JP4591349B2 - ４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法、その合成中間体およびその製法 - Google Patents
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Description
本発明は、４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の新規な製法に関する。４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩は、医薬・農薬等の合成原料として有用な化合物である。本発明は、また、２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネート及びその製法に関する。２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートは、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
従来、４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩を製造する方法としては、従来、テトラヒドロピラン−４−オン、アンモニウムアセテート、モレキュラーシーブ粉末及び水素化シアノホウ素ナトリウムをエタノール中で反応させて、４−アミノテトラヒドロピランを収率１２％で得る方法が開示されている（例えば、特表平１１−５１０１８０号公報（第６６〜６７頁）参照）。しかしながら、この方法では、大過剰のアンモニア源（例えば、アンモニウムアセテート）を使用しなければならず、又、反応系が複雑であるために反応操作が繁雑となる上、目的物の収率が低いという問題があった。
また、上記化合物の合成原料として使用することができる２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネート及びその製法については全く知られていなかった。
本発明の目的は、繁雑な操作を必要とせず、簡便な方法にて、４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩を製造出来る、工業的に好適な４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法を提供することである。
本発明の他の目的は、上記問題点を解決し、温和な条件下、簡便な方法によって、２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートを高収率で製造出来る、工業的に好適な２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネート及びその製法を提供することである。
本発明は、ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、一般式（２）：
式中、Ｒは、水素原子又は炭化水素基を表す、
で示される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解反応させることを特徴とする、一般式（１）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法に関する。
で示される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解反応させることを特徴とする、一般式（１）：
で示される４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法に関する。
本発明は、（Ａ）一般式（３）：
式中、Ｒは、前記と同義であり、Ｘは、脱離基を表す、
で示される４−置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて、一般式（２）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩とする第一工程、
（Ｂ）次いで、ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、該反応液中の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解させて、一般式（１）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩とする第二工程
を含んでなることを特徴とする、４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法に関する。
式中、Ｒは、前記と同義であり、Ｘは、脱離基を表す、
で示される４−置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて、一般式（２）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩とする第一工程、
（Ｂ）次いで、ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、該反応液中の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解させて、一般式（１）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩とする第二工程
を含んでなることを特徴とする、４−アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法に関する。
本発明は、また、前記一般式（２）：
式中、Ｒは、前記と同義である、
で示される２−置換−４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩に関する。
で示される２−置換−４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩に関する。
本発明は、更に、一般式（４）：
式中、Ｒ１は、炭化水素基を表し、Ｙは有機スルホン酸基を表す、
で示される２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートに関する。
で示される２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートに関する。
本発明は、又、３−ブテン−１−オールに、一般式（５）：
Ｒ１ＣＨＯ （５）
式中、Ｒ１は、前記と同義である、
で示されるアルデヒド化合物、その多量体又はアセタール体及び有機スルホン酸を反応させることを特徴とする、前記式（４）で示される２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートの製法に関する。
Ｒ１ＣＨＯ （５）
式中、Ｒ１は、前記と同義である、
で示されるアルデヒド化合物、その多量体又はアセタール体及び有機スルホン酸を反応させることを特徴とする、前記式（４）で示される２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートの製法に関する。
本発明の４−アミノテトラヒドロピラン化合物の製法において使用される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物は、前記の一般式（２）で示される。その一般式（２）において、Ｒは、水素原子又は炭化水素基であり、炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体も含む。本発明においては、これらの中でも、Ｒとして水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基が好ましい。
上記４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物の酸塩としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸の塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、サリチル酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸、フタル酸、イソフタル酸、安息香酸等の有機酸の塩等が挙げられる。
このような４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物としては、例えば、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−エチルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−ｎ−プロピルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−フェニルテトラヒドロピラン等が挙げられる。また、これらの塩としては、上記した酸の塩が挙げられ、好ましくは、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等が挙げられる。
このような４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物としては、例えば、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−エチルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−ｎ−プロピルテトラヒドロピラン、４−ヒドラジノ−２−フェニルテトラヒドロピラン等が挙げられる。また、これらの塩としては、上記した酸の塩が挙げられ、好ましくは、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等が挙げられる。
本発明の分解反応に使用するラネーニッケルとは、ニッケルとアルミニウムとを主成分とする合金であり、ニッケルの含有量が好ましくは１０〜９０質量％、更に好ましくは４０〜８０質量％が使用される。通常は、展開したラネーニッケルが使用されるが、種々の方法によって、前処理されたラネーニッケルや、安定化されたラネーニッケルも使用出来る。更に、ラネーニッケル中に、コバルト、鉄、鉛、クロム、チタン、モリブデン、バナジウム、マンガン、スズ、タングステン等のような金属が含まれているものも使用することが出来る。
前記ラネーニッケルの使用量は、ニッケル原子換算で、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩１ｇに対して、好ましくは０．０１〜１．０ｇ、更に好ましくは０．１〜０．５ｇである。
