JP2002167343A - ３，５−ビスアルキルフェノールの製造法 - Google Patents
３，５−ビスアルキルフェノールの製造法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 次の反応式
【化１】
〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は
置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ3及び
Ｒ4は同一又は異なって低級アルキル基、アラルキル基
又はアリール基を示す。〕による３，５−ビスアルキル
フェノール（２）の製造法、カルビノール化合物（１）
及びその製造法。 【効果】 医薬及び農薬の合成中間体として重要な３，
５−ジイソプロピルフェノール等を短工程で効率よく安
全に、しかも高純度且つ高収率で得ることができ、当該
医薬及び農薬の安定供給に寄与する。
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は
置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ3及び
Ｒ4は同一又は異なって低級アルキル基、アラルキル基
又はアリール基を示す。〕による３，５−ビスアルキル
フェノール（２）の製造法、カルビノール化合物（１）
及びその製造法。 【効果】 医薬及び農薬の合成中間体として重要な３，
５−ジイソプロピルフェノール等を短工程で効率よく安
全に、しかも高純度且つ高収率で得ることができ、当該
医薬及び農薬の安定供給に寄与する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗炎症剤、殺虫剤
等の製造中間体である３，５−ジイソプロピルフェノー
ル等の製造法及び該化合物の製造に用いられるカルビノ
ール化合物及びその製造法に関する。
等の製造中間体である３，５−ジイソプロピルフェノー
ル等の製造法及び該化合物の製造に用いられるカルビノ
ール化合物及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】３，５−ジイソプロピルフェノールは、
抗炎症薬として知られるピリジン誘導体（ＷＯ９９／２
４４０４号公報）及び殺虫剤として知られるカルバメー
ト誘導体（特開昭５１−１１２５１９号公報）等の合成
中間体として重要である。従来、３，５−ジイソプロピ
ルフェノールの製造法としては、下記反応ａ及びｂで示
されるように、１，３−ジイソプロピルベンゼンを出発
原料として合成する方法が報告されている。
抗炎症薬として知られるピリジン誘導体（ＷＯ９９／２
４４０４号公報）及び殺虫剤として知られるカルバメー
ト誘導体（特開昭５１−１１２５１９号公報）等の合成
中間体として重要である。従来、３，５−ジイソプロピ
ルフェノールの製造法としては、下記反応ａ及びｂで示
されるように、１，３−ジイソプロピルベンゼンを出発
原料として合成する方法が報告されている。
【０００３】
【化９】
【０００４】（Journal of Organic Chemistry ３６巻
１９３−１９６頁（１９７１年））
１９３−１９６頁（１９７１年））
【０００５】
【化１０】
【０００６】（Journal of Organic Chemistry ３２巻
５８５−５８８頁（１９６７年））
５８５−５８８頁（１９６７年））
【０００７】しかし、反応ａによる場合、精製が煩雑で
かつ通算収率が低い（約４５％）等の欠点があり、反応
ｂにおいては、工程数は２工程と少ないものの、第一工
程のアミノ基の導入反応において用いられるトリクロロ
アミンには毒性や爆発性がある等、安全性上難点があ
り、また収率も８％と低いという問題もあった。
かつ通算収率が低い（約４５％）等の欠点があり、反応
ｂにおいては、工程数は２工程と少ないものの、第一工
程のアミノ基の導入反応において用いられるトリクロロ
アミンには毒性や爆発性がある等、安全性上難点があ
り、また収率も８％と低いという問題もあった。
【０００８】また、特開昭６１−１５２６３５号公報及
び米国特許第２７９００１０明細書には、下記反応ｃに
示すように、
び米国特許第２７９００１０明細書には、下記反応ｃに
示すように、
【０００９】
【化１１】
【００１０】１，３，５−トリイソプロピルベンゼンを
出発原料として２工程で３，５−ジイソプロピルフェノ
ールを合成する方法が記載されているが、この場合、通
算収率は５６％であるものの、中間体として不安定で爆
発性且つ毒性を有する過酸化体を経由すること、また、
最終物の精製には精密蒸留が必要となる等の問題があ
り、反応ａ〜ｃの何れの方法も３，５−ジイソプロピル
フェノールの大量合成に適するものではなかった。
出発原料として２工程で３，５−ジイソプロピルフェノ
ールを合成する方法が記載されているが、この場合、通
算収率は５６％であるものの、中間体として不安定で爆
発性且つ毒性を有する過酸化体を経由すること、また、
最終物の精製には精密蒸留が必要となる等の問題があ
り、反応ａ〜ｃの何れの方法も３，５−ジイソプロピル
フェノールの大量合成に適するものではなかった。
【００１１】また、その他の方法として、フェノール体
をプロペンでアルキル化する方法も報告されているが
（特開昭４６−６０１８号公報、特開昭５４−６１１３
１号公報）、反応の選択性が低く低収率であり、更に異
性体との分離が難しい問題があり、実用的ではない。
をプロペンでアルキル化する方法も報告されているが
（特開昭４６−６０１８号公報、特開昭５４−６１１３
１号公報）、反応の選択性が低く低収率であり、更に異
性体との分離が難しい問題があり、実用的ではない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、３，５−ビ
スアルキルフェノールを、短工程で効率よく、安全しか
も高純度且つ高収率で得ることができる製造法を提供す
ることを目的とする。
スアルキルフェノールを、短工程で効率よく、安全しか
も高純度且つ高収率で得ることができる製造法を提供す
ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、斯かる実
状に鑑み、３，５−ビスアルキルフェノールの大量合成
に適した製造法について鋭意検討した結果、イソフタル
酸エステル誘導体をアルキル化して得られる新規なカル
ビノール化合物を経由する方法により、２又は３工程で
収率よく３，５−ビスアルキルフェノールを製造できる
ことを見出し、本発明を完成した。
状に鑑み、３，５−ビスアルキルフェノールの大量合成
に適した製造法について鋭意検討した結果、イソフタル
酸エステル誘導体をアルキル化して得られる新規なカル
ビノール化合物を経由する方法により、２又は３工程で
収率よく３，５−ビスアルキルフェノールを製造できる
ことを見出し、本発明を完成した。
【００１４】すなわち、本発明は、以下の反応式で表さ
れるように、
れるように、
【００１５】
【化１２】
【００１６】〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原
子、アルカリ土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メ
チル基を除く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アル
キル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を示
し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキル基、ア
ラルキル基又はアリール基を示す。〕 一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体を
金属アルキル化試薬と反応させて一般式（１）で表され
るカルビノール化合物とし（工程−１）、次いで、これ
