JP4597141B2 - エンアミド誘導体の新規合成方法 - Google Patents
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Description
本発明は、不斉の水素化反応に有益であるために、有効薬剤の重要中間体として知られる鏡像異性的に純粋なアミン誘導体の合成に有益な基質として有用なエンアミド誘導体の新規大量調製方法に関する。
例えば特許文献１等の従来技術にエンアミド前駆体の調製方法がいくつか記載されているが、これらの方法があまり一般的でなく大量製造には適さないことは明らかである。
非特許文献１及び２に、無水酢酸／酢酸又は無水酢酸単独の存在下における金属鉄によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
特許文献２には、無水カルボン酸の存在下におけるルテニウム触媒によるオキシム誘導体の還元を含むエンアミド化合物の合成方法が記載されている。
しかし、これらの方法は、これらの条件下における生成物の分解、生成物の分離を促進する共溶媒の使用、エンアミドが不純で困難な精製を要すること、収率が低いか中程度であること等、いくらか制限がある。
従来技術の方法は、エンアミド誘導体の大量製造には好適でなく、従って、不斉の水素化によるキラル体のアミンの商業生産には適用不可能である。
国際特許ＷＯ９９／１８０６５号
アメリカ合衆国特許ＵＳ４１９４０５０号
Ｍ．Ｂｕｒｋら、ＪＯＣ，１９９８，６３，ｐ６０８４
Ｘ．Ｚｈａｎｇら、ＪＯＣ，１９９９，６４（６），ｐ１７７５
本発明の方法は、エンアミドを高収率で取得可能であり、生成物の分離が非常に容易であり、生成物の化学純度が良好であり、かつ、再現性があるという点で有利である。
本発明の方法は、不斉か又はそうでない水素化反応によるアミン誘導体の大量工業生産に好適であることが明白である。不斉か又はそうでない上記アミン誘導体は、有効医薬調製物の中間体として使用される。
本発明は、スキーム（Ｉ）で示す不均一系触媒の存在下における式（ＩＩＩ）のアシル誘導体による式（ＩＩ）の化合物の水素化異性化反応を含むことを特徴とする、式（Ｉ）の化合物の新規調製方法に関する。
式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル、アリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、シクロアルキル、アルキルアリール又はアリール基）であり、上記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、上記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル、アリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、シクロアルキル、アルキルアリール又はアリール基）であり、上記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、上記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない；
Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、
ｍは１又は２の整数である；
ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である。
本明細書中において、要求がない場合には以下である：
好ましくは、用語「アルキル基」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子１〜２０個を有する直鎖又は分岐のアルキル基を意味する。
好ましくは、用語「シクロアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキル基を意味する。
好ましくは、用語「シクロアルキルアルキル」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたシクロプロピルメチル、シクロヘキシルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子３〜２０個を有するシクロアルキルアルキル基を意味する。
好ましくは、用語「アリール」は、官能基若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフェニル、トリル、キシリル、クメニル、ナフチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアリール基を意味する、又は、「アリール」は、官能基若しくはＲ５若しくはアルキル若しくは縮合アリール基で任意に置換されたフリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピリジル、ピラジル（ｐｙｒａｚｙｌ）、ピリミジニル、インドリル、カルバゾリル、イソキサゾリル（ｉｓｏｘａｚｏｌｙｌ）、イソチアゾリル（ｉｓｏｔｈｉａｚｏｌｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ若しくはＳを含むヘテロアリール基を意味する。
好ましくは、用語「アルキルアリール」は、官能基又はＲ５で任意に置換されたベンジル、フェネチル、ナフチルメチル基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有するアルキルアリール基を意味する。
好ましくは、用語「複素環」は、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジル、イミダゾリジニル、ピペリジル、インドリニル（ｉｎｄｏｌｉｎｙｌ）基（これらに限定されないが）等の炭素原子６〜２０個を有し、一個以上のヘテロ原子Ｏ、Ｎ又はＳを含む複素環を意味し、上記複素環は飽和又は不飽和であり、上記複素環は官能基又はＲ５又は縮合アリール基で任意に置換されている。
用語「官能基」は、ハロゲン原子、又は、−ＯＨ、−ＯＲ５、−ＣＮ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＲ５、−ＣＯＮＲ５Ｒ６、−ＯＣＯＲ５、−ＮＨ２、−ＮＨＲ５、−ＮＲ５Ｒ６、−ＮＯ２、−ＳＨ、ＳＲ５を含み、Ｒ５及びＲ６が独立してアルキル、アルキルアリール若しくはアリール基であるか、又は、Ｒ５及びＲ６が一緒になって環を形成していてもよい基を意味する。
好ましくは、用語「脱離基」は、Ｒ５がアルキル、アルキルアリール又はアリール基である−ＣＯＲ５、−ＣＯ２Ｒ５、−ＳＯ２Ｒ５、−ＣＯＣＣｌ３、−ＳＯ２Ｆ、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２ＣＨ２ＣＦ３基の一つを意味する。
好ましくは、用語「環」は、下記式の化合物（これらに限定されないが）等の炭素原子４〜３０個を有する環構造を意味する：
式中、−Ｒ１−Ｒ２−は、官能基又は縮合アリール基で任意に置換されたメチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン結合である。
また本発明は、下記式で表わす最も好ましい化合物にも関する：
式中、ｎ１は０〜４の整数、ｍ１及びｍ２は各々０〜４の整数、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