本発明の分解反応に使用する貴金属触媒とは、パラジウム及び白金の少なくとも一方を含む触媒であるが，具体的には、例えば、パラジウム／炭素、パラジウム／硫酸バリウム、水酸化パラジウム／炭素、白金／炭素、硫化白金／炭素、パラジウム−白金／炭素等が挙げられるが、好ましくはパラジウム／炭素、白金／炭素が使用される。なお、これらの貴金属触媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記貴金属触媒の使用量は、金属原子換算で、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩１ｇに対して、好ましくは０．０００２５〜０．５ｇ、更に好ましくは０．０００５〜０．０２５ｇである。
本発明の分解反応に使用する金属酸化物とは、様々な金属の酸化物が挙げられ、本発明の目的を達成できる限り特に限定されない。このような金属酸化物としては、好ましくは酸化銅（Ｉ）又は酸化銅（ＩＩ）が使用される。なお、金属酸化物は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記金属酸化物の使用量は、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩１ｇに対して、好ましくは０．０００２５〜０．５ｇ、更に好ましくは０．０００５〜０．０２５ｇである。
本発明の分解反応は溶媒中で行うのが好ましい。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙げられるが、好ましくは水、アルコール類、更に好ましくは水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等により適宜調節するが、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物１ｇに対して、好ましくは０．１〜１００ｍｌ、更に好ましくは１．０〜１０ｍｌである。
又、本発明の分解反応では、反応速度を高めるためや目的物の反応収率を高めるために、系内に水素ガスを存在させることが望ましい。
本発明の分解反応は、例えば、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩、ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の化合物及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは２０〜１２０℃、更に好ましくは５０〜１００℃であり、反応圧力は特に制限されないが、好ましくは０．１〜５ＭＰａ、更に好ましくは０．１〜２ＭＰａである。また、反応時間は、反応が完結する時間であればよく、特に限定されない。
なお、最終生成物である４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩は、例えば、反応終了後、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製される。なお、反応液中のラネーニッケルは、反応終了後、トリエチルアミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等のアミン類を用いて取り除くことが望ましい。
上記した分解反応により得られる４−アミノテトラヒドロピラン化合物としては、例えば、４−アミノテトラヒドロピラン、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン、４−アミノ−２−エチルテトラヒドロピラン、４−アミノ−２−ｎ−プロピルテトラヒドロピラン、４−アミノ−２−フェニルテトラヒドロピラン等が挙げられる。また、これらの塩としては、上記した酸の塩が挙げられ、好ましくは、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等が挙げられる。
上記分解反応において使用される式（２）で示される４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物は、以下の（Ａ）第一工程により製造することができる。
（Ａ）第一工程
本発明の第一工程は、４−置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を主生成物とする反応液を得る工程である。
本発明の第一工程は、４−置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を主生成物とする反応液を得る工程である。
本発明の第一工程において使用する４−置換テトラヒドロピラン化合物は、前記の一般式（３）で示される。その一般式（３）において、Ｒは、前記と同義である。
又、Ｘは、脱離基であり、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、１−プロパンスルホニルオキシ基、２−プロパンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルオキシ基、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルオキシ基、１−ナフタレンスルホニルオキシ基、２−ナフタレンスルホニルオキシ基、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ基、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基が挙げられるが、好ましくはアルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、更に好ましくはメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基である。
本発明の第一工程で使用するヒドラジンの量は、４−置換−テトラヒドロピラン化合物１モルに対して、好ましくは１．０〜２０．０モル、更に好ましくは４．０〜１５．０モルである。なお、該ヒドラジンは、無水物（遊離のヒドラジン）、水和物や酸塩、又は水溶液（酸塩を塩基で中和したものも含む）等のいずれの形態でも構わない。
本発明の第一工程は溶媒中で行うのが好ましい。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙げられるが、好ましくは水、アルコール類、更に好ましくは水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等により適宜調節するが、４−置換テトラヒドロピラン化合物１ｇに対して、好ましくは０．１〜５０ml、更に好ましくは０．５〜１０mlである。
本発明の第一工程は、例えば、不活性ガスの雰囲気にて、４−置換テトラヒドロピラン化合物、ヒドラジン及び有機溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは２０〜１２０℃、更に好ましくは５０〜１００℃であり、反応圧力は特に制限されない。また、反応時間は、反応が完結する時間であればよく、特に限定されない。
なお、第一工程によって、４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を主生成物とする反応液が得られるが、この反応液は、そのまま又は濃縮等により容量を調節した後に、次の（Ｂ）第二工程において使用される。
（Ｂ）第二工程
第二工程は、前記４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物の４−アミノテトラヒドロピラン化合物への分解反応と同様に行うことができる。
第二工程は、前記４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物の４−アミノテトラヒドロピラン化合物への分解反応と同様に行うことができる。
上記第一工程の原料として使用される本発明の２−置換テトラヒドロピラン−４−スルホネートは、前記の一般式（４）で示される。その一般式（４）において、Ｒ１は、炭化水素基であり、炭化水素基としては、前記式（１）におけるＲと同一の炭化水素基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントラニル基等のアリール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体も含む。本発明においては、これらの中でも、Ｒ１として好ましくは、メチル基、エチル基又はフェニル基が挙げられる。
Ｙは、有機スルホン酸基であり、例えば、メタンスルホン酸基、エタンスルホン酸基、トリフルオロメタンスルホン酸基等のアルキルスルホン酸基；ベンゼンスルホン酸基、ｐ−トルエンスルホン酸基、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸基、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸基等のアリールスルホン酸基が挙げられる。
このような式（４）で示される２−置換テトラヒドロピラン−４−スルホネートとしては、例えば、２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−エタンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−トリフルオロメタンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−ベンゼンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−トルエンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−クロロベンゼンスルホネート、２−メチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−ブロモベンゼンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−エタンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−トリフルオロメタンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−ベンゼンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−トルエンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−クロロベンゼンスルホネート、２−エチルテトラヒドロピラン−４−ｐ−ブロモベンゼンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−エタンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−トリフルオロメタンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−ベンゼンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−ｐ−トルエンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−ｐ−クロロベンゼンスルホネート、２−フェニルテトラヒドロピラン−４−ｐ−ブロモベンゼンスルホネート等が挙げられる。
