JP4560634B2 - 液体導入プラズマシステム - Google Patents

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Description

本発明は、プラズマを発生する液体導入プラズマシステムに関するものである。
プラズマ中に液体を導入するとき、従来はネブライザと呼ばれる霧吹き装置が使用されていた。霧吹き装置は、噴霧する形式であり、噴霧された液体は円錐状に広がり、しかも、粒径の大きな粒子も生成されるため、プラズマ中に液体を直接噴霧する事は困難であった。スプレーチャンバなどを使用して径の大きい粒子を除去した後にプラズマに導入すると、液体の導入効率は数%と低くなっていた。そのため、例えば、プラズマを用いた微量元素分析の際には1mL/min前後の大量の試料が必要であった。
本発明は、微少量の液体をプラズマ中に供給できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、プラズマ中の所望の位置に液体を導入できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、微小なプラズマ中に液体を導入できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、元素分析の際の分析感度を改善できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、周囲を擾乱することなく液体を気化できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、プラズマを発生する電力を低減できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
また、本発明は、液体をほぼ100%の導入効率でプラズマ中に導入できる液体導入プラズマシステムを提供することにある。
(1)本発明は、プラズマが生じるプラズマ室と、プラズマ室でプラズマを生成するプラズマ生成装置と、液体を一滴ずつ噴出してプラズマ室に入れる噴出装置と、を備えている、液体導入プラズマシステムにある。
(2)また、本発明は、前記(1)の液体導入プラズマシステムにおいて、タイミング信号を作成する信号発生装置を備え、噴出装置は、信号発生装置で作成したタイミング信号を受信して、体を粒状に噴出する、液体導入プラズマシステムにある。
図1は、液滴を直線上に噴出する液体導入プラズマシステムの説明図である。 図2は、マイクロプラズマ装置を使用した液体導入プラズマシステムの説明図である。 図3は、噴出装置が液滴を噴出している図である。 図4は、気化装置で液滴を気化する液体導入プラズマシステムの説明図である。 図5は、気化装置で液滴を気化し、マイクロプラズマ装置を使用した液体導入プラズマシステムの説明図である。 図6は、各種タイミングを利用して、試料を検査する液体導入プラズマシステムの説明図である。
(1)液体導入プラズマシステム
本発明の実施の形態の液体導入プラズマシステムは、液体をプラズマ中に輸送するものである。この液体導入プラズマシステムは、液体試料をプラズマ中に輸送し、試料の微量元素分析、PCB、フロンなどの物質の分解処理、CVDなどのプラズマプロセッシング処理、新物質の作成などの種々の処理に使用することができる。この液体導入プラズマシステムは、液体を直線上に噴出してプラズマ中に導入するものであれば、どのようなものでも良い。直線上に噴出された液体は、一直線上に連続して形成された連続液体でもよく、又は、一直線上に液滴として間欠的に形成された粒状液体でもよい。なお、粒状液体、液滴と連続液体は、線状の液体としてみることができ、線の長さの程度の違いであり、粒状の短いものから、所定の長さを持ったものから、連続したものなどがあり、明確に区別されるものではない。粒径が小さいほど、微少量な液体の場合に有効である。
図1は、液体を直線上に噴出して、プラズマ中に液体を注入する液体導入プラズマシステム20を示している。図1(A)は、液体を直線上に間欠的に放出して、液滴280としてプラズマ32中に導入する構成を示している。図1(B)は、液体を直線上に連続的に放出して、直線状の連続液体282としてプラズマ32中に導入する構成を示している。
図1の液体導入プラズマシステム20は、試料を直線上に噴出する噴出装置22と、プラズマ室34を有するプラズマ装置30とを備えている。プラズマ装置30は、プラズマ室34にプラズマ32を発生するものであり、トーチ構造、平行電極構造など種々の方式を利用できる。図1のプラズマ装置30は、プラズマトーチの構造を有しており、プラズマ室34内にプラズマ32を生成するものであり、プラズマ室34を形成する筒体36と、プラズマ室34内にプラズマ32を発生するプラズマ生成装置40とを備えている。プラズマ装置30は、図1のようにプラズマトーチ構造の場合、プラズマガスをプラズマ室34に注入するプラズマガス注入口38とプラズマガスを排出する開口部340とを有する筒体36を備え、筒体36の一端に噴出装置22を配置する。噴出装置22のノズル26の前方の筒体36内にプラズマ室34が配置される。プラズマガス注入口38は、筒体36の接線方向に取り付けられると、注入されたプラズマガスが、筒体36内を旋回する。プラズマガスが筒体36内を旋回すると、プラズマ状態を安定に保持することができる。