式中、ｎ１及びｎ２は各々０〜４の整数、Ｑはアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル基であり、上記基は好ましくはα−又はβ−テトラロン−オキシム誘導体、α−又はβ−インダノン−オキシム誘導体等の少なくとも一つの官能基で置換されており又は置換されておらず、官能基で置換されている又は置換されていない。
式中、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８は上記に定義する通りであり、Ｒ９、Ｒ１０は独立して水素原子、官能基、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルキルアリール基である。
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３及びＱは上記に定義する通りであり、Ｒ１１は水素原子、アルキル、アリール基である。
式中、ｎ１、ｎ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＱは、上記に定義する通りである。
式中、
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である。
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、上記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ又はＦで置換されている又は置換されていない；
Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は同一又は異なって水素原子、官能基、アルキル、アリール基であるが同時に水素原子であることはなく、好ましくは、Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０は水素原子であり、Ｒ９はメトキシ基であり、Ｒ４はメチル基である。
また本発明は、医薬品として重要なアミン又はアミド誘導体を与える不斉か又はそうでない水素化反応において最も好ましい化合物の使用に関する。
不均一系触媒はＰｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ触媒、好ましくはＩｒ又はＲｈ等の金属に基づく。
不均一系触媒は、酸化物又は金属の状態で使用され、好適な担体（例えばＩｒ／炭素、Ｉｒ／アルミナ、Ｒｈ／炭素又はＲｈ／アルミナ）上に支持されていてもよい。
本発明の実施方法を以下に説明する。
式（ＩＩ）の化合物は、シン型、アンチ型、又は、両方の混合型で使用可能である。
式（ＩＩＩ）の化合物は、オキシム１モル等量に対して少なくとも２モル等量使用すべきであり、溶媒と共に反応薬剤として大量に使用してもよい。
使用する触媒の量は、オキシム誘導体１モルに対して０．００１〜３０モル％である。
本発明の方法は好適な溶媒中で実施する。
好適な溶媒は、（テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル等であるが、これらに制限されない）エーテル、又は、（ベンゼン、トルエン等であるが、これらに限定されない）芳香族炭化水素、又は、無水カルボン酸、又は、ハロゲン化炭化水素、又は、低分子量カルボン酸、又は、これらの混合物等の非プロトン性非塩基性溶媒である。
好適な溶媒は、（テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル等であるが、これらに制限されない）エーテル、又は、（ベンゼン、トルエン等であるが、これらに限定されない）芳香族炭化水素、又は、無水カルボン酸、又は、ハロゲン化炭化水素、又は、低分子量カルボン酸、又は、これらの混合物等の非プロトン性非塩基性溶媒である。
本発明の方法は−２０〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１２０℃の温度範囲で実施する。
本発明の水素化は、水素圧力０．５〜２０バールで実施する。
本発明の方法は、０．５〜２４時間の範囲で実施する。
本発明の方法は、式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子、好ましくは塩化物イオンを含有しない水で洗浄する段階を含む。
上記有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、アンモニウム、好ましくはリン酸塩から選択可能である。
上記洗浄段階により、ｐＨが中性の溶液を取得可能である。分離した生成物はハロゲンイオンを含有しない。上記ハロゲンイオンは、後の不斉の水素化反応中に触媒作用を妨害する可能性があるため、この反応の収率に影響を及ぼす可能性がある。従って、この洗浄段階により、次の不斉の水素化反応にとって良質の出発原料の取得が可能である。
本発明は、以下の実験の詳細からより深く理解可能であろう。
実施例：
本発明を次の例により説明するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものではない。
本発明を次の例により説明するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものではない。
β−テトラロンからのエンアミド
実施例１ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．７ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２１ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（３０．４ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．７ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２１ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（３０．４ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（６．１４ｇ、７４％）を得る。
実施例１ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．５ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで８〜１０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（４３．５ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム（７．２ｇ、０．０４７モル）を導入する。その後、無水酢酸（１３．５ｇ、０．１３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２９ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで８〜１０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換し、真空下で濃縮して、油状で褐色の残渣Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド（５．５ｇ、６６％）を得る。
実施例１ｃ：Ｉｒ／Ｃを使用するβ−テトラロンからのエンアミド