本発明の反応において使用するアルデヒド化合物、その多量体又はアセタール体は、前記の一般式（５）で示される。その一般式（５）において、Ｒ１は、前記と同義である。このようなアルデヒド化合物としては、例えば、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド等のアルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ｏ−トリルアルデヒド、ｍ−トリルアルデヒド、ｐ−トリルアルデヒド等のアリールアルデヒド等が挙げられる。また、前記アルデヒド化合物の多量体としては、例えば、パラアルデヒド、メタアルデヒド、パラプロピオンアルデヒド等が挙げられ、アセタール体としては、例えば、アセトアルデヒドジメチルアセタール、アセトアルデヒドジエチルアセタール等が挙げられる。
前記アルデヒド化合物、その多量体又はアセタール体の使用量は、アルデヒド換算で、３−ブテン−１−オール１モルに対して、好ましくは１．０〜５．０モル、更に好ましくは１．１〜２．０モルである。
本発明の反応において使用する有機スルホン酸としては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のアルキルスルホン酸類；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸等のアリールスルホン酸類が挙げられる。
前記有機スルホン酸の使用量は、３−ブテン−１−オール１モルに対して、好ましくは１．０〜５．０モル、更に好ましくは１．１〜２．０モルである。
本発明の反応は、有機溶媒の存在下にて行うのが望ましい。使用される有機溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のカルボン酸エステル類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類が挙げられるが、好ましくは芳香族炭化水素類、エーテル類、カルボン酸エステル類、更に好ましくは芳香族炭化水素類が使用される。これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記有機溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、３−ブテン−１−オール１ｇに対して、好ましくは０．１〜５０ｍｌ、更に好ましくは０．１〜１０ｍｌである。
本発明の反応は、例えば、３−ブテン−１−オール、アルデヒド化合物、有機スルホン酸及び有機溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは１０〜８０℃、更に好ましくは２０〜６０℃であり、反応圧力は特に制限されない。また、反応時間は、反応が完結する時間であればよく、特に限定されない。
なお、最終生成物である２−置換テトラヒドロピラン−４−スルホネートは、例えば、反応終了後、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製される。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
実施例１
（１）４−ヒドラジノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、純度９５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１３４．７ｇ（７１０ｍｍｏｌ）、ヒドラジン一水和物２５６ｍｌ（５．２７ｍｏｌ）及びエタノール２５６ｍｌを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７０〜８０℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、８ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌ（７８４ｍｍｏｌ）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン５００ｍｌを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。析出した固体を濾別して、黄色液体として、純度９３％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン４５．０ｇを得た（単離収率：５１％）。
（１）４−ヒドラジノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、純度９５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１３４．７ｇ（７１０ｍｍｏｌ）、ヒドラジン一水和物２５６ｍｌ（５．２７ｍｏｌ）及びエタノール２５６ｍｌを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７０〜８０℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、８ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液９８ｍｌ（７８４ｍｍｏｌ）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン５００ｍｌを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。析出した固体を濾別して、黄色液体として、純度９３％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン４５．０ｇを得た（単離収率：５１％）。
４−ヒドラジノテトラヒドロピランの物性値は以下の通りであった。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；１．２８〜１．４１（２Ｈ，ｍ）、１．８４〜１．９０（２Ｈ，ｍ）、２．６９〜２．７８（１Ｈ，ｍ）、３．４０〜３．４５（２Ｈ，ｍ）、３．９２〜３．９８（２Ｈ，ｍ）、４．８０（３Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；１．２８〜１．４１（２Ｈ，ｍ）、１．８４〜１．９０（２Ｈ，ｍ）、２．６９〜２．７８（１Ｈ，ｍ）、３．４０〜３．４５（２Ｈ，ｍ）、３．９２〜３．９８（２Ｈ，ｍ）、４．８０（３Ｈ，ｂｒｓ）
（２）４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積３０ｍｌのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度９３％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン２６０ｍｇ（２．０８ｍｍｏｌ）、展開ラネーニッケル９２ｍｇ及びエタノール２．５ｍｌを加え、水素雰囲気下、７５℃で６時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾渦して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１３６ｍｇ生成していた（反応収率：６５％）。
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積３０ｍｌのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度９３％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン２６０ｍｇ（２．０８ｍｍｏｌ）、展開ラネーニッケル９２ｍｇ及びエタノール２．５ｍｌを加え、水素雰囲気下、７５℃で６時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾渦して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１３６ｍｇ生成していた（反応収率：６５％）。
実施例２
（１）４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積２００ｍｌのガラス製フラスコに、純度９５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１０．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ヒドラジン一水和物２６ｍｌ（５３０ｍｍｏｌ）及びエタノール２６ｍｌを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、２８重量％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１４ｇ（７２．６ｍｍｏｌ）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン５０ｍｌを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。濃縮物を０℃まで冷却し、メタノール５０ｍｌ及び１２ｍｏｌ／ｌ塩酸６．５ｍｌ（７８ｍｍｏｌ）を加えた後に減圧下で濃縮した。濃縮物をエタノール及びトルエンを用いて再結晶させ、無色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩２．８ｇを得た（単離収率：３４％）。
（１）４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積２００ｍｌのガラス製フラスコに、純度９５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１０．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ヒドラジン一水和物２６ｍｌ（５３０ｍｍｏｌ）及びエタノール２６ｍｌを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、２８重量％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１４ｇ（７２．６ｍｍｏｌ）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン５０ｍｌを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。濃縮物を０℃まで冷却し、メタノール５０ｍｌ及び１２ｍｏｌ／ｌ塩酸６．５ｍｌ（７８ｍｍｏｌ）を加えた後に減圧下で濃縮した。濃縮物をエタノール及びトルエンを用いて再結晶させ、無色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩２．８ｇを得た（単離収率：３４％）。
