JP4617685B2 - 溶融紡糸装置およびその製造方法ならびにそれを用いた溶融紡糸方法 - Google Patents
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Description
(1)前記蒸着膜の膜厚が0.5〜15μmであること。
(2)前記FHC(フローリックハードコート)もしくはCFC(フッ化カーボンコート)のフッ素添加量が2%以上であること。
(3)前記B(硼素)、Ti(チタン)、Cr(クロム)、Si(シリコン)の不純物含有率が0.01%以下であること。
(1)PVD法:主な装置としてイオン化蒸着装置、イオンプレーティング蒸着装置、スパッタリング装置、アークイオンプレーティング装置等を用いる。蒸着させたい金属基材に真空環境下でプラス電荷を帯びた原子をイオン状態にして、これを強い電位のエネルギーを利用してマイナス電圧を金属基材に印加し金属基材表面に高速でイオンを引き寄せ蒸着コーティングさせる。
(2)CVD法:PVD法と同じく真空炉を用い、例えば、熱CVD装置または直流プラズマCVD装置、高周波プラズマCVD装置などが用いられる。蒸着させたい金属基材に常圧、減圧容器内で高温に加熱し金属基材に原料ガスを接触させて化学反応によって金属基材表面に蒸着コーティングさせる方法である。この時の真空度は、先ず1〜10-5Torrに到達させた後、反応ガスを導入し最終的には常圧〜10-3Torrで処理する。熱プラズマ装置での処理温度は500〜1200℃、好ましくは500〜600℃である。また、直流プラズマCVD装置、高周波プラズマCVD装置での処理温度は100〜400℃であり、PVD装置と同等の低温成膜が可能である。蒸着処理時間は蒸着膜の厚みにもよって変化させるが、通常は1〜5時間である。
(1)FHC(フローリックハードコート):PVD法のイオンプレーティング装置で成膜処理する。真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにし、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。CF系ガス(CF4またはC3F8)を導入ノズルより真空炉内に導入する。熱フィラメントで電圧もしくは高周波をかけることでプラズマを発生させCF系ガスをイオン化する。活発に運動する熱電子に正の電圧をかけることで陽イオンとなった蒸発粒子は、直流の負電圧にバイアスされた溶融紡糸部材に向かって加速し衝突する。溶融紡糸部材表面に到達した蒸発粒子は急速に冷却されて固化し成膜する。また、処理時の真空炉の温度は100〜400℃、好ましくは100〜250℃で処理する。
(3)DLC(ダイヤモンドライクカーボン):PVD法のイオンプレーティング装置で成膜処理する方法とCVD法のP−CVD装置で成膜する方法がある。まず該PVD法のイオンプレーティング装置で成膜処理する。真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにし、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。CH系ガス(C6H6、C2H2またはCH4)を導入ノズルより真空炉内に導入する。熱フィラメントで電圧もしくは高周波をかけることでプラズマを発生させCH系ガスをイオン化する。活発に運動する熱電子に正の電圧をかけることで陽イオンとなった蒸発粒子は、直流の負電圧にバイアスされた溶融紡糸部材に向かって加速し衝突する。溶融紡糸部材表面に到達した蒸発粒子は急速に冷却されて固化し成膜する。また、処理時の真空炉の温度は100〜400℃、好ましくは100〜250℃で処理する。 次にCVD法のP−CVD装置で成膜する方法では、真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにして、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。CH系ガス(C6H6、C2H2またはCH4)を導入ノズルより真空炉内に導入する。溶融紡糸部材に13.56MHzまたは27.12MHzの高周波もしくはDC電圧を印加し、あるいは、電極に高周波を印可し、さらに溶融紡糸部材にDC電圧を印可し溶融紡糸部材の周辺にプラズマを発生させる。CFガスとCH系ガスは直流の負電圧にバイアスされた溶融紡糸部材に向かって電界加速され直進する。溶融紡糸部材表面に到達した蒸発粒子は急速に冷却されて固化し成膜する。また、処理時の真空炉の温度は100〜400℃、好ましくは100〜250℃で処理する。