３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム５．５ｇ（０．０３４１モル）をＴＨＦ４２ｍｌ中に溶解した。その後、無水酢酸９．６６ｍｌを滴下した。この反応混合物を温度２０〜３０℃で２時間撹拌する。この反応混合物に５％Ｉｒ−炭素触媒０．４４ｇを添加する。その後、水素化を水素圧６バールで７５℃において３時間実施する。触媒をろ過した後、ろ液を減圧下で濃縮して乾燥させた。残渣をトルエン１２０ｍｌ中に溶解し、減圧下で濃縮して乾燥させた。この新しい残渣をＭＴＢＥ １０ｍｌ及びヘキサン９ｍｌの混合物中で再結晶させて生成物３．８２ｇ（化合物Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド）を得た。
３，４−ジヒドロ−１Ｈ−ナフタレン−２−オンオキシム５．５ｇ（０．０３４１モル）をＴＨＦ４２ｍｌ中に溶解した。その後、無水酢酸９．６６ｍｌを滴下した。この反応混合物を温度２０〜３０℃で２時間撹拌する。この反応混合物に５％Ｉｒ−炭素触媒０．４４ｇを添加する。その後、水素化を水素圧６バールで７５℃において３時間実施する。触媒をろ過した後、ろ液を減圧下で濃縮して乾燥させた。残渣をトルエン１２０ｍｌ中に溶解し、減圧下で濃縮して乾燥させた。この新しい残渣をＭＴＢＥ １０ｍｌ及びヘキサン９ｍｌの混合物中で再結晶させて生成物３．８２ｇ（化合物Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド）を得た。
粗収率：計量可能／分離収率：５９．９−％
化学純度（ＧＣ）：９８．９５％
化学純度（ＧＣ）：９８．９５％
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３−３．１（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，１Ｈ），７．２５−７．５（ｍ，４Ｈ），９．５（ｍ，ＯＨ）．
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３−３．１（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，１Ｈ），７．２５−７．５（ｍ，４Ｈ），９．５（ｍ，ＯＨ）．
酢酸オキシム（ｏｘｉｍｅ ａｃｅｔａｔｅ）：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．２（ｓ，３Ｈ），２．６５−２．９（ｍ，４Ｈ），３．６５（ｓ，１Ｈ），３．８５（ｓ，１Ｈ），７．１−７．２５（ｍ，４Ｈ）．
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．３（ｓ，３Ｈ），２．６−２．７５（ｔ，２Ｈ），３−３．１５（ｔ，２Ｈ），７．１５−７．３５（ｍ，５Ｈ），７．７５（ｍ，ＮＨ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６８，１３４，１３３，１３２．５，１２７，１２６，１２５．５，１２５，２７．５，２７，２４．
６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
実施例２ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−を出発原料として使用する以外は実施例１ｂと同様にして反応を実施する。収率は８３．８％である。
１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−を出発原料として使用する以外は実施例１ｂと同様にして反応を実施する。収率は８３．８％である。
化学純度は９８．４％である。
実施例２ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０〜７５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１〜２時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０〜７５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１〜２時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの褐色の結晶を得る（３．３４ｇ、７０％）。
実施例２ｃ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで７〜８時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び６−メトキシ−１−インダノンオキシム（４．５ｇ、０．０２５４モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．７８ｇ、０．０７６２モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．２２５ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで７〜８時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１５ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１３ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドの灰白色の結晶を得る（３．８２ｇ、８０％）。
実施例２ｄ：Ｒｈ／Ｃを使用する６−メトキシ−１−インダノンからのエンアミド
２５０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）及び１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−（１０ｇ、０．０５６モル）を導入する。その後、無水酢酸（１７．３ｇ、０．１７０モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌して５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４０ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加し、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）で洗浄する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２９ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２．２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、３０％ＮａＯＨでｐＨ６に調整したリン酸二水素ナトリウムバッファー（３７．８ｗ／ｗ）で有機層を洗浄する。
２５０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）及び１−インダノン−オキシム、メトキシ−６−（１０ｇ、０．０５６モル）を導入する。その後、無水酢酸（１７．３ｇ、０．１７０モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌して５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４０ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加し、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）で洗浄する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（２９ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２．２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、３０％ＮａＯＨでｐＨ６に調整したリン酸二水素ナトリウムバッファー（３７．８ｗ／ｗ）で有機層を洗浄する。