４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は以下の通りであった。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５０（２Ｈ，ｂｒｓ）、１．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、３．１３（１Ｈ，ｂｒｓ）、３．２８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．０，２．４Ｈｚ）、３．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、４．９８（１Ｈ，ｂｒｓ）、１０．２３（３Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５０（２Ｈ，ｂｒｓ）、１．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、３．１３（１Ｈ，ｂｒｓ）、３．２８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．０，２．４Ｈｚ）、３．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、４．９８（１Ｈ，ｂｒｓ）、１０．２３（３Ｈ，ｂｒｓ）
（２）４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩６０．０ｇ（３９２ｍｍｏｌ）、展開ラネーニッケル１２．０ｇ、エタノール１２０ｍｌ及び水１２０ｍｌを加え、水素雰囲気下、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ｍｌ及び１２ｍｏｌ／ｌ塩酸５０ｍｌ（６００ｍｍｏｌ）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩３８．５ｇを得た（単離収率：７０％）。
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００ｍｌのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩６０．０ｇ（３９２ｍｍｏｌ）、展開ラネーニッケル１２．０ｇ、エタノール１２０ｍｌ及び水１２０ｍｌを加え、水素雰囲気下、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ｍｌ及び１２ｍｏｌ／ｌ塩酸５０ｍｌ（６００ｍｍｏｌ）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩３８．５ｇを得た（単離収率：７０％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は以下の通りであった。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５２〜１．６６（２Ｈ，ｍ）、１．８４〜１．９０（２Ｈ，ｍ）、３．１５〜３．４５（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、８．３８（３Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５２〜１．６６（２Ｈ，ｍ）、１．８４〜１．９０（２Ｈ，ｍ）、３．１５〜３．４５（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、８．３８（３Ｈ，ｂｒｓ）
実施例３
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５０mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．５５mmol）、展開ラネーニッケル２００mg及びエタノール５mlを加え、アルゴン雰囲気下、７５℃で２０時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが２４６mg生成していた（反応収率：３７％）。
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５０mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．５５mmol）、展開ラネーニッケル２００mg及びエタノール５mlを加え、アルゴン雰囲気下、７５℃で２０時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが２４６mg生成していた（反応収率：３７％）。
実施例４
（１）４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積２００mlのガラス製フラスコに、後記実施例１６と同様の方法で合成した純度８０％の２−メチルテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１０．０ｇ（４１．２mmol）、ヒドラジン一水和物２０ml（４１２mmol）及びエタノール２０mlを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、２８重量％ナトリウムメトキシドメタノール溶液９．４５ｇ（４９mmol）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン２００mlを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。濃縮物を０℃まで冷却し、メタノール５０ml及び１２mol／ｌ塩酸５．０ml（６０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮した。濃縮物をエタノール及びトルエンを用いて再結晶させ、無色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩３．８２ｇを得た（単離収率：５５％）。
（１）４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積２００mlのガラス製フラスコに、後記実施例１６と同様の方法で合成した純度８０％の２−メチルテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート１０．０ｇ（４１．２mmol）、ヒドラジン一水和物２０ml（４１２mmol）及びエタノール２０mlを加え、窒素雰囲気下、攪拌しながら７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、２８重量％ナトリウムメトキシドメタノール溶液９．４５ｇ（４９mmol）を加えた後、減圧下で濃縮した。濃縮物にトルエン２００mlを加えた後に濾過し、濾液を再び減圧下で濃縮した。濃縮物を０℃まで冷却し、メタノール５０ml及び１２mol／ｌ塩酸５．０ml（６０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮した。濃縮物をエタノール及びトルエンを用いて再結晶させ、無色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩３．８２ｇを得た（単離収率：５５％）。
４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は以下の通りであった。
融点；１４４〜１４６℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１３１（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．０４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．３６〜１．４６（１Ｈ，ｍ）、１．６７〜１．７３（２Ｈ，ｍ）、１．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ）、３．３３〜３．３６（１Ｈ，ｍ）、３．５４〜３．８０（３Ｈ，ｍ）、７．７０（４Ｈ，ｂｒｓ）
融点；１４４〜１４６℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１３１（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．０４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．３６〜１．４６（１Ｈ，ｍ）、１．６７〜１．７３（２Ｈ，ｍ）、１．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．１Ｈｚ）、３．３３〜３．３６（１Ｈ，ｍ）、３．５４〜３．８０（３Ｈ，ｍ）、７．７０（４Ｈ，ｂｒｓ）
（２）４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度１００％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩６５．３ｇ（３９２mmol）、展開ラネーニッケル１８．０ｇ、エタノール１２０ml、水１２０ml及び８mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液４０ml（３２０mmol）を加え、水素雰囲気下、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び１２mol／ｌ塩酸５０ml（６００mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色粉末として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩３８．２ｇを得た（単離収率：６３％）。
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、上記（１）と同様な方法で合成した、純度１００％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩６５．３ｇ（３９２mmol）、展開ラネーニッケル１８．０ｇ、エタノール１２０ml、水１２０ml及び８mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液４０ml（３２０mmol）を加え、水素雰囲気下、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び１２mol／ｌ塩酸５０ml（６００mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色粉末として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩３８．２ｇを得た（単離収率：６３％）。