を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離するこ
と（工程−２）を特徴とする３，５−ビスアルキルフェ
ノール（２）の製造法を提供するものである。
子、アルカリ土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メ
チル基を除く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アル
キル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を示
し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキル基、ア
ラルキル基又はアリール基を示す。〕 一般式（３）で表されるイソフタル酸エステル誘導体を
金属アルキル化試薬と反応させて一般式（１）で表され
るカルビノール化合物とし（工程−１）、次いで、これ
を加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱離するこ
と（工程−２）を特徴とする３，５−ビスアルキルフェ
ノール（２）の製造法を提供するものである。
【００１７】また、本発明は、上記式中、一般式（１）
で表されるカルビノール化合物を提供するものである。
で表されるカルビノール化合物を提供するものである。
【００１８】また、本発明は、上記式中、一般式（１）
で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望に
より水酸基保護基を脱離することを特徴とする３，５−
ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するもの
である。
で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望に
より水酸基保護基を脱離することを特徴とする３，５−
ビスアルキルフェノール（２）の製造法を提供するもの
である。
【００１９】更に、本発明は、上記式中、一般式（３）
で表されるイソフタル酸エステル誘導体に金属アルキル
化試薬を反応させることを特徴とする、一般式（１）で
表されるカルビノール化合物の製造法を提供するもので
ある。
で表されるイソフタル酸エステル誘導体に金属アルキル
化試薬を反応させることを特徴とする、一般式（１）で
表されるカルビノール化合物の製造法を提供するもので
ある。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式（１）及
び（３）の式中、Ｒ1で示されるアルカリ金属原子とし
ては、リチウム、ナトリウム又はカリウム原子等が好ま
しく、また、アルカリ土類金属原子は、カルシウム、マ
グネシウム原子等が好ましい。
び（３）の式中、Ｒ1で示されるアルカリ金属原子とし
ては、リチウム、ナトリウム又はカリウム原子等が好ま
しく、また、アルカリ土類金属原子は、カルシウム、マ
グネシウム原子等が好ましい。
【００２１】Ｒ1で示される水酸基保護基としては、水
酸基の金属アルキル化試薬による金属塩形成に由来する
溶解性の低下を防ぐ目的で水酸基を保護し、加水素分解
又は酸又はアルカリ処理他、周知の方法で脱離するもの
であれば特に限定されるものではない。加水素分解によ
り脱離するものとしては、例えばベンジル基、トリチル
基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベン
ジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等挙
げられ、加水素分解によって脱離しないが、酸又はアル
カリ処理又はその他の方法によって脱離する基として
は、例えばメトキシメチル基、テトラヒドロピラニル
基、メトキシエトキシメチル基等のアセタール型保護
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基等のアルキル基、アリル基等のアルケニル基、プ
ロパルギル基等のアルキニル基、１−フェニルエチル
基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基
等のアラルキル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシ
リル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル
基等のスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等のアシル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ
−ブチルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカル
ボニル基等の炭酸エステル基、ｐ−ブロモフェナシル
基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。このうち
加水素分解によって脱離する基を用いることが、カルビ
ノール水酸基の加水素分解と水酸基保護基の脱離が同時
に行われるため好ましい。
酸基の金属アルキル化試薬による金属塩形成に由来する
溶解性の低下を防ぐ目的で水酸基を保護し、加水素分解
又は酸又はアルカリ処理他、周知の方法で脱離するもの
であれば特に限定されるものではない。加水素分解によ
り脱離するものとしては、例えばベンジル基、トリチル
基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベン
ジルオキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル基等挙
げられ、加水素分解によって脱離しないが、酸又はアル
カリ処理又はその他の方法によって脱離する基として
は、例えばメトキシメチル基、テトラヒドロピラニル
基、メトキシエトキシメチル基等のアセタール型保護
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基等のアルキル基、アリル基等のアルケニル基、プ
ロパルギル基等のアルキニル基、１−フェニルエチル
基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基
等のアラルキル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジ
メチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシ
リル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル
基等のスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等のアシル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ
−ブチルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカル
ボニル基等の炭酸エステル基、ｐ−ブロモフェナシル
基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。このうち
加水素分解によって脱離する基を用いることが、カルビ
ノール水酸基の加水素分解と水酸基保護基の脱離が同時
に行われるため好ましい。
【００２２】Ｒ2で示される炭素数１〜５の低級アルキ
ル基又は置換基を有していてもよいフェニル基のうち、
炭素数１〜５の低級アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基等が好ましく、中でもメチル基及び
エチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、
置換基を有していてもよいフェニル基としては、低級ア