ＴＨＦを減圧下で蒸留し、トルエンで置換して真空下で濃縮し、油状で褐色の残渣Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミドを得る（６．６ｇ、５７．５％）。
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：２．７−２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．９（ｍ，１Ｈ），７（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，１Ｈ），１０．８（ｓ，ＯＨ）．
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：２．７−２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．９（ｍ，１Ｈ），７（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，１Ｈ），１０．８（ｓ，ＯＨ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １６５，１６２，１５０，１４７，１３７，１２７，１１２，６７，３４，３２．
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１５（ｓ，３Ｈ），２．９５（ｍ，４Ｈ），３．７（ｓ，３Ｈ），６．８５−６．９５（ｍ，１Ｈ），７，１−７．１５（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｍ，１Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１７１，１６８，１５８，１４３，１３５，１２６，１２２，１０５，５６，２９，２８，１９．
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３（ｓ，３Ｈ），３．６（ｓ，３Ｈ），４．１（ｄ，２Ｈ），７．５−７．６（ｄｄ，１Ｈ），７．６５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．１５ （ｄ，１Ｈ），８．４５（ｓ，１Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１５８，１４０，１３６，１３４，１２３，１１７，１１０，１０３，５５，３５，２３．
α−テトラロンからのエンアミド
実施例３ａ：Ｒｈ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５〜２０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで１５〜２０時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．７４ｇ、８４％）。
実施例３ｂ：Ｉｒ／Ｃを使用するα−テトラロンからのエンアミド
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１８０ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−オンオキシム（１０ｇ、０．０６２モル）を導入する。その後、無水酢酸（１９ｇ、０．１８６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．４ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（３０ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（４２ｇ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
ＴＨＦを減圧下で蒸留させ、トルエンで置き換える；懸濁液を５℃で１時間撹拌した後で沈殿をろ過により除去し、冷トルエン１０ｍｌで２回洗浄する。
結晶を真空下で５０℃において乾燥させ、Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミドを得る（９．１８ｇ、７９％）。
構造分析
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：１．６５−１．８（ｍ，２Ｈ），２．６−２．８（ｍ，４Ｈ），７．１−７．３（ｍ，３Ｈ），７．８−７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．１（ｓ，ＯＨ）．
オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ ２７０ＭＨｚ ＪＥＯＬ（ＤＭＳＯ）：１．６５−１．８（ｍ，２Ｈ），２．６−２．８（ｍ，４Ｈ），７．１−７．３（ｍ，３Ｈ），７．８−７．９５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．１（ｓ，ＯＨ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ １５２．５，１３７，１３２，１２９，１２８，１２６，１２３，２９，２３，２１．
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．２（ｓ，３Ｈ），３．６５−３．７５（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｍ，２Ｈ），８．０５−８．３（ｍ，３Ｈ），９．０５−９．１（ｄ，１Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１６２，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２７，１２６，２９，２６，２２，２０．
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．２５−２．４５（ｍ，２Ｈ），２．６５−２．８５（ｍ，２Ｈ），６．３（ｔ，１Ｈ），７．０５−７．３５（ｍ，４Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６９，１３７，１３２，１２７．５，１２７，１２６，１２１，１２０，２８，２４，２２．５．
２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
実施例４ａ：Ｉｒ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノンオキシム（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで２．５〜３時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノンオキシム（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｉｒ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を７０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで２．５〜３時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの油状の白色の残渣を得る（３．５ｇ、７７％）。
