JP4613765B2 - エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
このEL装置によれば、接続手段の封止層によって、水分や酸素等の積層体(発光層)への侵入を遮断することができ、EL装置を長寿命化することができる。
本発明のEL装置の製造方法において、光を透過する複数の画素電極を透明基板の一側面に区画形成する画素電極形成工程と、光を透過する第1電極層と、該第1電極層を覆って光を反射する第2電極層と、第1電極層と第2電極層の間に形成された発光層とからなる積層体を軸体の表面に形成して発光棒を形成する発光棒形成工程と、複数の前記発光棒の各々における前記第1電極層を該発光棒に対応する画素電極に接続する発光棒接続工程とを含み、前記第2電極層は、前記複数の発光棒の各々に共通する共通電極であり、前記発光棒接続工程では、光反射性を有した導電性の取付面に複数の取付凹部が凹設された封止基板を用い、前記透明基板における前記一側面の法線方向と前記発光棒の軸心方向とが平行になるように、前記複数の取付凹部の各々に前記発光棒を取付けて、該発光棒の前記第2電極層を前記取付面に接続した後、前記封止基板と前記透明基板とを不活性ガスの減圧雰囲気下に搬送して、前記複数の発光棒の各々と前記複数の画素電極の各々とが対峙するように、前記封止基板と前記透明基板との間を封止層で封止する。
図1に示すように、エレクトロルミネッセンス装置(以下単に、「EL装置」という。)10には、四角形状に形成された透明基板11が備えられている。透明基板11は、無アルカリガラス等の透明無機材料、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート等の透明樹脂材料からなる基板である。
図2に示すように、各画素領域20の一側には、それぞれ制御素子を構成する第1トランジスタT1、第2トランジスタT2及び保持キャパシタCPが形成されている。
送層材料としては、ベンジジン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチリルアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、ピラゾリン誘導体、カルバゾール誘導体、ポルフィリン化合物等を利用することができる。高分子系の正孔輸送層材料としては、上記低分子構造を一部に含む(主鎖あるいは側鎖にする)高分子化合物、あるいはポリアニリン、ポリチオフェンビニレン、ポリチオフェン、α−ナフチルフェニルジアミン、「PEDOT」とポリスチレンスルホン酸との混合物(Baytron P、バイエル社商標)、トリフェニルアミンやエチレンジアミン等を分子核とした各種デンドリマー等を利用することができる。
する画素電極21に密着させている。そして、封止層29は、封止基板28と透明基板11との間の空間(第1トランジスタT1、第2トランジスタT2、保持キャパシタCP及びEL棒22等)を封止して、各画素領域20内への水分や酸素等の侵入を遮断するようになっている。
まず、透明基板11の素子形成面11aに画素電極21を形成する画素電極形成工程を行う。すなわち、図4に示すように、透明基板11の素子形成面11aに、公知のTFT製造技術を利用して、前記第1トランジスタT1、第2トランジスタT2、保持キャパシタCP、走査線12、データ線15、電源線17等を形成し、各画素領域20を形成する。そして、素子形成面11aの全体にわたり、前記「ITO」等の光透過性の導電材料を利用したスクリーン印刷法やインクジェット法等の液相プロセス、あるいは蒸着法やスパッタ法等の気相プロセスを施すことによって透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって、各画素領域20に対応する画素電極21を区画形成する。
3T側を、前記「F8T2」を含む液状体(発光層形成液26L)に浸漬して引き出す。そして、正孔輸送層25の外側面に堆積した発光層形成液26Lの液状膜26Fを乾燥することによって発光層26を形成する。つまり、発光層26は、前記正孔輸送層25と同じく、透明基板11から独立した製造工程によって形成される。
(1)上記実施形態によれば、光透過性の支持棒23の外表面全体に陽極24を形成し、陽極24の外側面に正孔輸送層25、発光層26及び陰極27を順次積層して四角柱状のEL棒22を形成した。そして、複数の前記EL棒22をそれぞれ対応する画素領域20上に配置し、各EL棒22の陽極24をそれぞれ対応する画素電極21に押圧する封止基板28及び封止層29を設けた。
・上記実施形態では、軸体を支持棒23として具体化したが、これに限らず、例えば陽極24を棒状に形成し、軸体を棒状の陽極24として具体化してもよい。