ルコキシ基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
キルチオ基等で１又は２置換されていていもよいフェニ
ル基が挙げられ、例えばフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、クロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メ
チルチオフェニル基等が挙げられる。
ル基又は置換基を有していてもよいフェニル基のうち、
炭素数１〜５の低級アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基等が好ましく、中でもメチル基及び
エチル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、
置換基を有していてもよいフェニル基としては、低級ア
ルコキシ基、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アル
キルチオ基等で１又は２置換されていていもよいフェニ
ル基が挙げられ、例えばフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、クロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メ
チルチオフェニル基等が挙げられる。
【００２３】Ｒ3及びＲ4で示される低級アルキル基とし
ては、炭素数１〜７の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、具
体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基等が挙げられ
る。このうち、炭素数１〜５のものが好ましく、特にメ
チル基が好ましい。
ては、炭素数１〜７の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、具
体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキ
シル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基等が挙げられ
る。このうち、炭素数１〜５のものが好ましく、特にメ
チル基が好ましい。
【００２４】Ｒ3及びＲ4で示されるアラルキル基として
は、炭素数１〜３のアルキル部分をもつアラルキル基、
具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フ
ェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のフェニ
ル−Ｃ1-3アルキル基が挙げられ、中でもベンジル基が
特に好ましい。
は、炭素数１〜３のアルキル部分をもつアラルキル基、
具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フ
ェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基等のフェニ
ル−Ｃ1-3アルキル基が挙げられ、中でもベンジル基が
特に好ましい。
【００２５】Ｒ3及びＲ4で示されるアリール基として
は、フェニル基、ナフチル基の他、メチル基やメトキシ
キ基等で置換されたフェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。
は、フェニル基、ナフチル基の他、メチル基やメトキシ
キ基等で置換されたフェニル基、ナフチル基等が挙げら
れる。
【００２６】以下本発明の製造法の各工程について詳細
に説明する。 工程−１ イソフタル酸エステル誘導体（３）を金属アルキル化試
薬と反応させることにより、カルビノール化合物（１）
を得ることができる。
に説明する。 工程−１ イソフタル酸エステル誘導体（３）を金属アルキル化試
薬と反応させることにより、カルビノール化合物（１）
を得ることができる。
【００２７】ここで用いられる金属アルキル化試薬とし
ては、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウ
ムブロミド、プロピルマグネシウムブロミド、イソプロ
ピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミ
ド、ペンチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシ
ウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、メチルマ
グネシウムヨージド等のグリニャール試薬や活性化マグ
ネシウムを用いて調製されたグリニャール試薬、メチル
リチウム、ブチルリチウム等の有機金属試薬、更にはサ
マリウム等の希土類金属原子を用いた、例えばアルキル
ハライドとヨウ化サマリウムから調製された有機金属試
薬が挙げられ、好ましくはメチルマグネシウムブロミド
である。
ては、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウ
ムブロミド、プロピルマグネシウムブロミド、イソプロ
ピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムブロミ
ド、ペンチルマグネシウムブロミド、フェニルマグネシ
ウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、メチルマ
グネシウムヨージド等のグリニャール試薬や活性化マグ
ネシウムを用いて調製されたグリニャール試薬、メチル
リチウム、ブチルリチウム等の有機金属試薬、更にはサ
マリウム等の希土類金属原子を用いた、例えばアルキル
ハライドとヨウ化サマリウムから調製された有機金属試
薬が挙げられ、好ましくはメチルマグネシウムブロミド
である。
【００２８】斯かる金属アルキル化試薬は、イソフタル
酸エステル誘導体（３）に対して４〜８当量用いること
が好ましい。
酸エステル誘導体（３）に対して４〜８当量用いること
が好ましい。
【００２９】反応溶媒としては、原料化合物を溶解し、
目的化合物の生成を阻害しないものであればよく、例え
ばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタ
ン、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中でもテトラヒ
ドロフランが好ましい。また、斯かる溶媒には、テトラ
メチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホルアミド
等の溶解補助溶媒を加えることが好ましい。また三フッ
化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン、塩化セ
リウム、トリメチルアルミニウム等のルイス酸、更には
アルキルアンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニ
ウムブロミドを添加してもよい。反応は、湿気を遮断
し、窒素又はアルゴン雰囲気下０〜１００℃で、３〜１
０時間行えばよく、特にテトラヒドロフラン還流下、３
〜６時間行うことが好ましい。
目的化合物の生成を阻害しないものであればよく、例え
ばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタ
ン、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中でもテトラヒ
ドロフランが好ましい。また、斯かる溶媒には、テトラ
メチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホルアミド
等の溶解補助溶媒を加えることが好ましい。また三フッ
化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン、塩化セ
リウム、トリメチルアルミニウム等のルイス酸、更には