実施例４ｂ：Ｒｈ／Ｃを使用する２−フェニルシクロヘキサノンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノンオキシム（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を２５〜３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで５〜６時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−フェニルシクロヘキサノンオキシム（４ｇ、０．０２１１モル）を導入する。その後、無水酢酸（６．４７ｇ、０．０６３４モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１６ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を２５〜３０℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで５〜６時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１２ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１０．８ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミドの白色の結晶を得る（３．８６ｇ、８５％）。
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１．４−１．６５（ｍ，２Ｈ），１．７−１．８（ｍ，２Ｈ），１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．８−２．９５（ｍ，１Ｈ），４．１−４．５（ｍ，１Ｈ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：１．４−１．６５（ｍ，２Ｈ），１．７−１．８（ｍ，２Ｈ），１．９−２．２（ｍ，３Ｈ），２．８−２．９５（ｍ，１Ｈ），４．１−４．５（ｍ，１Ｈ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
酢酸オキシム：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．５５−１．７５（ｍ，４Ｈ），１．８５−２．１（ｍ，１Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．１７−２．３（ｍ，１Ｈ），２．４−２．５（ｍ，１Ｈ），２．７５−２．８７（ｍ，１Ｈ），３．８５−３．９１（ｔ，１Ｈ），７．１５−７．４（ｍ，５Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１９５，１７０，１６９，１３８，１２８，１２７．５，１２６，４６，３１，２７，２５，２２．５，２０．
エンアミド：＊１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．６５−１．８（ｍ，４Ｈ），２．３（ｓ， ２Ｈ），２．６（ｓ，２Ｈ），６．５５（ｓ，ＮＨ），７．１−７．４（ｍ，５Ｈ）．
＊１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１６７，１４１，１３１，１２８，１２７．５，１２６．５，１２６，３１，２７．５，２４，２２．５．
２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
Ｒｈ／Ｃを使用する２−メトキシ−７−テトラロンからのエンアミド
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−メトキシ−７−テトラロンオキシム（４．５ｇ、０．０２３５モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．２１ｇ、０．０７０６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１８ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１４ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１２ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
１００ｍｌの反応器中に、テトラヒドロフラン（２４ｍｌ）及び２−メトキシ−７−テトラロンオキシム（４．５ｇ、０．０２３５モル）を導入する。その後、無水酢酸（７．２１ｇ、０．０７０６モル）を２０〜２５℃で１５分間かけて添加する。この懸濁液を１時間撹拌し、５％Ｒｈ／Ｃ触媒（乾燥触媒）（０．１８ｇ、オキシムに対して４重量％）を添加する。この混合物を３０〜３５℃に加熱し、水素の流動を開始する。水素化は水素圧４バールで４〜５時間継続する。反応終了後、この懸濁液をろ過して触媒を除去し、触媒はＴＨＦで洗浄する。この溶液を水（１４ｍｌ）及びＮａＯＨ ３０％（１２ｍｌ）の混合物に５℃で１時間かけて添加し、２０℃で３０分間維持する。水相を捨て、有機層を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄する。
有機層を真空下で５０℃において濃縮し、Ｎ−（７−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミドの灰色の結晶を得る（４．２１ｇ、８２．５％）。
構造分析
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３．４５（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６５（ｍ，２Ｈ），７．１（ｍ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，ＯＨ）
オキシム：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．７−２．８（ｔ，１Ｈ），２．８５−２．９５（ｔ，１Ｈ），３．４５（ｓ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６５（ｍ，２Ｈ），７．１（ｍ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，ＯＨ）
酢酸オキシム：非分離
エンアミド：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：２．１（ｓ，３Ｈ），２．３５−２．４５（ｔ，２Ｈ），２．７−２．８５（ｔ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），６．６（ｍ，２Ｈ），６．９５（ｍ，１Ｈ），７．１（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｍ，ＮＨ）
Claims (11)
- 式（Ｉ）で表されるエンアミド誘導体：