(2)プラズマ生成装置
プラズマ生成装置40は、プラズマガスをプラズマ状態にするものである。プラズマ生成装置40は、例えば図1のように、プラズマ室34の筒体36の周囲に巻かれたロードコイル42と、ロードコイル42に高周波電力を供給する電力装置を備え、プラズマ室34にプラズマ32を生成する。プラズマ生成装置40は、ロードコイル42への出力を変調することができる。この出力の変調によりプラズマ32の状態を変えることができる。出力を変調するとは、ここでは、出力をパルス状にする、出力を増減する、出力を発生する、出力の周波数を変えるなど、何らかの形で出力を変化させてプラズマ状態に変化を与えることをいう。
プラズマ生成装置40は、直流電源、高周波やマイクロ波等の電源、パルス電源などがある。この出力は、直線上の液体がプラズマ中に入るタイミングに合わせて強度変調してもよい。例えば、プラズマ32中に液滴280を導入する場合、プラズマ32に液滴280が間欠的に導入されたタイミングに合わせて、プラズマ生成装置40の出力を増大する。一般に、プラズマ装置30は、熱負荷等に限界があるため、プラズマ装置30を冷却しても定常的に高出力を付与することが困難であるが、間欠的に動作することにより、必要なときにプラズマに高出力を付与することができる。
(3)マイクロプラズマ装置
図2は、マイクロプラズマ装置300を備えた液体導入プラズマシステムを示している。図2(A)は、液体を直線上に間欠的に放出して、液滴280としてプラズマ室34中に導入する構成を示している。図2(B)は、液体を直線上に連続的に放出して、直線状の連続液体282としてプラズマ室34中に導入する構成を示している。マイクロプラズマ装置300は、極めて小さなマイクロプラズマを発生する装置である。マイクロプラズマの大きさは、概略、直径3mm以下のものを呼ぶ。マイクロプラズマ装置300は、コイルを使用するもの、電極板を使用するもの、尖端電極を使用するものなど種々の方式があり、例えば、絶縁体58を挟んだ第1電極54と第2電極56と、第1電極54と第2電極56に高電圧を付与する電圧発生装置60とを備えている。第1電極54と絶縁体58と第2電極56とは、これらを貫通する穴を有する。第1電極54と第2電極56に高電圧を印加すると、穴の内部にプラズマが生成され、プラズマ室34が形成される。プラズマ室34は、入口開口部342と出口開口部340を有する。入口開口部342は、例えば、直径1mm以下の円形の開口部を有する。マイクロプラズマ装置300を利用すると、極微少量の試料について、分析感度を実現することができる。マイクロプラズマは、極めて小さいために、従来の霧吹き方式では液体が広がり、プラズマ中に液体を直接導入できなかったが、この液体導入プラズマシステムにより、プラズマ室34よりも小さい径の液体を直線上に導入する事により、マイクロプラズマ中にも液体を直接導入できることになった。
(4)噴出装置
噴出装置22は、液体を直線上に噴出するものであり、液体を直線上に液滴280として間欠的に噴出したり、又は、液体を直線上に連続液体282として連続的に噴出することができる。噴出装置22は、例えばアクチュエータ(圧力室)を備えている。アクチュエータは、圧電材料で形成され、液体注入口24から注入された液体の試料を保持し、ノズル26から液体を噴出する。アクチュエータは、例えば、電圧が印加されると、形状が変形して、液体28をノズル26から直線上に噴射する。ノズル26内の減少した液体は、例えば毛管力により補給することができる。液的の径、噴霧装置22のノズル26の噴出口径で制御できるため、プラズマを乱す要因となる大きい径の液滴は発生しないし、また、霧吹き装置のように液滴がプラズマ中に広がってプラズマを乱すこともない。このため、液体をプラズマに安定に導入でき、かつ導入効率は100%とすることができる。従来のように試料を噴霧状に広がりをもって供給する構造と比較すると、極めて導入効率が高まり、微少量な試料を有効に利用することができる。なお、噴出装置22は、信号発生装置により外部からの噴出タイミング信号により、間欠的に又は連続的に操作することができる。