(4)TiBN(窒化チタン硼素):PVD法のアークイオンプレーティング蒸着装置(AIP)またはスパッタリング蒸着装置で成膜処理する。真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにし、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。電極に電圧を加えるとグロー放電が起き、スパッタガスにはアルゴン(Ar)を用い、硼素(B)と窒化チタン(TiN)の金属をターゲットを用いるか、TiB(チタン硼素)またはTiBN(窒化チタン硼素)の金属ターゲットを用いる。前記金属ターゲット表面をプラズマが激しくスパッタすることで金属ターゲットの原子をはじき出し蒸着粒子がイオンとなる。そこに窒素ガスを導入する。真空炉の温度は200〜400℃、好ましくは200〜250℃で処理する。これを強い電位のエネルギーを利用してマイナス電荷を溶融紡糸部材に流し金属基材表面に高速で原子を引き寄せ溶融紡糸部材表面に成膜する。
(5)CrBN(窒化クロム硼素):PVD法のアークイオンプレーティング蒸着装置(AIP)またはスパッタリング蒸着装置で成膜処理する。真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにし、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。電極に電圧を加えるとグロー放電が起き、スパッタガスにはアルゴン(Ar)を用い、硼素(B)と窒化クロム(CrN)の金属をターゲットを用いるか、CrB(クロム硼素)またはCrBN(窒化チタン硼素)の金属ターゲットを用いる。もしくは硼素(B)とクロム(Cr)ターゲットを用いる前記金属ターゲット表面をプラズマが激しくスパッタすることで金属ターゲットの原子をはじき出し蒸着粒子がイオンとなる。そこに窒素ガスを導入する。真空炉の温度は200〜400℃、好ましくは200〜250℃で処理する。これを強い電位のエネルギーを利用してマイナス電荷を溶融紡糸部材に流し金属基材表面に高速で原子を引き寄せ溶融紡糸部材表面に成膜する。
(6)SiBN(窒化シリコン硼素):PVD法のアークイオンプレーティング蒸着装置(AIP)またはスパッタリング蒸着装置で成膜処理する。真空炉の回転テーブルに溶融紡糸部材をセットし30〜100rpmで正逆転のいずれか一定方向に回転させる。真空ポンプにて真空引きし真空度を10-3〜10-6Torrにし、アルゴンガス(Ar)を導入し、真空度を10-2〜10-3Torrに制御しイオンクリーニングする。電極に電圧を加えるとグロー放電が起き、スパッタガスにはアルゴン(Ar)を用い、硼素(B)と窒化シリコン(SiN)の金属をターゲットを用いるか、SiB(クロム硼素)またはSiBN(窒化シリコン硼素)の金属ターゲットを用いる。もしくは硼素(B)とシリコン(Si)ターゲットを用いる前記金属ターゲット表面をプラズマが激しくスパッタすることで金属ターゲットの原子をはじき出し蒸着粒子がイオンとなる。そこに窒素ガスを導入する。真空炉の温度は200〜400℃、好ましくは200〜250℃で処理する。これを強い電位のエネルギーを利用してマイナス電荷を溶融紡糸部材に流し金属基材表面に高速で原子を引き寄せ溶融紡糸部材表面に成膜する。
(7)CrN(窒化クロム):PVD法のアークイオンプレーティング蒸着装置で成膜処理する。真空炉の真空度を10-6〜10-7Torrにし、そこに窒素ガスを導入する。真空炉の温度は200〜400℃、好ましくは200〜250℃で処理する。真空炉内のセンターにクロムを配置しアーク電源にてCrを局部的に溶融する。溶融されたクロムは真空環境下でベーパー化し、プラス電荷を帯びたクロム原子をイオン状態にして、これを強い電位のエネルギーを利用してマイナス電荷を溶融紡糸部材に流し金属基材表面に高速で原子を引き寄せ溶融紡糸部材表面に成膜する。
