇ，９５．２mmol）を無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００mL）に溶解し、氷冷下、メチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ溶液（５２０mL，５２３．３mmol）を滴下し、３時間、加熱還流を行った。反応液にメタノール、水及び１Ｎ ＨＣｌを加えた後、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（１２００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂（３７．３ｇ，１００．３mmol）を加えて、室温にて３６時間振盪した。反応液を濾過後、濾液を減圧濃縮し、得られた結晶をヘキサン−クロロホルムより再結晶し、５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールを無色針状晶として２６．６ｇ（収率９３％）得た。
【００４３】
融点：１４６−１４７℃
IR(KBr)cm-1：3474, 3267, 2976, 1592, 1429, 1364.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.58(12H,s), 5.08(2H,s), 7.02(2H,s), 7.22(1H,s), 7.33(1H,t,J=7.0Hz), 7.39(2H,t,J=7.0Hz), 7.45(2H,d,J=7.0Hz).
EIMS m/z：300(M+), 91(100)
元素分析：C19H24O3として
計算値：C,75.97; H,8.05
実測値：C,75.92; H,8.04
【００４４】
実施例２
３，５−ジイソプロピルフェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール（２２．９ｇ，７６mmol）のエタノール（５００mL）溶液に、濃塩酸（２．６mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（８．０ｇ）を加え、水素雰囲気下、６０℃にて２３時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮し、３，５−ジイソプロピルフェノールを固形物として１３．６ｇ（収率１００％）得た。これをヘキサンから結晶化し無色針状晶を得た。
【００４５】
融点：５１−５２℃
IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 1595.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sept,J=7.0Hz), 6.53(2H,s), 6.67(1H,s)
EIMS m/z：178(M+), 163(100)
【００４６】
実施例３
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
アルゴン雰囲気下、ジメチル５−ヒドロキシイソフタレート（３１．５ｇ，１５０．０mmol）の無水ＴＨＦ（１５００mL）溶液にメチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ（９６９mL，９７５．０mmol）を氷冷下、滴下した。滴下後、反応液を３時間加熱還流し放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え過剰のグリニャール試薬を失活させ、続いて水及び１Ｎ ＨＣｌを順次加え希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノール（１５００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂（９０．３ｇ，２８５．３mmol）を加え、室温で２４時間振盪した。樹脂を濾別し、これをメタノールで洗浄し、濾液を併せて減圧濃縮した。得られた白色固形物をヘキサン−ジエチルエーテルより結晶化し、５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール２０．６ｇ（収率６５．３％）を無色針状晶として得た。
【００４７】
融点：１３７−１３８℃
IR(KBr)cm-1：3358, 3227, 2973, 1606, 1503, 1432.
1H-NMR(CDCl3)δ：1.57(12H,s), 6.88(2H,s), 7.15(1H,s).
EIMS m/z:210(M+), 177(100)
元素分析：C12H18O3として
計算値：C,68.55, H,8.63
実測値：C,68.40, H,8.52
【００４８】
実施例４
３，５−ジイソプロピルフェノールの合成
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノール（２０．０ｇ，９５．１mmol）のエタノール（６００mL）溶液に、濃塩酸（１２．０mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（１１．０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で２２時間攪拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた白色固形物をヘキサンより結晶化し、３，５−ジイソプロピルフェノール１６．５ｇ（収率９７．３％）を無色針状晶として得た。
【００４９】
融点：５１−５２℃
IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 1595
1H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sept,J=7.0Hz), 6.53(2H,s),6.67(1H,s).
