JP4567954B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機械的に固定された半導体素子を内蔵する半導体装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図8を参照して、従来型の半導体装置装置100に関して説明する。図8は従来型の半導体装置100の斜視図である。
【0003】
同図を参照して、従来型の半導体装置100では、中央部のリード104はその端部にアイランド102を有する。そして、半田等の接着手段を介して、アイランド102上には半導体素子101が固着されている。アイランド102の両側にはリード104があり、金属細線105を介して、半導体素子101とリード104とは電気的に接続されていた。また、上記した各構成要素は、外部端子となる箇所のリード104を除いて、封止樹脂106により封止されていた(例えば、特許文献1を参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−299352号公報(図3参照)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した半導体装置100では、封止樹脂106あるいはリード104を介して、半導体素子101は外部からの温度的な影響を受けてしまう。従って、外気の温度の変化が、半導体素子101の動作に悪影響を及ぼしてしまう問題があった。更に、半田等のロウ材を介して半導体素子101を固着すると、固着時の高温により、半導体素子101の特性が変化してしまう問題があった。
【0006】
本発明は上記した問題点を鑑みて成されたものであり、本発明の主な目的は、外部と断熱された半導体素子を内蔵する半導体装置およびその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、支持基板の表面に載置される半導体素子と、前記半導体素子が密封されるように前記支持基板の表面を被覆するケース材と、外部に延在する外部端子と前記半導体素子とを電気的に接続する接続手段と、前記半導体素子の側面に当接することにより、前記半導体素子を支持基板に機械的に固定する固定部とを有することを特徴とする。
【0008】
更に、本発明は、半導体素子を固定する固定部を支持基板に固着する工程と、前記固定部を前記半導体素子の側面に当接させることにより、前記半導体素子を前記支持基板に固定する工程と、外部に延在する外部端子と前記半導体素子とを電気的に接続する工程と、大気圧よりも圧力が低い雰囲気下で前記半導体素子が封止されるように前記支持基板の表面をケース材で被覆する工程とを有することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1を参照して、本発明の半導体装置10の具体的な構造を説明する。図1(A)は半導体装置10の平面図であり、図1(B)(C)はその断面図である。
【0010】
図1(A)および図1(B)を参照して、本発明の半導体装置100は、支持基板11の表面に載置される半導体素子16と、半導体素子16が密封されるように支持基板11の表面を被覆するケース材12と、外部に延在する外部端子18と半導体素子16とを電気的に接続する接続手段としての金属細線15と、半導体素子16の側面に当接することにより半導体素子16を支持基板に機械的に固定する固定部としての枠材14とを有する。この各構成要素を以下にて詳述する。
【0011】
支持基板11は金属から成り、その表面には半導体素子16が載置さる。そして、半導体素子16が載置さる領域の周辺部には、外部端子18と連続するパッド13が複数個形成されている。ここでは、支持基板11は、円形の形状であるが、矩形等の他の形状を有していても良い。更に、支持基板11の材料は金属以外の材料も採用可能であり、ガラス、セラミック、または、樹脂材等を採用することも可能である。
【0012】
半導体素子16は、所望の電気回路がその表面に形成され、支持基板11の中央部付近に配置されている。そして、金属細線15を介して、半導体素子16とパッド13とは電気的に接続されている。また、半導体素子16は、固定部としての枠材14Aにより、支持基板11に機械的に固着されている。また、外部との断熱性を向上させるために、半導体素子16の裏面を支持基板11から離間させても良い。
【0013】
ケース材12は金属から成り、半導体素子16、金属細線15、パッド13、および、枠材14を被覆するように、支持基板11の表面を被覆している。具体的には、ケース材12は、曲面を描く略半球状の形状を有し、円盤状の支持基板11の周辺部と結合している。また、ケース材12と支持基板11の両方が金属でなる場合は、両者の接着は溶接により行うことができる。更に、ケース材12の材料は金属以外の材料も採用可能であり、ガラス、セラミック、または、樹脂材等を採用することも可能である。
【0014】
ケース材12および支持基板11からなる内部空間は、外部の大気圧よりも低い気圧に成っている。具体的には、この内部空間の気圧は1×10−5TORR程度の極めて低い気圧にすることができる。このように、内部空間の気圧が大気圧よりも低い場合は、ケース材12に外部からの大きな圧力が作用するが、図示するようにケース材12を半球状に形成することにより、ケース材12に気圧に対する応力を持たせることができる。また、上述のように、内部空間を高真空にすることにより、内部空間に内蔵される半導体素子16と外部とを熱的に分離することができる。即ち、外部の温度が変化しても、半導体装置10の内部空間は略一定の温度である。従って、半導体素子16の動作を安定化することができる。