アルキルアンモニウム塩、例えばテトラブチルアンモニ
ウムブロミドを添加してもよい。反応は、湿気を遮断
し、窒素又はアルゴン雰囲気下０〜１００℃で、３〜１
０時間行えばよく、特にテトラヒドロフラン還流下、３
〜６時間行うことが好ましい。
【００３０】反応終了後、反応液に希塩酸、希硫酸等の
酸又は飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、有機溶媒で
抽出することによりカルビノール化合物（１）を得るこ
とができる。
酸又は飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、有機溶媒で
抽出することによりカルビノール化合物（１）を得るこ
とができる。
【００３１】斯かる工程−１においては、副生成物とし
て、下記に示されるようなケトン体（４）が不純物とし
て生成するが、抽出粗生成物にスルホニルヒドラジン樹
脂を用いた吸着処理を行うことにより、斯かる不純物を
除去することができる。
て、下記に示されるようなケトン体（４）が不純物とし
て生成するが、抽出粗生成物にスルホニルヒドラジン樹
脂を用いた吸着処理を行うことにより、斯かる不純物を
除去することができる。
【００３２】
【化１３】
【００３３】具体的には、アルキル化反応処理終了後、
粗生成物をメタノール、１，２−ジクロロエタン、１，
２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン等の有機溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、
スルホニルヒドラジン樹脂を加え、室温〜１００℃、好
ましくは室温〜５０℃で振盪することにより、ケトン体
（４）を樹脂に吸着させることができ、反応液を濾過す
れば、ケトン体（４）が除去された高純度のカルビノー
ル化合物（１）を得ることができる。尚、斯かる吸着処
理は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，
２−ジメトキシエタン、アセトニトリル又はテトラヒド
ロフラン等の上記溶媒使用量に対して、酢酸を５％（Ｖ
／Ｖ）添加し、室温で振盪することで反応時間を著しく
短縮することができる。
粗生成物をメタノール、１，２−ジクロロエタン、１，
２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン等の有機溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、
スルホニルヒドラジン樹脂を加え、室温〜１００℃、好
ましくは室温〜５０℃で振盪することにより、ケトン体
（４）を樹脂に吸着させることができ、反応液を濾過す
れば、ケトン体（４）が除去された高純度のカルビノー
ル化合物（１）を得ることができる。尚、斯かる吸着処
理は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，
２−ジメトキシエタン、アセトニトリル又はテトラヒド
ロフラン等の上記溶媒使用量に対して、酢酸を５％（Ｖ
／Ｖ）添加し、室温で振盪することで反応時間を著しく
短縮することができる。
【００３４】ここで用いられるスルホニルヒドラジン樹
脂としては、例えばポリスチレンスルホン酸樹脂等を原
料とし、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂に変換
することにより使用できる。具体的にはアンバーリスト
Ａ−１５（ローム＆ハース社製）を用いて、Journal of
Organic Chemistry ４４巻 ４６３４頁（１９７９
年）に記載の方法により調製したもの、又は商業的に入
手可能なアルゴノート社製のポリスチレンスルホニルヒ
ドラジン樹脂を用いることが好ましい。このように、ケ
トン体の除去処理を行った後に工程−２の反応を行うこ
とにより、ケトン体由来物質を含まない３，５−ビスア
ルキルフェノールを得ることができ、純度を向上させる
ことができる。
脂としては、例えばポリスチレンスルホン酸樹脂等を原
料とし、ポリスチレンスルホニルヒドラジン樹脂に変換
することにより使用できる。具体的にはアンバーリスト
Ａ−１５（ローム＆ハース社製）を用いて、Journal of
Organic Chemistry ４４巻 ４６３４頁（１９７９
年）に記載の方法により調製したもの、又は商業的に入
手可能なアルゴノート社製のポリスチレンスルホニルヒ
ドラジン樹脂を用いることが好ましい。このように、ケ
トン体の除去処理を行った後に工程−２の反応を行うこ
とにより、ケトン体由来物質を含まない３，５−ビスア
ルキルフェノールを得ることができ、純度を向上させる
ことができる。
【００３５】尚、出発物質のイソフタル酸エステル誘導
体（３）のうち、Ｒ1が水酸基保護基である化合物は、
商業的に入手可能な５−ヒドロキシイソフタル酸ジエス
テル誘導体の水酸基を常法により保護することにより得
ることができる。
体（３）のうち、Ｒ1が水酸基保護基である化合物は、
商業的に入手可能な５−ヒドロキシイソフタル酸ジエス
テル誘導体の水酸基を常法により保護することにより得
ることができる。
【００３６】工程−２ カルビノール化合物（１）を加水素分解し、所望により
水酸基保護基を脱離することにより、３，５−ビスアル
キルフェノール（２）を得ることができる。
水酸基保護基を脱離することにより、３，５−ビスアル
キルフェノール（２）を得ることができる。
【００３７】本工程で用いられる加水素分解反応は、例
えば、カルビノール化合物（１）を、１）エタノール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等の有機溶媒
に溶解し、触媒としてパラジウム−炭素、パラジウム
黒、水酸化パラジウム、酸化白金、好ましくはパラジウ
ム−炭素存在下、濃塩酸を加え、室温から加熱還流の温
度条件下、加水素分解する方法、２）液体アンモニアと
金属ナトリウムを用いるバーチ還元法等を用いることが
できる。
えば、カルビノール化合物（１）を、１）エタノール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール等の有機溶媒
に溶解し、触媒としてパラジウム−炭素、パラジウム
黒、水酸化パラジウム、酸化白金、好ましくはパラジウ
ム−炭素存在下、濃塩酸を加え、室温から加熱還流の温
度条件下、加水素分解する方法、２）液体アンモニアと
金属ナトリウムを用いるバーチ還元法等を用いることが
できる。
【００３８】ここで、Ｒ1の水酸基保護基が、ベンジル
基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカル
ボニル基等の加水素分解によって脱離する基である場合
には、加水素分解反応において当該保護基は同時に脱離
され、３，５−ビスアルキルフェノール（２）が得られ
る。一方、水酸基保護基として、前述したような加水素
分解によっては容易に脱離されない基を用いた場合に
は、加水素分解に続いて、酸又はアルカリ処理他、周知
の手段により脱保護を行えばよい。例えば酸又はアルカ
リ処理は、メタノール、エタノール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の含水系溶媒中で行わ
れ、酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ
化水素酸等の無機酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の有機スルホン酸、酢酸、シュウ酸等の有
機カルボン酸が用いられ、アルカリとしては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド等、ピペリジン、モルホリン等の有機
塩基等が用いられる。更に、酸又はアルカリ処理以外と
しては、例えば三塩化アルミニウム、三臭化ホウ素等の
ルイス酸処理が用いられる。