図3は、ノズル26から直線上に間欠的に噴出している液滴280を示している。図3は、ピエゾ素子を駆動してノズル26から液滴280を直線上に放出し、高速度カメラで撮影した写真である。図4は、信号発生装置44により噴出装置22を制御する液体導入プラズマシステム20を示している。噴出装置22は、信号発生装置44の噴出タイミング信号46により液滴280を間欠的に噴出する。間欠的に噴出する技術は、種々のものが知られており、例えばピエゾ、バブルジェット(登録商標)などのインクジェットプリンタの技術、レーザー生成プラズマ用のターゲット技術などを使用することができる。噴出装置22は、例えばアクチュエータ(圧力室)を備えている。アクチュエータに電圧を間欠的に印加すると、ノズル26から間欠的に一滴づつ液滴280が噴出し、プラズマ32に飛来し、プラズマ32に直接導入される。このように、液滴280がプラズマ32に直接導入されるために、導入効率は、100%とすることができる。例えば、噴出装置22は、圧力室の試料の液体に圧力を印加し、10μm〜数10μm程度の径のノズル26から空間中に噴出させると、ノズル26の径の規定される細いジェット、つまり、直線状の連続液体が最大、数10mmの長さで安定に生成される。さらに、ノズルの先端をピエゾ素子で振動させると、このジェットを粒状、つまり、液滴、ドロプレットにすることができる。
(5)信号発生装置
信号発生装置44は、噴出タイミング信号46を作成する。噴出タイミング信号46は、基準タイミング信号に基づいて作成することができる。基準タイミング信号は、タイミングを取るための信号であり、パルス発生装置などタイミング信号を発生する装置で作成される。タイミング信号を発生する装置は、どこに配置されていても良く、信号発生装置44の外でも良く、また、同期が取れれば複数個所に複数配置しても良い。噴出装置22は、噴出タイミング信号46を受信して、液体を直線上に噴出する。噴出タイミング信号46は、液滴280の間隙とともに、液滴の長さ(連続と粒子の間のもの)も制御できる。噴出タイミング信号46は、パルス信号とすることができる。測定の種類に応じて、適宜噴出タイミング信号46の周波数を変えて、液滴280の間欠の間隔や連続液体の長さを調整することができる。
プラズマ生成装置40が、図6に示されているように、液滴280の噴出のタイミングに合わせて行うことができる。プラズマ生成装置40は、信号発生装置44から変調タイミング信号62を受信して出力を変調する。変調タイミング信号62は、信号発生装置44の基準タイミング信号に基づいて作成することができる。プラズマ生成装置40は、この変調タイミング信号62を受信することにより、液滴280がプラズマ32に飛来するタイミングを計って電力を変調することになる。プラズマ生成装置40が、パルス動作高周波発生装置の場合、プラズマに供給するパルス状高周波電力をパルス的に3〜10倍程度に増加し、高効率で試料を励起・イオン化することができる。また、信号発生装置44は、プラズマ生成装置40に付与する変調タイミング信号62、及び、測定装置66に付与する検出タイミング信号64などを基準タイミング信号に基づいて作成する。
(6)気化装置
気化装置50は、液体を気化するものである。図4と図5には、各々、トーチ状プラズマ装置とマイクロプラズマ装置に気化装置を備えた液体導入プラズマシステムが示されている。気化装置50は、信号発生装置44から出力された気化タイミング信号48を受信し、直線上の液体に気化エネルギーを付与する。気化エネルギーは、光などの放射エネルギーを使用することができる。気化装置50は、移動している液体28を気化し、例えばプラズマ32に粒状の液体28が導入される前に、気化した液体284を形成することができる。気化装置50は、信号発生装置44からの気化タイミング信号48を受信する。気化タイミング信号48は、液体28の噴出のタイミングに合わせて形成される。気化タイミング信号48は、基準タイミング信号に基づいて作成され、例えば信号発生装置44により噴出タイミング信号46に基づいて作成される。これにより、気化装置4は、飛来している液体28をターゲットとして、エネルギーを照射する。気化装置50が発生するエネルギーは、プラズマ32に影響を与えない程度に気化した液体284を形成できるものであれば良く、液体28の体積が極めて小さい場合、赤外レーザー等を使用しなくても、ハロゲンランプ等の可視光源から出る赤外線でもよいし、マイクロ波などの電波でもよい。液体が多量かつ角度を持って噴霧される従来の液体導入プラズマシステムでは、外部からの熱伝導によって噴霧粒子を気化するしかなかったが、細い液体や間欠的な液滴の方式(ドロプレット方式)では、液体28の通過位置にエネルギーを集めることで、キャリアガス(分析液体を送るガス)を加熱することなく、液体28だけを気化することができる。気化エネルギーが光の場合、気化用光学系52により液体28に光を集光することができる。このように、周囲からの加熱ではなく光などの輻射エネルギーで気化するため、キャリアガスを加熱することがない。このため、ガスの温度や流速に影響を与えることがなくなるため、それらを個別に制御することが可能となり、分析感度の向上を得ることができる。また、完全に非接触な(熱伝導すら使用しない)ため、クリーンな状態で気化することができる。
(7)測定装置