(1)蒸着膜硬度:蒸着膜形成部分をJIS−B7734のビッカース硬さ試験法で測定した。ビッカース硬さ試験機は(株)明石製作所製”MVK−E”を用いた。
(2)蒸着膜の厚み:(株)小坂研究所製の”Surfcorder”(SE1700)触針走査式粗さ測定器を用いて測定した。テストピースの一部にマスキングして於いて、蒸着真空炉にて蒸着加工を行う。蒸着処理後にテストピースを取り出し、蒸着部とマスキング部との段差を触針走査粗さ測定器で測定した。
(3)耐腐蝕性:溶融紡糸部材と同じ蒸着膜を施したテストピースを常温の5%水酸化ナトリウム水溶液に200時間浸積させた後、取り出して洗浄し、表面の腐蝕状態を観察した。下記のようにランクつけをした。
○・・・・腐蝕(変色)が若干ある状態
△・・・・腐蝕(変色)が部分的にある状態
×・・・・腐蝕(変色)が全面的にある状態
(4)溶融紡糸部材寿命:スクリュー、バレル、シリンダーに施した蒸着膜の摩耗消滅状態を目視で定期的に観察し、一部でも摩耗消滅の部分が発見されるまでの延紡糸日数を算出し溶融紡糸部材の寿命とした。延紡糸日数とは「紡糸日数×紡糸回数」である。なお、従来技術による比較例1の寿命を1として本発明効果を相対的に示した。
酢酸銅を銅として67ppm、沃化カリウム0.1重量%および臭化カリウム0.1重量%を含む硫酸相対粘度3.7のナイロン66ポリマーを、溶融温度300℃で溶融紡糸した。紡糸機はエクストルダー型紡糸機を用いて溶融し、溶融紡糸パック中で15μmの金属不織布フィルターを通して濾過した後、溶融紡糸口金の口金孔から紡糸した。
2:バレル
3:シリンダー
4:ポリマー管
5:計量ポンプ
6:紡糸パック
7:熱可塑性ポリマー供給口
8:冷却水出入り口
Claims (7)
- 熱可塑性ポリマーを溶融紡糸する装置であって、該装置を構成する溶融紡糸部材であるエクストルーダーのスクリュー、バレル、シリンダーの熱可塑性ポリマーと接触する表面の少なくとも一部がFHC(フローリックハードコート)、CFC(フッ化カーボンコート)、TiBN(窒化チタン硼素)、CrBN(窒化クロム硼素)、SiBN(窒化シリコン硼素)から選ばれた少なくとも1種からなる蒸着膜で形成されており、該蒸着膜の蒸着膜硬度(常温HV)が1500〜6000であることを特徴とする溶融紡糸装置。
- 前記蒸着膜の膜厚が0.5〜15μmであることを特徴とする請求項1の溶融紡糸装置。
- 有機ガスを原料とする蒸着膜を蒸着する溶融紡糸装置の製造方法に於いて、該溶融紡糸装置を構成するエクストルーダーのスクリュー、バレル、シリンダーの少なくとも一部に、真空下で基材の加速電圧を−100〜−3kVの範囲にコントロールするとともに、CF系ガスまたはCF系ガスとCH系ガスの有機ガス成分をイオン化し、FHC(フローリックハードコート)、CFC(フッ化カーボンコート)から選ばれるいずれか一種である蒸着膜を形成することを特徴とする溶融紡糸装置の製造方法。
- 前記FHC(フローリックハードコート)もしくはCFC(フッ化カーボンコート)のフッ素添加量が2%以上であることを特徴とする請求項3記載の溶融紡糸装置の製造方法。
- 金属を原料とする蒸着膜を蒸着する溶融紡糸装置の製造方法に於いて、溶融紡糸装置を構成するエクストルーダーのスクリュー、バレル、シリンダーの少なくとも一部に真空下で基材の加速電圧を−50〜−2kVの範囲にコントロールするとともに、B(硼素)と、Ti(チタン)、Cr(クロム)、Si(シリコン)から選ばれた少なくとも一種の金属成分をイオン化し、さらに窒素置換して、TiBN(窒化チタン硼素)、CrBN(窒化クロム硼素)、SiBN(窒化シリコン硼素)から選ばれた少なくとも1種からなる蒸着膜を形成することを特徴とする溶融紡糸装置の製造方法。
- 前記B(硼素)、Ti(チタン)、Cr(クロム)、Si(シリコン)の不純物含有率が0.01%以下であることを特徴とする請求項5記載の溶融紡糸装置の製造方法。
- 熱可塑性ポリマーの溶融紡糸方法であって、前記請求項1〜2のいずれか1項に記載の溶融紡糸装置を用いて溶融紡糸するか、前記請求項3〜6のいずれか記載の溶融防止装置の製造方法により溶融紡糸装置を製造し、これを用いて溶融紡糸することを特徴とする溶融紡糸方法。
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