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は以下の通りであった。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、１．４８〜１．８４（４Ｈ，ｍ）、３．４７〜３．９３（４Ｈ，ｍ）、８．４４（３Ｈ，ｂｒｓ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１１７（Ｍ＋１−ＨＣｌ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、１．４８〜１．８４（４Ｈ，ｍ）、３．４７〜３．９３（４Ｈ，ｍ）、８．４４（３Ｈ，ｂｒｓ）
実施例５
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例４（１）と同様な方法で合成した、純度１００％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．０２mmol）、展開ラネーニッケル１００mg、２mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液３．０ml（６．０mmol）及びエタノール２．５mlを加え、水素雰囲気下、７５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランが５５９mg生成していた（反応収率：８２％）。
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例４（１）と同様な方法で合成した、純度１００％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．０２mmol）、展開ラネーニッケル１００mg、２mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液３．０ml（６．０mmol）及びエタノール２．５mlを加え、水素雰囲気下、７５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランが５５９mg生成していた（反応収率：８２％）。
実施例６
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３０．０ｇ（１９４．６mmol）、５重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）３．０ｇ（パラジウム原子として０．７０mmol）及びエタノール１５０mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１５．９ｇ生成していた（反応収率：８１％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び１２mol／ｌ塩酸１７．４ｇ（１６６．８mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩１４．３ｇを得た（単離収率：５２％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３０．０ｇ（１９４．６mmol）、５重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）３．０ｇ（パラジウム原子として０．７０mmol）及びエタノール１５０mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１５．９ｇ生成していた（反応収率：８１％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び１２mol／ｌ塩酸１７．４ｇ（１６６．８mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩１４．３ｇを得た（単離収率：５２％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は実施例２（２）と同一であった。
実施例７
４−アミノテトラヒドロピラン臭化水素酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３０．０ｇ（１９４．６mmol）、１０重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）１．５ｇ（パラジウム原子として０．７０mmol）及びエタノール１５０mlを加え、水素雰囲気下（０．１MPa）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１５．９ｇ生成していた（反応収率：８１％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び４７重量％臭化水素酸２７．６ｇ（１６０．０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン臭化水素酸塩１７．４ｇを得た（単離収率：４９％）。
４−アミノテトラヒドロピラン臭化水素酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３０．０ｇ（１９４．６mmol）、１０重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）１．５ｇ（パラジウム原子として０．７０mmol）及びエタノール１５０mlを加え、水素雰囲気下（０．１MPa）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１５．９ｇ生成していた（反応収率：８１％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール２００ml及び４７重量％臭化水素酸２７．６ｇ（１６０．０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン臭化水素酸塩１７．４ｇを得た（単離収率：４９％）。
４−アミノテトラヒドロピラン臭化水素酸塩の物性値は以下の通りであった。
融点；１７５〜１８０℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１−ＨＢｒ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５０〜１．６４（２Ｈ，ｍ）、１．８３〜１．９１（２Ｈ，ｍ）、３．２０〜３．６（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、８．１４（３Ｈ，ｂｒｓ）
融点；１７５〜１８０℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１−ＨＢｒ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．５０〜１．６４（２Ｈ，ｍ）、１．８３〜１．９１（２Ｈ，ｍ）、３．２０〜３．６（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、８．１４（３Ｈ，ｂｒｓ）
実施例８
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．４９mmol）、５重量％白金／炭素（５０％ｗｅｔ品）３．０ｇ（白金原子として０．３８mmol）及びエタノール５mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で７２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが０．４８ｇ生成していた（反応収率：７３％）。
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．４９mmol）、５重量％白金／炭素（５０％ｗｅｔ品）３．０ｇ（白金原子として０．３８mmol）及びエタノール５mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で７２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが０．４８ｇ生成していた（反応収率：７３％）。
実施例９
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３．０ｇ（１９．５mmol）、５重量％白金／炭素（５０％ｗｅｔ品）６００mg（白金原子として０．０８mmol）、エタノール５ml及び水６mlを加え、水素雰囲気下（１．０MPa）、７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１．４ｇ生成していた（反応収率：７１％）。
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩３．０ｇ（１９．５mmol）、５重量％白金／炭素（５０％ｗｅｔ品）６００mg（白金原子として０．０８mmol）、エタノール５ml及び水６mlを加え、水素雰囲気下（１．０MPa）、７５℃で３時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが１．４ｇ生成していた（反応収率：７１％）。
実施例１０
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例４（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（５．９４mmol）、５重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）１００mg（パラジウム原子として０．０２mmol）、エタノール２．５ml及び水２．５mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランが０．５９ｇ生成していた（反応収率：８６％）。
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例４（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（５．９４mmol）、５重量％パラジウム／炭素（５０％ｗｅｔ品）１００mg（パラジウム原子として０．０２mmol）、エタノール２．５ml及び水２．５mlを加え、水素雰囲気下（０．１ＭＰａ）、７５℃で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランが０．５９ｇ生成していた（反応収率：８６％）。
実施例１１