・上記実施形態では、積層体を、陽極24、正孔輸送層25、発光層26及び陰極27によって構成した。これに限らず、例えば正孔輸送層25を省略する構成にしてもよく、あるいは正孔輸送層25と陽極24との間に、対応する発光層26への正孔の注入効率を高めるための正孔注入層を形成する構成にしてもよい。さらには、正孔輸送層25と発光層26との間に、電子の移動を抑制する電子障壁層を形成する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、EL棒22に発光層26を一層のみ形成する構成にした。これに限らず、例えばEL棒22は、対応する発光層26と電荷発生層からなるユニットを複数積層した、いわゆるマルチフォトン構造であってもよい。
・上記実施形態では、EL棒22を四角柱状に具体化したが、これに限らず、例えば断面が三角形や五角形以上の多角形であってもよく、さらには断面が楕円形状や円形状であってもよい。
・上記実施形態において、EL棒22の発光層26を、それぞれ赤色に対応した波長領域の光を発光する赤色発光層、緑色に対応した波長領域の光を発光する緑色発光層、青色に対応した波長領域の光を発光する青色発光層によって構成してもよい。あるいは、カラーフィルタを配設する構成にして、表示面11bにフルカラーの画像を表示するようにしてもよい。
・上記実施形態では、陽極24、正孔輸送層25、発光層26及び陰極27を、それぞれ液相プロセスによって形成する構成したが、これに限らず、例えば蒸着成膜やスパッタ成膜等の気相プロセスによって形成する構成にしてもよい。
Claims (4)
- 光を透過する複数の画素電極が一側面に区画形成された透明基板と、
光を透過する第1電極層と、該第1電極層を覆って光を反射する第2電極層と、第1電極層と第2電極層の間に形成された発光層とからなる積層体が軸体の表面に形成された複数の発光棒と、
複数の前記発光棒を保持するとともに、複数の前記発光棒の各々における前記第1電極層を該発光棒に対応する前記画素電極に接続する接続手段とを備え、
前記第2電極層は、
前記複数の発光棒の各々に共通する共通電極であり、
前記接続手段は、
前記透明基板と対向する封止基板と、
前記封止基板と前記透明基板との間を封止する封止層とを有し、
前記封止基板は、
前記透明基板と対向して光反射性を有した導電性の取付面と、
前記取付面に形成されて前記画素電極と対向する位置に凹設された取付凹部とを有し、
前記取付凹部には、前記透明基板における前記一側面の法線方向と前記発光棒の軸心方向とが平行になるように第2電極層が接続され、
前記封止基板と前記透明基板との間が不活性ガスの減圧雰囲気である
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
前記画素電極は、該画素電極に対応する前記発光棒の発光を制御する制御素子を有してマトリックス状に配列された電極である
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1又は2に記載のエレクトロルミネッセンス装置において、
前記積層体は、少なくとも正孔輸送層、正孔障壁層、電子輸送層、電子障壁層のいずれか1つを含む
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置。 - 光を透過する複数の画素電極を透明基板の一側面に区画形成する画素電極形成工程と、
光を透過する第1電極層と、該第1電極層を覆って光を反射する第2電極層と、第1電極層と第2電極層の間に形成された発光層とからなる積層体を軸体の表面に形成して発光棒を形成する発光棒形成工程と、
複数の前記発光棒の各々における前記第1電極層を該発光棒に対応する前記画素電極に接続する発光棒接続工程とを含み、
前記第2電極層は、前記複数の発光棒の各々に共通する共通電極であり、
前記発光棒接続工程では、
光反射性を有した導電性の取付面に複数の取付凹部が凹設された封止基板を用い、
前記透明基板における前記一側面の法線方向と前記発光棒の軸心方向とが平行になるように、前記複数の取付凹部の各々に前記発光棒を取付けて、該発光棒の前記第2電極層を前記取付面に接続した後、
前記封止基板と前記透明基板とを不活性ガスの減圧雰囲気下に搬送して、前記複数の発光棒の各々と前記複数の画素電極の各々とが対峙するように、前記封止基板と前記透明基板との間を封止層で封止する
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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