基、トリチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシカル
ボニル基等の加水素分解によって脱離する基である場合
には、加水素分解反応において当該保護基は同時に脱離
され、３，５−ビスアルキルフェノール（２）が得られ
る。一方、水酸基保護基として、前述したような加水素
分解によっては容易に脱離されない基を用いた場合に
は、加水素分解に続いて、酸又はアルカリ処理他、周知
の手段により脱保護を行えばよい。例えば酸又はアルカ
リ処理は、メタノール、エタノール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等の含水系溶媒中で行わ
れ、酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、ヨウ
化水素酸等の無機酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の有機スルホン酸、酢酸、シュウ酸等の有
機カルボン酸が用いられ、アルカリとしては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド等、ピペリジン、モルホリン等の有機
塩基等が用いられる。更に、酸又はアルカリ処理以外と
しては、例えば三塩化アルミニウム、三臭化ホウ素等の
ルイス酸処理が用いられる。
【００３９】また、目的物の単離は、有機合成化学で常
用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各
種クロマトグラフィー等により行うことができる。
用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各
種クロマトグラフィー等により行うことができる。
【００４０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明する。 参考例１ ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレー
トの合成 ジメチル ５−ヒドロキシイソフタレート（５０．０
ｇ，２３８mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５
００mL）溶液に炭酸カリウム（４２．４ｇ，３０７mmo
l）の存在下、臭化ベンジル（２９．５mL，２４８mmo
l）を滴下し、室温にて２時間攪拌後、水を加え、ジエ
チルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮
し、得られた固形物をジエチルエーテルより結晶化し、
ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートを無色針
状晶として６８．９ｇ（収率９６％）得た。
明する。 参考例１ ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレー
トの合成 ジメチル ５−ヒドロキシイソフタレート（５０．０
ｇ，２３８mmol）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５
００mL）溶液に炭酸カリウム（４２．４ｇ，３０７mmo
l）の存在下、臭化ベンジル（２９．５mL，２４８mmo
l）を滴下し、室温にて２時間攪拌後、水を加え、ジエ
チルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮
し、得られた固形物をジエチルエーテルより結晶化し、
ジメチル ５−ベンジルオキシイソフタレートを無色針
状晶として６８．９ｇ（収率９６％）得た。
【００４１】融点：９６−９７℃ IR(KBr)cm-1：3420, 2955, 1721, 1596, 1501, 1460.1 H-NMR(CDCl3)δ：3.94(6H,s), 5.15(2H,s), 7.33-7.46
(5H,m), 7.84(2H,s),8.30(1H,s). EIMS m/z：300(M+), 91(100) 元素分析：C17H16O5として 計算値：C,67.99; H,5.37 実測値：C,68.01; H,5.48
(5H,m), 7.84(2H,s),8.30(1H,s). EIMS m/z：300(M+), 91(100) 元素分析：C17H16O5として 計算値：C,67.99; H,5.37 実測値：C,68.01; H,5.48
【００４２】実施例１ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 アルゴン雰囲気下、ジメチル ５−ベンジルオキシイソ
フタレート（２８．６ｇ，９５．２mmol）を無水テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００mL）に溶解し、氷冷
下、メチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無
水ＴＨＦ溶液（５２０mL，５２３．３mmol）を滴下し、
３時間、加熱還流を行った。反応液にメタノール、水及
び１Ｎ ＨＣｌを加えた後、クロロホルムで抽出した。
有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノ
ール（１２００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニル
ヒドラジン樹脂（３７．３ｇ，１００．３mmol）を加え
て、室温にて３６時間振盪した。反応液を濾過後、濾液
を減圧濃縮し、得られた結晶をヘキサン−クロロホルム
より再結晶し、５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'
−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールを無色
針状晶として２６．６ｇ（収率９３％）得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 アルゴン雰囲気下、ジメチル ５−ベンジルオキシイソ
フタレート（２８．６ｇ，９５．２mmol）を無水テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００mL）に溶解し、氷冷
下、メチルマグネシウムブロミドの１２％（Ｗ／Ｖ）無
水ＴＨＦ溶液（５２０mL，５２３．３mmol）を滴下し、
３時間、加熱還流を行った。反応液にメタノール、水及
び１Ｎ ＨＣｌを加えた後、クロロホルムで抽出した。
有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノ
ール（１２００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニル
ヒドラジン樹脂（３７．３ｇ，１００．３mmol）を加え
て、室温にて３６時間振盪した。反応液を濾過後、濾液
を減圧濃縮し、得られた結晶をヘキサン−クロロホルム
より再結晶し、５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'
−テトラメチル−１，３−ベンゼンジメタノールを無色
針状晶として２６．６ｇ（収率９３％）得た。
【００４３】融点：１４６−１４７℃ IR(KBr)cm-1：3474, 3267, 2976, 1592, 1429, 1364.1 H-NMR(CDCl3)δ：1.58(12H,s), 5.08(2H,s), 7.02(2H,
s), 7.22(1H,s), 7.33(1H,t,J=7.0Hz), 7.39(2H,t,J=7.
0Hz), 7.45(2H,d,J=7.0Hz). EIMS m/z：300(M+), 91(100) 元素分析：C19H24O3として 計算値：C,75.97; H,8.05 実測値：C,75.92; H,8.04
s), 7.22(1H,s), 7.33(1H,t,J=7.0Hz), 7.39(2H,t,J=7.