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．４９mmol）、エタノール６．２ml、１mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液１．２ml（１．２０mmol）及び酸化銅（Ｉ）１．５ｇ（１０mmol）を加え、６５℃で１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが０．４７ｇ生成していた（反応収率：７２％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール５ml及び１２mol／ｌ塩酸１０ml（１２．０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩０．４２ｇを得た（単離収率：４６％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、実施例２（１）と同様な方法で合成した、純度９９％の４−ヒドラジノテトラヒドロピラン塩酸塩１．０ｇ（６．４９mmol）、エタノール６．２ml、１mol／ｌ水酸化ナトリウム水溶液１．２ml（１．２０mmol）及び酸化銅（Ｉ）１．５ｇ（１０mmol）を加え、６５℃で１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液を濾過して、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピランが０．４７ｇ生成していた（反応収率：７２％）。次いで、濃縮物にｎ−ブチルアルコール５ml及び１２mol／ｌ塩酸１０ml（１２．０mmol）を加えた後に減圧下で濃縮して、白色結晶として、純度９８％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩０．４２ｇを得た（単離収率：４６％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は実施例２（２）と同一であった。
実施例１２
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積２０Ｌのガラス製フラスコに、９８％ヒドラジン水溶液５８７３ｇ（１１５mol）及びエタノール２０７２mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度９７％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート２１３６ｇ（１１．５mol）をエタノール２０７２mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で４時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積２０Ｌのガラス製フラスコに、９８％ヒドラジン水溶液５８７３ｇ（１１５mol）及びエタノール２０７２mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度９７％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート２１３６ｇ（１１．５mol）をエタノール２０７２mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で４時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
次いで、攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積２０Ｌのガラス製フラスコに、６５質量％展開ラネーニッケル４１４．４ｇ（ニッケル原子として４．６mol）及び水２０７２mlを加え、攪拌しながら６０℃まで昇温させた。次いで、該反応液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら８０℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を４０℃まで冷却し、ラネーニッケルを濾過した後、濾液を減圧濃縮して、４−アミノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液８１８．０ｇを得た。
攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及び減圧蒸留装置を備えた内容積２０Ｌのガラス製フラスコに、該反応液、テトラエチレンペンタミン２０７２ｍｌ（１０．９ｍｏｌ）及びｎ−ブチルアルコール４１００ｍｌを加え、減圧下、８０℃で２時間攪拌させた。次いで、減圧下で４−アミノテトラヒドロピランとｎ−ブチルアルコールを共沸留去させた。その後、再び、ｎ−ブチルアルコール４１００ｍｌを加え、減圧下で４−アミノテトラヒドロピランとｎ−ブチルアルコールとを共沸留去させた。この操作を３回繰り返して合わせて１５０００ｍｌの留出液を得た。この留出液に濃塩酸５７５ｍｌ（６．９０ｍｏｌ）を加えた後に減圧下で濃縮した。濃縮物に再びｎ−ブチルアルコール８２００ｍｌを加えて、減圧下で水とｎ−ブチルアルコールとを共沸させた。次いで、ｎ−ブチルアルコール７４６０ｍｌ及びエタノール３７３０ｍｌを加え、一旦１１５℃まで昇温させて攪拌させた後、ゆるやかに−５℃まで冷却して３０分間攪拌させた。濾過後、濾物を冷却したトルエンで洗浄した後に乾燥させ、白色小針状結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる内部標準法）の４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩７８８．９ｇを得た（テトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート基準の単離収率：５０％）。
４−アミノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は実施例２（２）と同一であった。
実施例１３
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物９７ml（１．９９mol）及びエタノール３３mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度８５％の２−メチルテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート３０．０ｇ（０．１３１mol）をエタノール３３mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物９７ml（１．９９mol）及びエタノール３３mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度８５％の２−メチルテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート３０．０ｇ（０．１３１mol）をエタノール３３mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノ−２−メチルテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
次いで、攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及び減圧蒸留装置を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、６５質量％展開ラネーニッケル６．０ｇ（ニッケル原子として６６．４mmol）、エタノール３３ml及び水３３mlを加え、攪拌しながら６５℃まで昇温させた。次いで、該反応液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら６５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ラネーニッケルを濾過した後、濾液を減圧濃縮して、４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
該反応液に、ペンタエチレンヘキサミン３０ml（１５８．２mmol）及びｎ−ブチルアルコール３０mlを加え、減圧下、８０℃で２時間攪拌させた。次いで、減圧下で４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピランとｎ−ブチルアルコールを共沸留去させた。その後、留出液を０℃まで冷却して、１２mol／ｌ塩酸１５ml（１８０mmol）を加えた後に、減圧下で濃縮し、無色結晶として、純度９９％（ガスクロマトグラフィーによる面積百分率）の４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩１０．２ｇを得た（２−メチルテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート基準の単離収率：５１％）。
４−アミノ−２−メチルテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は実施例４（２）と同一であった。
実施例１４
４−アミノテトラヒドロピランメタンスルホン酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物９７ml（１．９９mol）及びエタノール３３mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度８５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート３０．０ｇ（０．１４１mol）をエタノール３３mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
４−アミノテトラヒドロピランメタンスルホン酸塩の合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物９７ml（１．９９mol）及びエタノール３３mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度８５％のテトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート３０．０ｇ（０．１４１mol）をエタノール３３mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
次いで、攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及び減圧蒸留装置を備えた内容積５００mlのガラス製フラスコに、６５質量％展開ラネーニッケル６．０ｇ（ニッケル原子として６６．４mol）、エタノール３３ml及び水３３mlを加え、攪拌しながら６５℃まで昇温させた。次いで、該反応液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら６５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ラネーニッケルを濾過した後、濾液を減圧濃縮して、４−アミノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
