JP4617349B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
CH1,CH2 化学系ユニット
SC 回転式塗布ユニット
SD 回転式現像ユニット
FF1,FF2,FF3 空気調整ユニット
CP 冷却ユニット
HP 加熱ユニット
AH 密着強化ユニット
PEB ベークユニット
EEW 周辺露光ユニット
SH 受け渡し室
IND,IND1,IND2 基板収納部
IF 中間受け渡し部
11,21 搬送ユニット
31 受け渡しユニット
10 カセット
100 開口部
200 隔壁
Claims (5)
- 互いに隣接する第1の処理空間および第2の処理空間を備え、
前記第1の処理空間内から前記第2の処理空間内に渡って延びるように受け渡し室が設けられ、
前記第1の処理空間と前記第2の処理空間との間に前記受け渡し室の領域を除いて隔壁が設けられ、前記第1の処理空間と前記第2の処理空間との雰囲気が前記隔壁および前記受け渡し室により遮断され、
前記受け渡し室内には、前記第1の処理空間と前記第2の処理空間との間で基板を搬送する受け渡し手段が設けられ、
前記第1の処理空間には、1または複数の第1の処理部と、基板を収納する基板収納部と、前記第1の処理部、前記受け渡し手段および前記基板収納部の間で基板を搬送する第1の搬送手段とが設けられ、
前記第2の処理空間には、1または複数の第2の処理部と、前記第2の処理部と前記受け渡し手段との間で基板を搬送する第2の搬送手段とが設けられ、
前記基板収納部は、前記第1の処理空間内で前記第1の処理部に対して前記第2の処理空間と反対側に配置され、前記第1の処理部による処理前の基板を収納するとともに前記第2の処理部による処理後の基板を収納し、
前記第1の処理部は、筐体を有し、前記筐体の内部で前記基板収納部に収納された処理前の基板に所定の処理を行い、
前記第1の処理部において前記第2の処理空間と反対側の前記筐体の面には、前記第1の搬送手段と基板の受け渡しを行うための基板出入口が設けられ、
前記第2の処理部は、筐体を有し、前記筐体の内部で前記第1の処理部による処理後の基板に所定の処理を行い、
前記第2の処理部において前記第1の処理空間と反対側の前記筐体の面には、前記第2の搬送手段と基板の受け渡しを行うための基板出入口が設けられたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1および第2の処理空間は、それぞれ上下方向に配置された複数の階層を備え、
前記第1の処理部は、前記複数の階層に複数設けられ、
前記第2の処理部は、前記複数の階層に複数設けられ、
前記第1の処理空間の下側の階層に配置される前記第1の処理部は、所定の処理液を用いて基板の処理を行う処理部であり、前記第1の処理空間の上側の階層に配置される前記第1の処理部は、基板に対して温度処理を行う処理部であり、
前記第2の処理空間の下側の階層に配置される前記第2の処理部は、所定の処理液を用いて基板の処理を行う処理部であり、前記第2の処理空間の上側の階層に配置される前記第2の処理部は、基板に対して温度処理を行う処理部であることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記第1の処理部は、前記筐体の内部で前記基板収納部に収納された処理前の基板に第1の洗浄液を用いた第1の洗浄処理を行い、
前記第2の処理部は、前記筐体の内部で前記第1の処理部による処理後の基板に第2の洗浄液を用いた第2の洗浄処理を行うことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記第1の処理空間および前記第2の処理空間は水平方向に並設され、前記受け渡し室は、前記第1の処理空間内から前記第2の処理空間内に渡って延びるように水平方向に配置されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記受け渡し室は、前記第1の処理空間および前記第2の処理空間の外部に面するように配設されたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
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JP2007336063A JP4617349B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | 基板処理装置 |
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JP4617349B2 true JP4617349B2 (ja) | 2011-01-26 |
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Family Applications (1)
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JP2007336063A Expired - Fee Related JP4617349B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | 基板処理装置 |
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Citations (5)
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JPH0817891A (ja) * | 1994-06-27 | 1996-01-19 | Hitachi Ltd | 半導体洗浄装置 |
JPH0945613A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-14 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JPH10144765A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-29 | Canon Sales Co Inc | 基板処理システム |
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2007
- 2007-12-27 JP JP2007336063A patent/JP4617349B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPH06338555A (ja) * | 1992-12-21 | 1994-12-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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