0Hz), 7.45(2H,d,J=7.0Hz). EIMS m/z：300(M+), 91(100) 元素分析：C19H24O3として 計算値：C,75.97; H,8.05 実測値：C,75.92; H,8.04
【００４４】実施例２ ３，５−ジイソプロピルフェノールの合成 ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノール（２２．９ｇ，７６mm
ol）のエタノール（５００mL）溶液に、濃塩酸（２．６
mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（８．０ｇ）を加
え、水素雰囲気下、６０℃にて２３時間攪拌した。反応
液を濾過し、濾液を減圧濃縮し、３，５−ジイソプロピ
ルフェノールを固形物として１３．６ｇ（収率１００
％）得た。これをヘキサンから結晶化し無色針状晶を得
た。
−１，３−ベンゼンジメタノール（２２．９ｇ，７６mm
ol）のエタノール（５００mL）溶液に、濃塩酸（２．６
mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（８．０ｇ）を加
え、水素雰囲気下、６０℃にて２３時間攪拌した。反応
液を濾過し、濾液を減圧濃縮し、３，５−ジイソプロピ
ルフェノールを固形物として１３．６ｇ（収率１００
％）得た。これをヘキサンから結晶化し無色針状晶を得
た。
【００４５】融点：５１−５２℃ IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 1595.1 H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sep
t,J=7.0Hz), 6.53(2H,s), 6.67(1H,s) EIMS m/z：178(M+), 163(100)
t,J=7.0Hz), 6.53(2H,s), 6.67(1H,s) EIMS m/z：178(M+), 163(100)
【００４６】実施例３ ５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−
１，３−ベンゼンジメタノールの合成 アルゴン雰囲気下、ジメチル５−ヒドロキシイソフタレ
ート（３１．５ｇ，１５０．０mmol）の無水ＴＨＦ（１
５００mL）溶液にメチルマグネシウムブロミドの１２％
（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ（９６９mL，９７５．０mmol）を
氷冷下、滴下した。滴下後、反応液を３時間加熱還流し
放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え過剰の
グリニャール試薬を失活させ、続いて水及び１Ｎ ＨＣ
ｌを順次加え希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノー
ル（１５００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒ
ドラジン樹脂（９０．３ｇ，２８５．３mmol）を加え、
室温で２４時間振盪した。樹脂を濾別し、これをメタノ
ールで洗浄し、濾液を併せて減圧濃縮した。得られた白
色固形物をヘキサン−ジエチルエーテルより結晶化し、
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−
１，３−ベンゼンジメタノール２０．６ｇ（収率６５．
３％）を無色針状晶として得た。
１，３−ベンゼンジメタノールの合成 アルゴン雰囲気下、ジメチル５−ヒドロキシイソフタレ
ート（３１．５ｇ，１５０．０mmol）の無水ＴＨＦ（１
５００mL）溶液にメチルマグネシウムブロミドの１２％
（Ｗ／Ｖ）無水ＴＨＦ（９６９mL，９７５．０mmol）を
氷冷下、滴下した。滴下後、反応液を３時間加熱還流し
放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え過剰の
グリニャール試薬を失活させ、続いて水及び１Ｎ ＨＣ
ｌを順次加え希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をメタノー
ル（１５００mL）に溶解し、ポリスチレンスルホニルヒ
ドラジン樹脂（９０．３ｇ，２８５．３mmol）を加え、
室温で２４時間振盪した。樹脂を濾別し、これをメタノ
ールで洗浄し、濾液を併せて減圧濃縮した。得られた白
色固形物をヘキサン−ジエチルエーテルより結晶化し、
５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−
１，３−ベンゼンジメタノール２０．６ｇ（収率６５．
３％）を無色針状晶として得た。
【００４７】融点：１３７−１３８℃ IR(KBr)cm-1：3358, 3227, 2973, 1606, 1503, 1432.1 H-NMR(CDCl3)δ：1.57(12H,s), 6.88(2H,s), 7.15(1H,
s). EIMS m/z:210(M+), 177(100) 元素分析：C12H18O3として 計算値：C,68.55, H,8.63 実測値：C,68.40, H,8.52
s). EIMS m/z:210(M+), 177(100) 元素分析：C12H18O3として 計算値：C,68.55, H,8.63 実測値：C,68.40, H,8.52
【００４８】実施例４ ３，５−ジイソプロピルフェノールの合成 ５−ヒドロキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル−
１，３−ベンゼンジメタノール（２０．０ｇ，９５．１
mmol）のエタノール（６００mL）溶液に、濃塩酸（１
２．０mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（１１．０
ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で２２時間攪拌した。
反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた白
色固形物をヘキサンより結晶化し、３，５−ジイソプロ
ピルフェノール１６．５ｇ（収率９７．３％）を無色針
状晶として得た。
１，３−ベンゼンジメタノール（２０．０ｇ，９５．１
mmol）のエタノール（６００mL）溶液に、濃塩酸（１
２．０mL）及び１０％パラジウム−炭素触媒（１１．０
ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で２２時間攪拌した。
反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた白
色固形物をヘキサンより結晶化し、３，５−ジイソプロ
ピルフェノール１６．５ｇ（収率９７．３％）を無色針
状晶として得た。
【００４９】融点：５１−５２℃ IR(KBr)cm-1：3307, 2961, 2926, 2869, 1618, 15951 H-NMR(CDCl3)δ：1.22(12H,d,J=7.0Hz), 2.83(2H,sep
t,J=7.0Hz), 6.53(2H,s),6.67(1H,s). EIMS m/z:178(M+) 163(100)
t,J=7.0Hz), 6.53(2H,s),6.67(1H,s). EIMS m/z:178(M+) 163(100)
【００５０】実施例５ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにエチルマグネシ
ウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目
的物を淡黄色油状物として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにエチルマグネシ
ウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し目
的物を淡黄色油状物として得た。
【００５１】IR(film)cm-1:3474, 2969, 2937, 2879, 1
593, 1498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.74(12H,t,J=7.4Hz), 1.78(4H,dq,J=
14.3,7.4Hz), 1.85(4H, dq,J=14.3,7.4Hz), 5.07(2H,
s), 6.90(2H,s), 6.92(1H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.