該反応液に、トリエチルアミン３０ml（２１５．２mmol）及びｎ−ブチルアルコール３０mlを加え、室温で１時間攪拌した後、析出した結晶を濾過した。次いで、濾液を減圧下で濃縮し、無色結晶として、純度９６％（ガスクロマトグラフィーによる内部標準法）の４−アミノテトラヒドロピランメタンスルホン酸塩１５．２ｇを得た（テトラヒドロピラニル−４−メタンスルホネート基準の単離収率：５２％）。
４−アミノテトラヒドロピランメタンスルホン酸塩の物性値は以下の通りであった。
融点；２０４〜２０８℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．４５〜１．６０（２Ｈ，ｍ）、１．８０〜１．９１（２Ｈ，ｍ）、２．３８（３Ｈ，ｓ）、３．１５〜３．３６（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、７．９９（３Ｈ，ｂｒｓ）
融点；２０４〜２０８℃
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１０２（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ（ｐｐｍ））；１．４５〜１．６０（２Ｈ，ｍ）、１．８０〜１．９１（２Ｈ，ｍ）、２．３８（３Ｈ，ｓ）、３．１５〜３．３６（３Ｈ，ｍ）、３．８４〜３．８９（２Ｈ，ｍ）、７．９９（３Ｈ，ｂｒｓ）
実施例１５
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物１９ml（０．３９mol）及びエタノール１９mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度１００％のテトラヒドロピラニル−４−ｐ−トルエンスルホネート１０．０ｇ（０．０３９mol）をエタノール１９mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
４−アミノテトラヒドロピランの合成
攪拌装置、温度計、滴下漏斗及び還流冷却器を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、ヒドラジン一水和物１９ml（０．３９mol）及びエタノール１９mlを加え、攪拌しながら７５℃まで昇温させた。次いで、純度１００％のテトラヒドロピラニル−４−ｐ−トルエンスルホネート１０．０ｇ（０．０３９mol）をエタノール１９mlに溶解した液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら同温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、４−ヒドラジノテトラヒドロピランを主生成物とする反応液を得た。
次いで、攪拌装置、温度計、滴下漏斗、還流冷却器及び減圧蒸留装置を備えた内容積１００mlのガラス製フラスコに、６５質量％展開ラネーニッケル２．６ｇ（ニッケル原子として２８．８mmol）、エタノール１９ml及び水１９mlを加え、攪拌しながら６５℃まで昇温させた。次いで、該反応液をゆるやかに滴下した後、攪拌しながら６５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ラネーニッケルを濾過した後、濾液をガスクロマトグラフィーで分析（内部標準法）したところ、４−アミノテトラヒドロピラン１．２ｇが生成していた（テトラヒドロピラニル−４−ｐ−トルエンスルホネート基準の単離収率：３１％）。
実施例１６
２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネートの合成
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び滴下漏斗を備えた１００ｍｌのガラス製フラスコに、３−ブテン−１−オール５．００ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）、パラアルデヒド（アセトアルデヒド三量体）３．６７ｇ（アセトアルデヒド換算で８３．４ｍｍｏｌ）及びトルエン５０ｍｌを加え、窒素雰囲気にて、攪拌しながらメタンスルホン酸７．９９ｇ（８３．１ｍｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、５５℃で４時間反応させた。反応終了後、得られた反応液に、飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出した。次いで、抽出液を１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１→３：１）で精製し、薄黄色液体として、２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネート８．７９ｇを得た（単離収率：６５％）。
２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネートの合成
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び滴下漏斗を備えた１００ｍｌのガラス製フラスコに、３−ブテン−１−オール５．００ｇ（６９．３ｍｍｏｌ）、パラアルデヒド（アセトアルデヒド三量体）３．６７ｇ（アセトアルデヒド換算で８３．４ｍｍｏｌ）及びトルエン５０ｍｌを加え、窒素雰囲気にて、攪拌しながらメタンスルホン酸７．９９ｇ（８３．１ｍｍｏｌ）をゆるやかに滴下し、５５℃で４時間反応させた。反応終了後、得られた反応液に、飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで抽出した。次いで、抽出液を１ｍｏｌ／ｌ水酸化ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１→３：１）で精製し、薄黄色液体として、２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネート８．７９ｇを得た（単離収率：６５％）。
２−メチルテトラヒドロピラン−４−メタンスルホネートは、以下の物性値で示される新規な化合物である。
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１９５（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；１．２３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、１．４４〜１．５６（１Ｈ，ｍ）、１．７６〜１．８１（１Ｈ，ｍ）、２．０２〜２．１６（２Ｈ，ｍ）、３．０３（３Ｈ，ｓ）、３．４５〜３．５１（２Ｈ，ｍ）、４．００〜４．０６（１Ｈ，ｍ）、４．７５〜４．８３（１Ｈ，ｍ）
ＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｅ）；１９５（Ｍ＋１）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ（ｐｐｍ））；１．２３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、１．４４〜１．５６（１Ｈ，ｍ）、１．７６〜１．８１（１Ｈ，ｍ）、２．０２〜２．１６（２Ｈ，ｍ）、３．０３（３Ｈ，ｓ）、３．４５〜３．５１（２Ｈ，ｍ）、４．００〜４．０６（１Ｈ，ｍ）、４．７５〜４．８３（１Ｈ，ｍ）
本発明により、繁雑な操作を必要とせず、簡便な方法にて、４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩を製造可能な、工業的に好適な４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法を提供することが出来る。また、本発明によれば、温和な条件下、簡便な方法によって、２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネートを高収率で製造可能な、工業的に好適な２−置換テトラヒドロピラニル−４−スルホネート及びその製法を提供することが出来る。
Claims (12)
- ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、一般式（２）：
で示される4-ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解反応させることを特徴とする、一般式（１）：
で示される、4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法。 - 貴金属触媒が、パラジウム及び白金の少なくとも一方を含む触媒である請求の範囲第１項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製造法。
- 金属酸化物が、酸化銅(I)又は酸化銅(II)である請求の範囲第１項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製造方法。
- 反応を溶媒中で行う請求の範囲第１項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法。
- 溶媒が水、アルコール、又はそれらの混合液である請求の範囲第４項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法。
- 式（２）で示される化合物が、一般式（３）：
で示される4-置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて得られるものである請求の範囲第１項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法。 - （Ａ）一般式（３）：
で示される4-置換テトラヒドロピラン化合物にヒドラジンを反応させて、一般式（２）：
で示される4-ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を主生成物とする反応液を得る第一工程、
（Ｂ）次いで、ラネーニッケルの存在下、該反応液中の4-ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解させて、一般式（１）：
で示される4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩とする第二工程
を含んでなることを特徴とする、4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。 - 第一工程を溶媒中で行う請求の範囲第７項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。
- 第一工程で用いる溶媒がアルコールである請求の範囲第８項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。
- 第二工程を溶媒中で行う請求の範囲第７項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。