EIMS m/z:178(M+) 163(100)
【００５０】
実施例５
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにエチルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５１】
IR(film)cm-1:3474, 2969, 2937, 2879, 1593, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.74(12H,t,J=7.4Hz), 1.78(4H,dq,J=14.3,7.4Hz), 1.85(4H, dq,J=14.3,7.4Hz), 5.07(2H,s), 6.90(2H,s), 6.92(1H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５２】
実施例６
３，５−ビス（１−エチルプロピル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００５３】
IR(KBr)cm-1:3350, 2962, 2924, 2872, 1618, 1597.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,t,J=7.4Hz), 1.44-1.56(4H,m), 1.58-1.70(4H,m), 2.22(2H,tt,J=9.2,5.3Hz), 4.52(1H,s), 6.43(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５４】
実施例７
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-プロビルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５５】
IR(film)cm-1:3470, 2958, 2934, 2872, 1593, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.84(12H,t,J=7.3Hz), 0.99-1.11(4H,m), 1.21-1.34(4H,m), 1.72(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 1.78(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 5.07(2H,s), 6.88(2H,s), 6.92(1H,s), 7.32(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５６】
実施例８
３，５−ビス（１−プロピルブチル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５７】
IR(film)cm-1:3348, 2957, 2929, 1617, 1595, 1502.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.83(12H,t,J=7.3Hz), 1.08-1.22(8H,m), 1.41-1.60(8H,m), 2.42(2H,tt,J=9.4,5.7Hz), 4.59(1H,br.s), 6.42(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５８】
実施例９
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-ブチルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色粉末晶として得た。
【００５９】
IR(KBr)cm-1:3466, 2957, 2933, 1609, 1594, 1499.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.82(12H,t,J=7.2Hz), 0.92-1.07(4H,m), 1.13-1.32(12H,m), 1.68-1.86 (8H,m), 5.08(2H,s), 6.89(1H,s), 6.90(2H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００６０】
実施例１０
３，５−ビス（１−ブチルペンチル）フェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００６１】
IR(film)cm-1:3355, 2957, 2927, 1616, 1597.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.81(12H,t,J=7.3Hz), 1.05-1.33(12H,m), 1.43-1.63(8H,m), 2.37(2H,tt,J=9.1,5.1Hz), 4.52(1H,s), 6.42(2H,s), 6.47 (1H,s).
【００６２】
実施例１１
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにイソプロピルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６３】
IR(film)cm-1:3536, 2968, 2936, 1591, 1498.
1H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,d,J=6.8Hz), 0.83(12H,d,J=6.8Hz), 2.26(4H,sept,J=6.8Hz), 5.08(2H,s), 6.91(1H,s), 6.94(2H,s), 7.30(1H,t,J=7.3Hz), 7.37(2H,t,J=7.3Hz), 7.45(2H,d,J=7.3Hz).
【００６４】
実施例１２
３，５−ビス（１−イソプロピル−２−メチルプロピル）フェノール
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６５】
IR(film)cm-1:3385, 2958, 2928, 1614, 1593, 1489.
1H-NMR(CD3OD)δ:0.66(12H,d,J=6.6Hz), 0.76(12H,d,J=6.6Hz), 1.88(2H,t,J=6.6Hz), 1.99(4H,oct,J=6.6Hz), 6.23(1H,s), 6.29(2H,s).
【００６６】
実施例１３
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成
メチルマグネシウムブロミドの代わりにフェニルマグネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６７】
IR(film)cm-1:3558, 3467, 3061, 3032, 1593, 1492.
1H-NMR(CDCl3)δ:2.72(2H,br.s), 4.87(2H,s), 6.82(1H,s), 6.85(2H,s), 7.17-7.33(25H,m).
【００６８】
実施例１４
３，５−ジベンズヒドリルフェノールの合成
５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６９】
IR(film)cm-1:3536, 3410, 3061, 3026, 1597, 1494.
1H-NMR(CDCl3)δ:4.52(1H,br.s), 5.40(2H,s), 6.37(2H,s), 6.57(1H,s), 7.05(8H,dd,J=8.3,1.5Hz), 7.15-7.26(12H,m).
【００７０】
【発明の効果】
本発明の製造法によれば、医薬及び農薬の合成中間体として重要な３，５−ジイソプロピルフェノール等を短工程で効率よく安全に、しかも高純度且つ高収率で得ることができ、当該医薬及び農薬の安定供給に寄与する。
Claims (7)
- 次の一般式（１）
で表されるカルビノール化合物。 - 次の一般式（１）
で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離することを特徴とする次の一般式（２）
で表される３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。 - 次の一般式（３）
で表されるイソフタル酸エステル誘導体に、金属アルキル化試薬を反応させることを特徴とする、次の一般式（１）
で表されるカルビノール化合物の製造法。 - スルホニルヒドラジン樹脂を用いた副生成物の吸着処理を含むものである請求項３記載のカルビノール化合物の製造法。
- 次の一般式（３）
で表されるイソフタル酸エステル誘導体に、金属アルキル化試薬を反応させて、次の一般式（１）
で表されるカルビノール化合物とし（工程−１）、次いで、これを加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離すること（工程−２）を特徴とする次の一般式（２）
で示される３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。 - 工程−１において、スルホニルヒドラジン樹脂を用いた副生成物の吸着処理を含むものである請求項５記載の３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。
- 一般式（１）及び（２）において、Ｒ2がメチル基である請求項２、５及び６のいずれか１項記載の３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。
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