【0015】
枠材14Aは、半導体素子16を機械的に支持基板11に固着させる働きを有する。具体的に、枠材14Aは、その弾性を用いて半導体素子16側面に当接することにより半導体素子16を支持基板11に固定している。ここでは、枠材14Aは金属から成り、溶接等の結合構造により枠材14Aの3角が支持基板11に固着されている。
【0016】
半導体素子16の固着に枠材14Aを用いることのメリットを説明する。一般的な半導体素子の固着方法として、エポキシ樹脂等の有機性の接着剤を用いる固着方法と、半田等のロウ材を用いる固着方法とがある。しかしながら、ポキシ樹脂等の有機性の接着剤を用いる固着方法では、高真空下の内部空間では有機性の接着剤が常温で気化してしまい、内部空間の気圧を上げてしまう。このことが、外気と半導体素子16との温度的絶縁を損なってしまい、半導体素子16の動作を不安定にさせる。また、半田等のロウ材を用いる固着方法では、リフローの工程により半導体素子16が加熱されてしまい、半導体素子16の感度が変化してしまう危険性がある。本発明の枠材14Aによる半導体素子16の固着構造では、気化する危険性を孕む有機性の接着剤を使用せず、更に、加熱せずに固着を行うことができる。従って、半導体素子16の安定した固着構造および固着方法を提供することができる。
【0017】
図1(B)を参照して、枠材14Aによる半導体素子16の固定構造を更に詳述する。半導体素子16の周辺部には、段差部16Aが設けられている。そして枠材14Aは、段差部15Aの平坦部および側面部に当接している。この様に、半導体素子16の周辺に設けた段差部16Aに、枠材16Aが当接することにより、半導体素子16を縦方向および横方向の両方向に対して固定することができる。
【0018】
外部端子18は導電体から成り、支持基板19を貫通してパッド13から連続的に外部に延在し、外部との電気的入出力を行う働きを有する。従って、外部端子18は、パッド13および金属細線15を介して、半導体素子16と電気的に接続されている。また、外部端子18と支持基板11との間隙は、内部空間への外気の侵入防止のために、充填材19により充填されている。更にまた、支持基板11が金属から成る場合は、充填材19として絶縁性を有する材料を採用することにより、支持基板11と外部端子18との電気的短絡を防止することができる。より好適には、充填材19として低温ガラスを採用することにより、内部空間の高真空による充填材19の気化を抑止することができる。また、低温ガラスは溶融点が低いことから、作業性に優れている。
【0019】
図1(C)を参照して、他の形態の半導体装置10の構造を説明する。ここでは、半導体素子16として、その表面に受光部または発光部を有する半導体素子が採用されている。具体的には、可視光線や赤外線等の受光または発光を行う半導体素子が、ここでの半導体素子16として採用される。
【0020】
ケース材12の、半導体素子16の上方に対応する箇所は、透明な材料から成る透明部12Aと成っている。この透明部12Aは、例えばガラスから成り、ケース材12と連続する曲面を形成するような形状と成っている。この透明部12Aは、半導体素子16が発光または受光する光に対して透明性を有する材料から成る。
【0021】
図2を参照して、半導体素子16の固定を行う枠材14Aの詳細を説明する。
図2(A)から図2(D)は、各形態の枠材14Aの形状を示す平面図である。
【0022】
図2(A)を参照して、枠材14Aは略額縁状の形状を有し、内側の大きさは半導体素子16と同等以下になっている。また、枠材14Aは、1つの角部が切除されることで、開口部20が設けられている。開口部20に隣接する2つの辺の内側には、内側に突出する凸部21が各々に形成されている。ここでの凸部21は、内側に円弧を描くように突出している。従って、凸部21は、半導体素子16の側面にソフトに当接する。開口部20に対向する内側の角部には、円形に切除された切り込み部22が形成されている。このことから、枠材14Aの面方向への弾性的な変形を促進している。
【0023】
図2(B)を参照して、他の形態の枠材14Bの形状を説明する。枠材14Bの基本的な形状は枠材14Aと同様であり、相違点は凸部21の形状にある。具体的には、ここでの凸部21は、開口部20により接近した箇所の辺に設けられている。更に、半導体素子16の側面に当接する箇所の凸部21は平坦に形成されており、半導体素子16の側面との当接する面積を大きくすることができる。
【0024】
図2(C)を参照して、他の形態の枠材14Cの形状を説明する。枠材14Cの基本的な形状は枠材14Aと同様であり、相違点は凸部21の形状にある。具体的には、凸部21が部分的にくり抜かれた形状に成っている。従って、枠材14Cの軽量化を行うことができる。
【0025】