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール、アリール、複素環、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、カルボキシル、カルバモイル、−ＣＯＮＲ５Ｒ６（式中、Ｒ５及びＲ６は独立してアルキル、アリールアルキル若しくはアリール基、又は、Ｒ５及びＲ６は一緒になって環を形成してもよい）、若しくは、−ＣＯＯＲ５基（式中、Ｒ５はアルキル、アルキルアリール、シクロアルキル又はアリール基）であり、
前記アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルアリール及びアリール基は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
又は、Ｒ１及びＲ２は一緒になって環（この用語はモノ−、ジ−及びそれ以上の多環構造を含む）を形成してもよく、前記環は官能基若しくはＲ５で置換されている若しくは置換されていない；
Ｒ４は水素原子、アルキル、アリール、アルキルアリール基であり、前記基はハロゲン原子Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＦで置換されている若しくは置換されていない）
：の製造方法であって、
Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ及びＮｉ触媒から選択される触媒の存在下における式（ＩＩＩ）（Ｒ４ＣＯ）ｍＸ（式中、Ｒ４は上記に定義する通りである；Ｘは酸素原子若しくは脱離基であり、かつ、ｍは１又は２の整数である；ｍが１である場合、Ｘは脱離基である；ｍが２である場合、Ｘは酸素原子である）のアシル誘導体による式（ＩＩ）のオキシム誘導体：
- 式（ＩＩＩ）の誘導体を、オキシム１モルに対して少なくとも２倍量使用する
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 前記触媒はＩｒ又はＲｈ触媒である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。 - 前記触媒は、酸化物又は金属の状態で使用し、担体上に支持されていてもよく、かつ、オキシム誘導体に対して０．００１〜３０モル％使用する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。 - 溶媒中で実施する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。 - 水素圧力０．５〜２０バールで実施する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。 - −２０〜１５０℃の温度範囲で実施する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。 - ２０〜１２０℃の温度範囲で実施する
ことを特徴とする請求項７に記載の方法。 - 式（Ｉ）の化合物の有機溶液のワークアップ段階、すなわち、有機又は無機塩を含有し、ハロゲン原子を含有しない水で洗浄する段階を更に含む
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。 - 有機又は無機塩は、リン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ギ酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩、及びアンモニウムから選択される
ことを特徴とする請求項９に記載の方法。 - Ｎ−（６−メトキシ−３Ｈ−インデン−１−イル）アセトアミド、
Ｎ（３，４−ジヒドロ−１−ナフタレニル）アセトアミド、
Ｎ−（３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド、
Ｎ−（２−フェニル−シクロヘキサ−１−エニル）アセトアミド、及び、
Ｎ−（７−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）アセトアミド
のいずれかのエンアミド化合物を製造することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP03293281A EP1547997A1 (en) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | New process for the synthesis of enamide derivatives |
| PCT/IB2004/004363 WO2005063687A2 (en) | 2003-12-22 | 2004-12-22 | New process for the synthesis of eneamide derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007517017A JP2007517017A (ja) | 2007-06-28 |
| JP4597141B2 true JP4597141B2 (ja) | 2010-12-15 |
Family
ID=34530825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006546407A Active JP4597141B2 (ja) | 2003-12-22 | 2004-12-22 | エンアミド誘導体の新規合成方法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7884243B2 (ja) |
| EP (3) | EP1547997A1 (ja) |
| JP (1) | JP4597141B2 (ja) |
| KR (1) | KR101155389B1 (ja) |
| CN (2) | CN101265210A (ja) |
| AT (1) | ATE484491T1 (ja) |
| DE (1) | DE602004029611D1 (ja) |
| DK (1) | DK1716097T3 (ja) |
| ES (1) | ES2354294T3 (ja) |
| IL (1) | IL176346A (ja) |
| PL (1) | PL1716097T3 (ja) |
| PT (1) | PT1716097E (ja) |
| SI (1) | SI1716097T1 (ja) |
| WO (1) | WO2005063687A2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7262326B2 (en) | 2004-09-08 | 2007-08-28 | Teva Pharmaceuticals Industries Ltd. | Process for the synthesis of indanylamine or aminotetralin derivatives and novel intermediates |
| US8097760B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-01-17 | Sunovion Pharmacuticals Inc. | Preparation of chiral amides and amines |
