JP4601368B2 - イオン加工装置 - Google Patents
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Description
1a 上壁部
2 蒸発源
2a 蒸発材料
2b ボート
3 加熱用コイル
4 加熱用電源
5 第1のリング部材
5a 接触面
5b 固定ボルト
6 支持部材
7 第2のリング部材
7a 回転支持部材
8 基材ホルダ
8a 回転軸体
8b 外周面
8c 導通用接触面
9 基材ホルダ反転機構
10 進退機構
10a 接続部材
10b 先端部
10c 反転用ロッド
11 回転軸体
12 回転駆動装置
12a モータ
12b 歯車
12c モータ固定部材
12d モータ架台
12e モータ固定部材固定ボルト
13 ハウジング
14 給電部
14a カーボンブラシ
15 マッチング回路
16 高周波電源
17 直流電源
18 ケーブル
19 回転軸
20 上部リング
21 絶縁支柱
22 下部リング
22a 電極
23 支柱
24 電極プレート
24a 下端固定ボルト
24b 上端固定ボルト
25 電極プレートカバー
26 SUS板カバー
27 電極軸
28 電極軸カバー
29 絶縁リング
29a 底部
29b 壁部
30 電極リング
31 スぺーサ
31a スぺーサ固定ボルト
32 絶縁板固定部材
32a 絶縁板固定部材固定ボルト
33a 上部軸受け
33b 下部軸受け
34 平歯車
35 オイルシール
36 絶縁板
37 アーム
38 リード
38a 第1のリード接続部
38b 第2のリード接続部
39 軸受け部材
39a 内周面
40 裏面カバー
40a 当接面
41 ブラシ支持部材
41a 第1の内周面
41b 第2の内周面
41c 接触面
42 ブラシ
42a 外周面
42b 溝部
42c 背面
42d 導通用接触面
42e 凸部
43 引き出し部
44 ピン
45 バネ体
100 イオンプレーティング装置(イオン加工装置)
101 給電機構(給電構造)
A 軸受け孔
B ブラシ用空間
B1 第1の円柱空間
B2 第2の円柱空間
C 貫通孔
C1,C2 回転中心
Claims (6)
- その内部で電力を用いて基材へのイオン加工を行うための導電性の真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部に配設され前記基材が装着される導電性の基材ホルダと、
前記真空チャンバの内部に前記電力を導入しかつ前記基材ホルダを回動自在に支持するための電力導入体と、
前記基材ホルダを前記真空チャンバの内部で反転させるための反転構造と、
前記電力導入体に電気的に接続され該電力導入体に前記電力を供給するための電源とを備えるイオン加工装置であって、
前記電力を前記電力導入体から前記基材ホルダに供給するための給電構造が、前記電力導入体に電気的に接続された導電性の給電ブラシを有し、
前記基材ホルダが該基材ホルダに電気的に接続されかつ該基材ホルダの反転軸と同軸状に配設された導電性の受電軸体を有し、
前記給電ブラシが、前記給電構造の内部においてブラシ支持部材に支持され、
前記受電軸体の先端部が、前記ブラシ支持部材の端部に密着された軸受け部材に嵌挿され、
前記給電ブラシと前記受電軸体の先端部との接触により、前記電源から前記電力が前記基材ホルダに対して供給され、前記受電軸体が前記軸受け部材に支持されて回転することにより、前記基材ホルダが反転する、イオン加工装置。 - 前記給電ブラシが平面状の給電面を備えかつ前記受電軸体が平面状の先端面を備え、前記給電面と前記先端面とが摺動自在に構成されている、請求項1記載のイオン加工装置。
- 前記給電ブラシが前記給電構造の内部で回動不能に配設されている、請求項1記載のイオン加工装置。
- 前記給電ブラシが前記給電構造の内部で変位可能に配設されている、請求項1記載のイオン加工装置。
- 伸縮可能なバネ体を前記給電構造の収容部内に摺動自在に有し、
前記バネ体の反発力により前記給電ブラシが前記受電軸体に対して付勢されている、請求項1記載のイオン加工装置。 - 前記電源としての高周波電力を供給可能な高周波電源と直流電力を供給可能な直流電源とを有し、
前記高周波電力及び前記直流電力が前記真空チャンバの内部で前記電力導入体から前記給電構造を介して前記基材ホルダに対して供給されて前記基材に成膜する、請求項1乃至5の何れかに記載のイオン加工装置。
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