- 第二工程で用いる溶媒が水、アルコール又はそれらの混合液である請求の範囲第１０項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。
- 第二工程の反応終了後、反応液からラネーニッケルを除去する際に、アミンを用いる請求の範囲第７項記載の4-アミノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を製造する方法。
Applications Claiming Priority (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003196229 | 2003-07-14 | ||
| JP2003196229 | 2003-07-14 | ||
| JP2003288324 | 2003-08-07 | ||
| JP2003288324 | 2003-08-07 | ||
| JP2003300129 | 2003-08-25 | ||
| JP2003300129 | 2003-08-25 | ||
| JP2003342771 | 2003-10-01 | ||
| JP2003342771 | 2003-10-01 | ||
| JP2004079883 | 2004-03-19 | ||
| JP2004079883 | 2004-03-19 | ||
| PCT/JP2004/010010 WO2005005406A1 (ja) | 2003-07-14 | 2004-07-14 | ４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法、その合成中間体およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2005005406A1 JPWO2005005406A1 (ja) | 2007-09-20 |
| JP4591349B2 true JP4591349B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=34069404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005511576A Expired - Fee Related JP4591349B2 (ja) | 2003-07-14 | 2004-07-14 | ４−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法、その合成中間体およびその製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7365215B2 (ja) |
| EP (1) | EP1661894A4 (ja) |
| JP (1) | JP4591349B2 (ja) |
| CN (1) | CN1823051B (ja) |
| WO (1) | WO2005005406A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2493875B1 (en) | 2009-10-27 | 2014-08-06 | Boehringer Ingelheim International GmbH | Heterocyclic compounds as ccr1 receptor antagonists |
| CN102030734A (zh) * | 2010-09-26 | 2011-04-27 | 苏州汉德创宏生化科技有限公司 | 手性医药中间体3-氨基四氢吡喃及其盐的合成方法 |
| CN102993144B (zh) * | 2012-12-07 | 2016-04-13 | 青岛前线生物工程有限公司 | 4-氨基四氢吡喃的一锅法合成工艺 |
| EP3362392B1 (en) | 2015-10-16 | 2021-04-07 | O&M Halyard, Inc. | Method and system for splicing nose wire in a facemask manufacturing process |
| CN108864018A (zh) * | 2018-06-18 | 2018-11-23 | 苏州盖德精细材料有限公司 | 一种重要中间体4-氨基四氢吡喃的制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6348548A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Konica Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料用発色現像液 |
| JPH107658A (ja) * | 1996-02-26 | 1998-01-13 | Sumitomo Pharmaceut Co Ltd | スルホニルウレイドピラゾール誘導体 |
| JPH10279578A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-20 | Adir | 新規なアリールピペリジン化合物、その製造法、及びそれらを含む医薬組成物 |
| WO2001042232A1 (fr) * | 1999-12-10 | 2001-06-14 | Ube Industries, Ltd. | Procede de production de tetrahydropyranyl-4-sulfonate et de 4-aminotetrahydropyrane |
| JP2001508078A (ja) * | 1997-01-15 | 2001-06-19 | ビイク グルデン ロンベルク ヒエーミツシエ フアブリーク ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | フタラジノン |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6348550A (ja) * | 1986-08-18 | 1988-03-01 | Konica Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
| JPH0830867B2 (ja) * | 1986-09-30 | 1996-03-27 | コニカ株式会社 | 得られる色素画像の保存性が良好で液中の硫化が防止される写真用処理液 |
| JPH11510180A (ja) | 1995-08-05 | 1999-09-07 | ブリティッシュ バイオテック ファーマシューティカルズ リミテッド | イミダゾピリジン誘導体 |
| AU1735497A (en) | 1996-02-26 | 1997-09-10 | Sumitomo Pharmaceuticals Company, Limited | Sulfonylureidopyrazole derivatives |
| JP2004250340A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Ube Ind Ltd | ４−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法 |
-
2004
- 2004-07-14 JP JP2005511576A patent/JP4591349B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-14 EP EP04747476A patent/EP1661894A4/en not_active Withdrawn
- 2004-07-14 WO PCT/JP2004/010010 patent/WO2005005406A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2004-07-14 CN CN2004800202116A patent/CN1823051B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-14 US US10/564,709 patent/US7365215B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6348548A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-01 | Konica Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料用発色現像液 |
| JPH107658A (ja) * | 1996-02-26 | 1998-01-13 | Sumitomo Pharmaceut Co Ltd | スルホニルウレイドピラゾール誘導体 |
| JP2001508078A (ja) * | 1997-01-15 | 2001-06-19 | ビイク グルデン ロンベルク ヒエーミツシエ フアブリーク ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | フタラジノン |
| JPH10279578A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-20 | Adir | 新規なアリールピペリジン化合物、その製造法、及びそれらを含む医薬組成物 |
| WO2001042232A1 (fr) * | 1999-12-10 | 2001-06-14 | Ube Industries, Ltd. | Procede de production de tetrahydropyranyl-4-sulfonate et de 4-aminotetrahydropyrane |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1823051A (zh) | 2006-08-23 |
| US20070106083A1 (en) | 2007-05-10 |
| EP1661894A1 (en) | 2006-05-31 |
| JPWO2005005406A1 (ja) | 2007-09-20 |
| WO2005005406A1 (ja) | 2005-01-20 |
| EP1661894A4 (en) | 2007-02-28 |
| CN1823051B (zh) | 2010-07-07 |
| US7365215B2 (en) | 2008-04-29 |
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Legal Events
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100528 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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