測定装置66は、プラズマ32に導入された試料のプラズマ状態を測定するものである。プラズマ32に試料が導入されると、試料が励起・イオン化する。測定装置66は、例えば、励起した試料の光を測定し、又は、試料の原子、分子、又は、原子や分子のイオンなどを取り出して測定する。光の測定の場合、図6に示すように試料から発せられる光を測定用光学系70を介して分光測定する。又は、イオンの測定の場合、試料のイオンを質量分析する。測定装置66は、プラズマシステムで通常行われる測定装置を使用することができる。直線上の液体が噴出装置22から液滴280として噴出される場合、間欠的にプラズマ32に導入されるので、測定も間欠的にできる。これにより、ノイズを低減し、測定感度を向上することができる。
測定装置66は、液滴280の噴出のタイミングに合わせて測定する。測定装置66は、プラズマ32に試料の液滴280が導入されると、試料のプラズマ状態を測定する。この測定は、例えば、測定装置66が信号発生装置44からの検出タイミング信号64を受信することにより行われる。検出タイミング信号64は、信号発生装置44により基準タイミング信号に基づいて作成される。測定装置66は、この検出タイミング信号64を受信することにより、液滴280がプラズマ32に飛来し、プラズマ状態になったタイミングを計って測定することになる。測定装置66は、検出タイミング信号64を受信することにより、測定信号のSN比を改善することができる。
測定装置66は、測定部68と増幅部72に分けることができる。測定装置66は、更に、測定の種類に応じて他の機能を付加することができ、例えばオシロスコープなどの時間分解部を設けることができる。測定部68は、光の測定、質量の測定などの測定機器を使用し、増幅部72は、ロックインアンプ、ボックスカーアンプなどを使用できる。増幅部72は、検出タイミング信号64に基づいて測定信号を処理することにより、必要とする測定を的確に得ることができる。例えばロックインアンプの場合、基準タイミング信号に基づいて信号を増幅することにより、測定信号のSN比を改善することができる。また、ボックスカーアンプ若しくはオシロスコープを使用し、検出タイミング信号64と変調タイミング信号46を協働し、ボックスカー積分若しくは時間分解測定を行うことで、例えば、高出力時の高温、高密度プラズマによる原子イオンの高感度検出と、低出力時の低温、低密度プラズマによる分子イオンの検出を同時に行うことができる。
液体28をプラズマ32中の所望の位置に広がらずに導入できるので、ビーム照射装置74からレーザーや電子ビームなどの径の小さいエネルギービーム740を液体28に照射し、ビーム740と液体28を効率よく反応させる事ができる。そのため、液体28とビーム740との反応効率(液体の利用効率)を極めて高くする事が可能となる。また、液体28とビーム740が交差した空間上の一点で反応を起こす事ができるため、プラズマ32中に空間的に特異な環境(高温、高密度、高活性など)を生成できる。そのため、物質製造等にも有効となり得る。つまり、プラズマ(マイクロプラズマを含む)32、液体(蒸気や気体を含む)28、ビーム(レーザーや電子ビームなど)740の3つ以上を空間的に一致させる事で、今までは実現できなかった特殊な条件が実現可能となる。なお、液体28とビーム740が交差する点はプラズマ32の内部でも外部でもよい。プラズマ32の内部の時には液体28は蒸気や気体になっている可能性があるが、従来の噴霧方法に比べて反応の効率は遥かに高くなる。なお、本発明において、液体28は、ノズル26からの噴出後に気化など相変化する場合があるが、噴出後の液体28は、その相変化の状態も含むものとする。
(8)タイミング信号による効果
本発明の実施の態様では、試料の噴出、プラズマ32に供給する電力、測定信号の検出の3つのタイミングを同期させることにより、微少量の試料に対しても高感度分析が可能となる。また、気化装置50に付与する気化タイミング信号を加えた4つのタイミングを同期させることにより、より高感度分析が可能となる。従来のロックイン増幅のための信号変調は、光やイオン信号をチョッパー等で変調していたので光やイオンの信号の半分近くを犠牲にすることになっていた。これに対して、本発明の実施の態様では、間欠的に液滴を噴出し、高周波のパルス化など出力の変調を行うことで、試料の大幅な低減と高感度化を同時に得ることができる。これにより、微量元素分析用の溶液試料を測定できる。液体導入プラズマシステム20は、ピコリットルオーダーの溶液試料粒子の噴出、プラズマへのパルス変調電力の印加、光・イオンの信号検出の3又は4つのタイミングを同期させ、ロックイン増幅することで微少量試料の高感度分析を実現できる。即ち、本発明の実施の形態の液体導入プラズマシステム20は、パルス状に電力や分析試料を投入することで変調を行うことにより、電力や分析試料を大幅に低減できる。また、液体導入プラズマシステム20は、ロックイン増幅など色々な測定を行うことでS/N比を向上でき、分析感度を改善することができる。このように、分析試料量あたりの分析感度を大幅に改善でき、細胞液などの微少量の試料でも高感度に分析することができる。