| CN101875590B (zh) * | 2010-07-19 | 2013-09-18 | 西北大学 | 一种烯酰胺类化合物的合成方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3375287A (en) * | 1961-08-30 | 1968-03-26 | Union Carbide Corp | Process for isomerizing ethylenically unsaturated compound possessing cycloaliphatic nucleus |
| US4194050A (en) * | 1976-04-30 | 1980-03-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing an enamide |
| JPS52133905A (en) * | 1976-04-30 | 1977-11-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of enamides |
| WO1999018065A1 (en) * | 1997-10-03 | 1999-04-15 | Chirotech Technology Limited | Chiral amines |
| US6737547B1 (en) * | 1998-12-31 | 2004-05-18 | Teva Pharmaceutical Industries, Ltd. | Compositions containing and methods of using N-acyl-1H-aminoindenes |
| US6635784B2 (en) * | 2000-09-29 | 2003-10-21 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of enantiomerically-enriched cyclopropylalanine derivates |
| EP1574498A1 (en) * | 2004-02-19 | 2005-09-14 | PPG-Sipsy | Process for the synthesis of substituted alpha-aminoindan derivatives |
-
2003
- 2003-12-22 EP EP03293281A patent/EP1547997A1/en not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-12-22 SI SI200431559T patent/SI1716097T1/sl unknown
- 2004-12-22 KR KR1020067011858A patent/KR101155389B1/ko active IP Right Grant
- 2004-12-22 CN CNA2008100912952A patent/CN101265210A/zh active Pending
- 2004-12-22 JP JP2006546407A patent/JP4597141B2/ja active Active
- 2004-12-22 DE DE602004029611T patent/DE602004029611D1/de active Active
- 2004-12-22 AT AT04806523T patent/ATE484491T1/de active
- 2004-12-22 PL PL04806523T patent/PL1716097T3/pl unknown
- 2004-12-22 US US10/583,902 patent/US7884243B2/en active Active
- 2004-12-22 WO PCT/IB2004/004363 patent/WO2005063687A2/en not_active Application Discontinuation
- 2004-12-22 EP EP04806523A patent/EP1716097B1/en active Active
- 2004-12-22 DK DK04806523.9T patent/DK1716097T3/da active
- 2004-12-22 EP EP07018349A patent/EP1897868A1/en not_active Withdrawn
- 2004-12-22 CN CN2004800386020A patent/CN1898194B/zh active Active
- 2004-12-22 ES ES04806523T patent/ES2354294T3/es active Active
- 2004-12-22 PT PT04806523T patent/PT1716097E/pt unknown
-
2006
- 2006-06-15 IL IL176346A patent/IL176346A/en active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SI1716097T1 (sl) | 2011-01-31 |
| JP2007517017A (ja) | 2007-06-28 |
| IL176346A0 (en) | 2006-10-05 |
| ATE484491T1 (de) | 2010-10-15 |
| CN1898194A (zh) | 2007-01-17 |
| EP1716097A2 (en) | 2006-11-02 |
| KR101155389B1 (ko) | 2012-06-20 |
| DE602004029611D1 (de) | 2010-11-25 |
| US20070129573A1 (en) | 2007-06-07 |
| CN1898194B (zh) | 2010-12-29 |
| WO2005063687A2 (en) | 2005-07-14 |
| PL1716097T3 (pl) | 2011-04-29 |
| KR20070057693A (ko) | 2007-06-07 |
| PT1716097E (pt) | 2011-01-17 |
| IL176346A (en) | 2011-01-31 |
| DK1716097T3 (da) | 2011-01-24 |
| WO2005063687A3 (en) | 2005-10-27 |
| EP1716097B1 (en) | 2010-10-13 |
| ES2354294T3 (es) | 2011-03-11 |
| EP1897868A1 (en) | 2008-03-12 |
| CN101265210A (zh) | 2008-09-17 |
| US7884243B2 (en) | 2011-02-08 |
| EP1547997A1 (en) | 2005-06-29 |
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|
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| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
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|
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|
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