38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
593, 1498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.74(12H,t,J=7.4Hz), 1.78(4H,dq,J=
14.3,7.4Hz), 1.85(4H, dq,J=14.3,7.4Hz), 5.07(2H,
s), 6.90(2H,s), 6.92(1H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.
38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５２】実施例６ ３，５−ビス（１−エチルプロピル）フェノールの合成 ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−
ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・
処理し目的物を無色針状晶として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラエチル−１，３−
ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・
処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００５３】IR(KBr)cm-1:3350, 2962, 2924, 2872, 16
18, 1597.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,t,J=7.4Hz), 1.44-1.56(4H,
m), 1.58-1.70(4H,m),2.22(2H,tt,J=9.2,5.3Hz), 4.52
(1H,s), 6.43(2H,s), 6.48(1H,s).
18, 1597.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,t,J=7.4Hz), 1.44-1.56(4H,
m), 1.58-1.70(4H,m),2.22(2H,tt,J=9.2,5.3Hz), 4.52
(1H,s), 6.43(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５４】実施例７ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピ
ル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-プロビルマグ
ネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理
し目的物を淡黄色油状物として得た。
ル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-プロビルマグ
ネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理
し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５５】IR(film)cm-1:3470, 2958, 2934, 2872, 1
593, 1498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.84(12H,t,J=7.3Hz), 0.99-1.11(4H,
m), 1.21-1.34(4H,m),1.72(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 1.78
(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 5.07(2H,s), 6.88(2H,s), 6.92
(1H,s), 7.32(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.
45(2H,d,J=7.2Hz).
593, 1498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.84(12H,t,J=7.3Hz), 0.99-1.11(4H,
m), 1.21-1.34(4H,m),1.72(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 1.78
(4H,dt,J=14.1,5.1Hz), 5.07(2H,s), 6.88(2H,s), 6.92
(1H,s), 7.32(1H,t,J=7.2Hz), 7.38(2H,t,J=7.2Hz), 7.
45(2H,d,J=7.2Hz).
【００５６】実施例８ ３，５−ビス（１−プロピルブチル）フェノールの合成 ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３
−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応
・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラプロピル−１，３
−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応
・処理し目的物を淡黄色油状物として得た。
【００５７】IR(film)cm-1:3348, 2957, 2929, 1617, 1
595, 1502.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.83(12H,t,J=7.3Hz), 1.08-1.22(8H,
m), 1.41-1.60(8H,m),2.42(2H,tt,J=9.4,5.7Hz), 4.59
(1H,br.s), 6.42(2H,s), 6.48(1H,s).
595, 1502.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.83(12H,t,J=7.3Hz), 1.08-1.22(8H,
m), 1.41-1.60(8H,m),2.42(2H,tt,J=9.4,5.7Hz), 4.59
(1H,br.s), 6.42(2H,s), 6.48(1H,s).
【００５８】実施例９ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-ブチルマグネ
シウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し
目的物を無色粉末晶として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにn-ブチルマグネ
シウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し
目的物を無色粉末晶として得た。
【００５９】IR(KBr)cm-1:3466, 2957, 2933, 1609, 15
94, 1499.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.82(12H,t,J=7.2Hz), 0.92-1.07(4H,
m), 1.13-1.32(12H,m), 1.68-1.86 (8H,m), 5.08(2H,
s), 6.89(1H,s), 6.90(2H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.
38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
94, 1499.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.82(12H,t,J=7.2Hz), 0.92-1.07(4H,
m), 1.13-1.32(12H,m), 1.68-1.86 (8H,m), 5.08(2H,
s), 6.89(1H,s), 6.90(2H,s), 7.31(1H,t,J=7.2Hz), 7.
38(2H,t,J=7.2Hz), 7.45(2H,d,J=7.2Hz).
【００６０】実施例１０ ３，５−ビス（１−ブチルペンチル）フェノールの合成 ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−
ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・
処理し目的物を無色針状晶として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラブチル−１，３−
ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応・
処理し目的物を無色針状晶として得た。
【００６１】IR(film)cm-1:3355, 2957, 2927, 1616, 1
597.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.81(12H,t,J=7.3Hz), 1.05-1.33(12
H,m), 1.43-1.63(8H,m), 2.37(2H,tt,J=9.1,5.1Hz), 4.
52(1H,s), 6.42(2H,s), 6.47 (1H,s).
597.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.81(12H,t,J=7.3Hz), 1.05-1.33(12
H,m), 1.43-1.63(8H,m), 2.37(2H,tt,J=9.1,5.1Hz), 4.
52(1H,s), 6.42(2H,s), 6.47 (1H,s).
【００６２】実施例１１ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプ
ロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにイソプロピルマ
グネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処
理し目的物を無色油状物として得た。
ロピル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにイソプロピルマ
グネシウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処
理し目的物を無色油状物として得た。
【００６３】IR(film)cm-1:3536, 2968, 2936, 1591, 1
498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,d,J=6.8Hz), 0.83(12H,d,J=
6.8Hz), 2.26(4H,sept,J=6.8Hz), 5.08(2H,s), 6.91(1
H,s), 6.94(2H,s), 7.30(1H,t,J=7.3Hz), 7.37(2H,t,J=
7.3Hz), 7.45(2H,d,J=7.3Hz).
498.1 H-NMR(CDCl3)δ:0.76(12H,d,J=6.8Hz), 0.83(12H,d,J=
6.8Hz), 2.26(4H,sept,J=6.8Hz), 5.08(2H,s), 6.91(1
H,s), 6.94(2H,s), 7.30(1H,t,J=7.3Hz), 7.37(2H,t,J=
7.3Hz), 7.45(2H,d,J=7.3Hz).