発光、原子、分子、又は、原子や分子のイオンなどの検出や分析は、プラズマの中心軸上で行われる。しかし、噴霧した多数の粒子をガスとともに供給する従来の方法では、試料はプラズマ中に拡散するため、全ての試料を分析に使用できていなかった。これに対し、一直線上の液体や液滴をプラズマの中心軸上に導入する本手法では、試料の分析への空間的な利用効率が向上する。また、試料の飛来に同期させて励起、イオン化と検出を行うことで、時間的な利用効率が向上する。その結果、微少量試料に対する分析感度を向上することができる。
本実施の形態により、微少量な試料をプラズマに供給でき、プラズマ中の所望の位置に液体を導入でき、微小なプラズマ中に液体を導入でき、プラズマを発生する電力を低減でき、元素分析の際の分析感度を改善でき、周囲を擾乱することなく液体を気化でき、液体をほぼ100%の導入効率でプラズマ中に導入でき、又は、出力を変調することによって低出力時に分子イオンの測定を、高出力時に原子イオンの測定を同時に行うことができる。プラズマ中の所望の位置に液体を導入できるので、例えば、発光分析では、従来プラズマ中に広がった試料のうち、測定点にある試料しか分析に利用できなかったが、測定点に液体を導入できるので、測定点の発光をレンズで集光すれば、分析感度を高めることができ、また、試料の無駄を省くことができる。

Claims (13)

  1. プラズマが生じるプラズマ室と、
    プラズマ室でプラズマを生成するプラズマ生成装置と、
    液体を一滴ずつ噴出してプラズマ室に入れる噴出装置と、を備えている、液体導入プラズマシステム。
  2. 請求項1に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    前記液体は一滴ずつ一直線上に噴出されている、液体導入プラズマシステム。
  3. 請求項1または請求項2に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ室は、マイクロプラズマ装置のプラズマ室である、液体導入プラズマシステム。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    液体を気化する気化装置を備え、
    気化装置は、液体に放射エネルギーを照射する、液体導入プラズマシステム。
  5. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ室は、絶縁体を介して対向配置された一対の板電極に貫通形成された穴である、液体導入プラズマシステム。
  6. 請求項1または請求項2に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    タイミング信号を作成する信号発生装置を備え
    出装置は、信号発生装置で作成したタイミング信号を受信して、体を粒状に噴出する、液体導入プラズマシステム。
  7. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ室は、マイクロプラズマ装置のプラズマ室である、液体導入プラズマシステム。
  8. 請求項または請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    信号発生装置で作成したタイミング信号を受信して、体を気化する気化装置を備える、液体導入プラズマシステム。
  9. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ生成装置は、体の噴出のタイミングに合わせて出力を変調する、液体導入プラズマシステム。
  10. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ状態を測定する測定装置を備え、
    測定装置は、体の噴出のタイミングに合わせてプラズマ状態を測定する、液体導入プラズマシステム。
  11. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ状態を測定する測定装置を備え、
    測定装置は、プラズマ状態を測定する測定部と、測定部からの測定信号を増幅するロックインアンプ又はボックスカーアンプと、を備え、
    ロックインアンプ又はボックスカーアンプは、タイミング信号に基づいて測定部からの測定信号を増幅する、液体導入プラズマシステム。
  12. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    プラズマ状態を測定する測定装置と、を備え、
    プラズマ生成装置は、体の噴出のタイミングに合わせて出力を変調し、測定装置は、該噴出のタイミングに合わせてプラズマ状態を測定する、液体導入プラズマシステム。