図2(D)を参照して、他の形態の枠材14Dの形状を説明する。枠材14Dの基本的な形状は枠材14Aと同様であり、相違点は凸部21の形状にある。ここでは、凸部21の内側の形状は、その辺の大部分に渡って延在する直線的な形状と成っている。従って、半導体素子16と当接する箇所の凸部21の面積が大きくなる。また、ここでは、枠材14Dの3角に切り込み部22が形成されている。従って、枠材14Aの面方向への弾性的な変形を、更に、促進している。
【0026】
図3を参照して、他の半導体素子16の固着構造を有する半導体装置10の構造を説明する。図3(A)は半導体装置10の平面図であり、図3(B)(C)は半導体装置10の断面図である。
【0027】
図3(A)および図3(B)を参照して、同図に示す半導体装置10の基本的な構成は、図1に示したものと同様であり、相違点は半導体素子16の固着構造にある。具体的には、ここでの枠材14Eは、額縁状の閉じた形状を有し、4辺から内側に当接部23が延在している。当接部23は、内側に延在して途中から上方に折り曲がっている。そして、上方に折り曲がった当接部23の端部が、半導体素子16の側面に当接することによって、半導体素子16は支持基板11に固着されている。
【0028】
図3(C)を参照して、半導体素子16の周辺部には段差部16Aが形成されている。そして、当接部23は段差部16Aに当接している。従って、半導体素子16の固着力は更に向上される。
【0029】
図4を参照して、更なる他の半導体素子16の固着構造を有する半導体装置10の構造を説明する。図4(A)は半導体装置10の平面図であり、図4(B)(C)は半導体装置10の断面図である。
【0030】
図4(A)および図4(B)を参照して、同図に示す半導体装置10の基本的な構成は、図1に示したものと同様であり、相違点は半導体素子16の固着構造にある。具体的には、ここでの枠材14Fは、額縁状の閉じた形状を有し、4辺から内側に当接部23が延在している。ここでの当接部23は、枠材14Fの上部に固着され、断面的には内側に延在して斜め下方に湾曲している。この当接部23の端部が半導体素子16の側面に当接することにより、半導体素子16が支持基板11に固着されている。また、枠材14Fの4角は、溶接や半田付け等の接続構造により、支持基板11に固着されている。
【0031】
図4(C)を参照して、半導体素子16の周辺部には段差部16Aが形成されている。そして、当接部23は段差部16Aに当接している。従って、半導体素子16の固着力は更に向上される。
【0032】
図5以降を参照して、上述した半導体装置10の製造方法を説明する。導体装置10の製造方法は、半導体素子16を固定する固定部としての枠材14を支持基板11に固着する工程と、枠材14を半導体素子16の側面に当接させることにより、半導体素子16を支持基板11に固定する工程と、外部に延在する外部端子18と半導体素子16とを電気的に接続する工程と、大気圧よりも圧力が低い雰囲気下で半導体素子16が封止されるように11支持基板の表面をケース材で被覆する工程とを有する。これら各工程を以下にて詳述する。
【0033】
図5を参照して、半導体素子16を固定する固定部としての枠材14を支持基板11に固着する工程を説明する。図5(A)は本工程の平面図であり、図5(B)は本工程の断面図である。
【0034】
図5(A)および図5(B)を参照して、スポット溶接や半田付け等で成る固着部17により、枠材14は支持基板19に固着される。同図に示す枠材14は、図2に示したような開口部20を有するものを採用している。従って、ここでは、枠材14の開口部20が設けられた箇所を除いた3角が、上述した固着部17により固定されている。
【0035】
また、枠材14の外側の支持基板11には、導電材から成るパッド13が複数個形成されている。そして、各パッド13は、装置の外部に延在する外部端子18と電気的に接続されている。
【0036】
更に、図5(B)を参照して、枠材14は、支持基板11から離間された状態で、支持基板11に固着されている。このような構造により、図1(B)に示すような段差部を有する半導体素子16の固定をより確実に行うことができる。
【0037】
次に、図6を参照して、枠材14を半導体素子16の側面に当接させることにより、半導体素子16を支持基板11に固定する。図6(A)は本工程の平面図であり、図6(B)は本工程の断面図である。
【0038】
図6(A)を参照して、枠材14の開口部20に隣接する2つの辺を外側に押し広げた後に、枠材14の内側に半導体素子16を載置する。そして、外側に押し広げられた枠材14の辺を、元の状態に戻す。このことにより、枠材14の2辺から、同図に示す矢印の方向に押圧力(テンション)が作用して、半導体素子16が、枠材14により固定される。従って、半導体素子16は、有機接着剤等のダイアッタチ剤を全く使用せず、更に、リフロー工程の様な加熱処理を行われず、そのダイボンディングが行われる。半導体素子16の固着が終了した後に、金属細線15を介して、半導体素子16とパッド13との電気的接続を行う。
【0039】
図6(B)を参照して、半導体素子16の周辺部に設けた段差部16Aに、枠材14が当接している。このように枠材14が段差部14に当接することにより、半導体素子16は、支持基板11の面方向に対して、縦方向および横方向の両方向に対して固定される。
【0040】
次に、図7を参照して、大気圧よりも圧力が低い雰囲気下で半導体素子16が封止されるように11支持基板の表面をケース材で被覆する。図7は、本工程の状態を示す断面図である。
【0041】