【００６４】実施例１２ ３，５−ビス（１−イソプロピル−２−メチルプロピ
ル）フェノール ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−
１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様
に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
ル）フェノール ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトライソプロピル−
１，３−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様
に反応・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６５】IR(film)cm-1:3385, 2958, 2928, 1614, 1
593, 1489.1 H-NMR(CD3OD)δ:0.66(12H,d,J=6.6Hz), 0.76(12H,d,J=
6.6Hz), 1.88(2H,t,J=6.6Hz), 1.99(4H,oct,J=6.6Hz),
6.23(1H,s), 6.29(2H,s).
593, 1489.1 H-NMR(CD3OD)δ:0.66(12H,d,J=6.6Hz), 0.76(12H,d,J=
6.6Hz), 1.88(2H,t,J=6.6Hz), 1.99(4H,oct,J=6.6Hz),
6.23(1H,s), 6.29(2H,s).
【００６６】実施例１３ ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニ
ル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにフェニルマグネ
シウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し
目的物を無色油状物として得た。
ル−１，３−ベンゼンジメタノールの合成 メチルマグネシウムブロミドの代わりにフェニルマグネ
シウムブロミドを用いて実施例１と同様に反応・処理し
目的物を無色油状物として得た。
【００６７】IR(film)cm-1:3558, 3467, 3061, 3032, 1
593, 1492.1 H-NMR(CDCl3)δ:2.72(2H,br.s), 4.87(2H,s), 6.82(1
H,s), 6.85(2H,s), 7.17-7.33(25H,m).
593, 1492.1 H-NMR(CDCl3)δ:2.72(2H,br.s), 4.87(2H,s), 6.82(1
H,s), 6.85(2H,s), 7.17-7.33(25H,m).
【００６８】実施例１４ ３，５−ジベンズヒドリルフェノールの合成 ５−ベンジルオキシ−α，α，α'，α'−テトラメチル
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３
−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応
・処理し目的物を無色油状物として得た。
−１，３−ベンゼンジメタノールの代わりに５−ベンジ
ルオキシ−α，α，α'，α'−テトラフェニル−１，３
−ベンゼンジメタノールを用いて実施例２と同様に反応
・処理し目的物を無色油状物として得た。
【００６９】IR(film)cm-1:3536, 3410, 3061, 3026, 1
597, 1494.1 H-NMR(CDCl3)δ:4.52(1H,br.s), 5.40(2H,s), 6.37(2
H,s), 6.57(1H,s), 7.05(8H,dd,J=8.3,1.5Hz), 7.15-7.
26(12H,m).
597, 1494.1 H-NMR(CDCl3)δ:4.52(1H,br.s), 5.40(2H,s), 6.37(2
H,s), 6.57(1H,s), 7.05(8H,dd,J=8.3,1.5Hz), 7.15-7.
26(12H,m).
【００７０】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、医薬及び農薬
の合成中間体として重要な３，５−ジイソプロピルフェ
ノール等を短工程で効率よく安全に、しかも高純度且つ
高収率で得ることができ、当該医薬及び農薬の安定供給
に寄与する。
の合成中間体として重要な３，５−ジイソプロピルフェ
ノール等を短工程で効率よく安全に、しかも高純度且つ
高収率で得ることができ、当該医薬及び農薬の安定供給
に寄与する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 徹 東京都東村山市野口町２−17−43 興和東 村山荘408 (72)発明者 小野木 和弘 埼玉県入間市扇台６−２−７ Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AB84 AC13 AC26 AC41 FC52 FE13
Claims (7)
- 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は
置換基を有していてもよいフェニル基を示す。〕 で表されるカルビノール化合物。 - 【請求項２】 次の一般式（１） 【化２】 〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は
置換基を有していてもよいフェニル基を示す。〕 で表されるカルビノール化合物を加水素分解し、所望に
より水酸基保護基を脱離することを特徴とする次の一般
式（２） 【化３】 〔式中、Ｒ2は前記と同じものを示す。〕 で表される３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。 - 【請求項３】 次の一般式（３） 【化４】 〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキ
ル基、アラルキル基又はアリール基を示す。〕 で表されるイソフタル酸エステル誘導体に、金属アルキ
ル化試薬を反応させることを特徴とする、次の一般式
（１） 【化５】 〔式中、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換
基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ1は前記と
同じものを示す。〕 で表されるカルビノール化合物の製造法。 - 【請求項４】 スルホニルヒドラジン樹脂を用いた副生
成物の吸着処理を含むものである請求項３記載のカルビ
ノール化合物の製造法。 - 【請求項５】 次の一般式（３） 【化６】 〔式中、Ｒ1は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ
土類金属原子又は水酸基保護基（但し、メチル基を除
く）を示し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって低級アルキ
ル基、アラルキル基又はアリール基を示す。〕 で表されるイソフタル酸エステル誘導体に、金属アルキ
ル化試薬を反応させて、次の一般式（１） 【化７】 〔式中、Ｒ2は炭素数１〜５の低級アルキル基又は置換
基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ1は前記と
同じものを示す。〕 で表されるカルビノール化合物とし（工程−１）、次い
で、これを加水素分解し、所望により水酸基保護基を脱
離すること（工程−２）を特徴とする次の一般式（２） 【化８】 〔式中、Ｒ2は前記と同じものを示す。〕 で示される３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。 - 【請求項６】 工程−１において、スルホニルヒドラジ
ン樹脂を用いた副生成物の吸着処理を含むものである請
求項５記載の３，５−ビスアルキルフェノールの製造
法。 - 【請求項７】 一般式（１）及び（２）において、Ｒ2
がメチル基である請求項２、５及び６のいずれか１項記
載の３，５−ビスアルキルフェノールの製造法。
Priority Applications (6)
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| AT01970181T ATE359990T1 (de) | 2000-09-21 | 2001-09-21 | Verfahren zur herstellung von 3,5- bisalkylphenolen |
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