  13. 請求項に記載の液体導入プラズマシステムにおいて、
    体を気化する気化装置と、
    プラズマ状態を測定する測定装置と、を備え、
    気化装置は液体の噴出のタイミング信号を受信して液体を気化し、プラズマ生成装置は該噴出のタイミングに合わせて出力を変調し、測定装置は該噴出のタイミングに合わせてプラズマ状態を測定する、液体導入プラズマシステム。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007279016A (ja) * 2006-03-16 2007-10-25 Jfe Steel Kk 物質の励起および/またはイオン化方法、ならびにそれを用いた分析方法および分析装置
JP2009289432A (ja) * 2008-05-27 2009-12-10 Tokyo Institute Of Technology プラズマ発生装置及びプラズマ生成方法
CN101587038B (zh) * 2009-06-26 2011-07-20 中国科学院合肥物质科学研究院 一种大气压下液态样本解吸附离化方法
US9023214B2 (en) * 2010-02-10 2015-05-05 Aic, Llc Method and apparatus for applying plasma particles to a liquid and use for disinfecting water
US8941059B2 (en) * 2010-10-29 2015-01-27 Atonarp, Inc. Sampling apparatus
US9861950B2 (en) * 2013-03-14 2018-01-09 Florida State University Research Foundation, Inc. Method for reacting flowing liquid and gas in a plasma discharge reactor
US10350572B2 (en) 2013-03-14 2019-07-16 Florida State University Research Foundation, Inc. Simultaneous on-site production of hydrogen peroxide and nitrogen oxides from air and water in a low power flowing liquid film plasma discharge for use in agriculture
US20140340093A1 (en) * 2013-05-18 2014-11-20 Brechtel Manufacturing, Inc. Liquid ion detector
JP6167272B2 (ja) * 2013-06-24 2017-07-26 国立大学法人東京工業大学 原子発光検出器用マイクロプラズマ装置
US9583257B2 (en) * 2014-07-18 2017-02-28 Nokia Technologies Oy Microfluidics controlled tunable coil
US10424470B2 (en) * 2015-03-25 2019-09-24 Tofwerk Ag Apparatus and method for mass spectrometry
US10556817B2 (en) 2017-01-30 2020-02-11 Florida State University Research Foundation, Inc. Gas-liquid plasma and bioreactor system and method for remediation of liquids and gases
CN107761058B (zh) * 2017-11-14 2018-11-13 中国科学院光电研究院 多元合金薄膜的制备装置及其制备方法
US10988390B2 (en) 2018-09-28 2021-04-27 Florida State University Research Foundation, Inc. Gas/liquid plasma reactor with pulsed power supply and secondary direct current electrodes
JP2020118466A (ja) * 2019-01-18 2020-08-06 国立研究開発法人産業技術総合研究所 試料供給装置、該試料供給装置を含む誘導結合プラズマ分析システム、及び試料供給方法
JP7226775B2 (ja) 2019-01-18 2023-02-21 国立研究開発法人産業技術総合研究所 誘導結合プラズマ分析システム及び誘導結合プラズマ分析方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110350A (ja) * 1988-10-19 1990-04-23 Nkk Corp 高純度ガスの迅速分析方法