本工程は、高真空下でケース材12と支持基板11との接続を行い、半導体素子16等の封止を行う。ここでの高真空とは、例えば、1×10−5TORR程度の気圧であり、この空間を介しての熱の伝導を極めて小さくすることができる。また、この工程の作業は、上記した高真空で行う。ケース材12と支持基板11との接続は、両者が金属の場合は、溶接で行うことができる。また、両者の接続は、半田等のロウ材を用いた接続で行うこともできる。
【0042】
上述した工程により、例えば図1に示すような構成の半導体装置10を得ることができる。
【0043】
【発明の効果】
本発明では、以下に示すような効果を奏することができる。
【0044】
半導体素子16は機械的に支持基板11に固定され、更に、ケース材12および支持基板11から形成される高真空下の内部空間にて半導体素子16は封止される。従って、高真空下で気化してしまう有機性接着剤等を使用せずに、半導体素子16が支持基板11に固着されるので、内部空間の高真空を維持させる半導体装置の構成を提供することができる。このことから、半導体素子16と装置外部との高度な断熱を行うことが出来るので、半導体素子16の動作の安定化を行うことができる。
【0045】
また、半導体素子16の固着は、固定部としての枠材14を用いて行うことができるので、半田等を用いた場合のリフロー工程のような加熱を行う工程を省いた半導体装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置を説明する平面図(A)、断面図(B)、断面図(C)である。
【図2】本発明の半導体装置に用いる固定部としての枠材の平面図(A)−(D)である。
【図3】本発明の半導体装置を説明する平面図(A)、断面図(B)、断面図(C)である。
【図4】本発明の半導体装置を説明する平面図(A)、断面図(B)、断面図(C)である。
【図5】本発明の半導体装置の製造方法を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図6】本発明の半導体装置の製造方法を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図7】本発明の半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図8】従来の半導体装置を説明する斜視図である。
【符号の説明】
10 半導体装置
11 支持基板
12 ケース材
13 パッド
14 枠材
15 金属細線
16 半導体素子
17 固着部
18 外部端子
19 充填剤
20 開口部
21 凸部
22 切り込み部

Claims (8)

  1. 支持基板の表面に載置され、表面に受光部または発光部を有する半導体素子と、
    前記半導体素子が大気圧よりも低い圧力で密封されるように前記支持基板と接着されたケース材と、
    前記支持基板の表面に設けられたパッドと、
    前記パッドと連続して成り、前記支持基板を貫通する外部端子と、
    前記パッドと前記半導体素子とを電気的に接続する接続手段とを有する半導体装置であり、
    前記支持基板に固着され、弾性を有する部分で前記半導体素子の側面に当接することにより、有機性の接着剤を使用せず、前記半導体素子を支持基板に機械的に固定する固定部とを有することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記固定部は、1つの角部が切除された枠状の枠材であり、
    前記枠材は前記支持基板に固着され、前記枠材の内側の4辺が前記半導体素子の側面に当接することで、前記半導体素子を前記支持基板に固定することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記枠材の内側の大きさは前記半導体素子と同等以下に形成されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 前記枠材は、切除された前記角部に連続する前記2辺に、内側に突出する凸部を有し、前記凸部が前記半導体素子の側面に当接することで、前記半導体素子が前記支持基板に固定されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  5. 前記半導体素子の上方の前記ケース材は、前記半導体素子が発光または受光する光に対して透明な材料から成ることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
  6. 前記半導体素子の周辺部には段差部が設けられ、前記固定部は、前記段差部に当接することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  7. 前記固定部は、枠状の枠材と当該枠材から内側に延在する当接部とから成り、前記当接部が前記半導体素子の側面部に当接することで、前記半導体素子を前記支持基板に固定することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  8. 前記半導体素子の周辺部には段差部が設けられ、前記当接部は、前記段差部に当接することを特徴とする請求項7記載の半導体装置。
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