JPH0629099A (ja) * 1992-01-30 1994-02-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd 誘導プラズマ装置
JPH06238211A (ja) * 1993-02-09 1994-08-30 Elhanan Tavor 噴霧装置および噴霧方法
JP2000164169A (ja) * 1998-11-26 2000-06-16 Hitachi Ltd 質量分析計
JP2001070841A (ja) * 1999-09-06 2001-03-21 Hitachi Ltd 噴霧器及びそれを用いた分析装置
JP2005031020A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Rikogaku Shinkokai 液体導入プラズマトーチ

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3201635A (en) 1962-03-07 1965-08-17 Arlen F Carter Method and apparatus for producing a plasma
US3231635A (en) * 1963-10-07 1966-01-25 Shell Oil Co Process for the preparation of block copolymers
US5233156A (en) * 1991-08-28 1993-08-03 Cetac Technologies Inc. High solids content sample torches and method of use
JP2000074838A (ja) * 1998-08-28 2000-03-14 Seiko Instruments Inc 光学絞りを別途備えたicp分光分析装置
US6998785B1 (en) * 2001-07-13 2006-02-14 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Liquid-jet/liquid droplet initiated plasma discharge for generating useful plasma radiation
WO2004068087A2 (en) * 2003-01-27 2004-08-12 San Diego State University Foundation Sensitive sensing based on optical nonlinear wave mixing
CN1774626A (zh) * 2003-03-14 2006-05-17 日本电气株式会社 质谱系统和用于分析的方法
US20050072915A1 (en) * 2003-10-07 2005-04-07 Biospect Inc. Methods and apparatus for self-optimization of electrospray ionization devices
US7005635B2 (en) * 2004-02-05 2006-02-28 Metara, Inc. Nebulizer with plasma source
US8222822B2 (en) * 2009-10-27 2012-07-17 Tyco Healthcare Group Lp Inductively-coupled plasma device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110350A (ja) * 1988-10-19 1990-04-23 Nkk Corp 高純度ガスの迅速分析方法
JPH0629099A (ja) * 1992-01-30 1994-02-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd 誘導プラズマ装置
JPH06238211A (ja) * 1993-02-09 1994-08-30 Elhanan Tavor 噴霧装置および噴霧方法
JP2000164169A (ja) * 1998-11-26 2000-06-16 Hitachi Ltd 質量分析計
JP2001070841A (ja) * 1999-09-06 2001-03-21 Hitachi Ltd 噴霧器及びそれを用いた分析装置
JP2005031020A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Rikogaku Shinkokai 液体導入プラズマトーチ

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