JP2005031020A - 液体導入プラズマトーチ - Google Patents

液体導入プラズマトーチ Download PDF

Info

Publication number
JP2005031020A
JP2005031020A JP2003272898A JP2003272898A JP2005031020A JP 2005031020 A JP2005031020 A JP 2005031020A JP 2003272898 A JP2003272898 A JP 2003272898A JP 2003272898 A JP2003272898 A JP 2003272898A JP 2005031020 A JP2005031020 A JP 2005031020A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
plasma
spray
plasma torch
generation chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003272898A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4123432B2 (ja
Inventor
Akitoshi Okino
沖野晃俊
Shuichi Miyahara
宮原秀一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rikogaku Shinkokai
Original Assignee
Rikogaku Shinkokai
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rikogaku Shinkokai filed Critical Rikogaku Shinkokai
Priority to JP2003272898A priority Critical patent/JP4123432B2/ja
Publication of JP2005031020A publication Critical patent/JP2005031020A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4123432B2 publication Critical patent/JP4123432B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

【課題】液体を直接プラズマ中に導入し、極めて少ない液体でも、高い分析能力を得ること。
【解決手段】プラズマ4を生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、プラズマ発生室2を形成するプラズマトーチ本体1と、噴霧口36からプラズマ発生室2内に液体を噴霧する噴霧装置3とを備え、噴霧口36の位置を調整可能とする、液体導入プラズマトーチ。
【選択図】図1

Description

本発明は、試料などの液体を直接導入することができる液体導入プラズマトーチに関するものである。
従来の分析用プラズマトーチは、三重又は二重管構造をした石英ガラス製である。主にアルゴンやヘリウムを毎分10〜20リットル程度流し、外部から高周波もしくはマイクロ波電力を印加してプラズマを生成していた。このように従来のプラズマトーチはプラズマ生成のみを行うように設計されており、導入液体は、例えばあらかじめネブライザによりスプレーチャンバ中に霧化したのち、プラズマトーチに輸送していた。
解決しようとする問題点は、従来の液体導入効率は高くとも、10%程度であった。このため、試料の多くはプラズマ中に導入されず、導入効率が良くなかった。また、試料を霧化してからプラズマに導入されるまでの経路に試料が付着し、試料導入終了後にも信号が検出されるメモリー効果が生じていた。
本発明は、プラズマを生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、プラズマ発生室を形成するプラズマトーチ本体と、噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置とを備え、噴霧口の位置を調整可能とする、液体導入プラズマトーチにある。
本発明は、つぎのような効果を得ることができる。
<1>本発明は、液体を直接プラズマ中に導入することができる。
<2>又は、本発明は、極めて少ない液体でも、高い分析能力を持つことができる。
<3>又は、本発明は、噴霧口の位置を調整可能とすることにより、容易に測定データを調整することができる。
<4>又は、本発明は、噴霧装置が目詰まりなどを生じた場合に容易に取り替えることができる。
<5>又は、本発明は、小型化でき、機器の取り扱いが容易になる。
<6>又は、本発明は、試料など液体の付着によるメモリ効果を低減できる。
<1>液体導入プラズマトーチ
液体導入プラズマトーチは、プラズマ4を発生するプラズマ発生室2内に試料などの液体を導入できるプラズマトーチである。液体導入プラズマトーチは、試料の分析用のほかに、液体混合物などの液体をプラズマ中に導入して、金属などの物質の表面改質やプラズマプロセッシングなどに使用できる。液体導入プラズマトーチは、例えば図1〜図2に示すように、プラズマ発生室2内を有するプラズマトーチ本体1と、液体をプラズマ発生室2に導入する噴霧装置3を備えている。液体導入プラズマトーチは、液体を直接プラズマ4中に噴霧することができる。この構成により、液体をプラズマ発生室2内に100%の効率で導入することができる。そのため、極めて少ない液体でも、高い分析能力を得ることができる。また、液体導入プラズマトーチを小型化でき、取り扱いが容易になる。また、液体の噴霧位置3の噴霧口36の位置を調整することにより、測定条件を容易に調整することができる。また、従来のようにスプレーチャンバや脱触媒システムを必要とすることがなく、また、以前に使用した液体が付着することによって生じるメモリ効果を低減できる。
<2>プラズマトーチ本体
プラズマトーチ本体1は、プラズマ4を発生するプラズマ発生室2と、プラズマ発生室2にヘリウムやアルゴンなどのプラズマガスを導入するガス通路形成部材12を備えている。プラズマ発生室2でプラズマ4を発生する手段は、外部から高周波もしくはマイクロ波を印加するなど種々の方法が知られており、図示していない。プラズマ発生室2は、例えば図1に示すように、筒体11とガス通路形成部材12で囲まれた空間であり、プラズマガスなどのガスが排出される開口部21を有している。ガス通路形成部材12の端面は、プラズマ発生室2の開口部21に対向しており、プラズマ発生室奥の端壁の面を形成している。プラズマガスは、プラズマガス注入口15から注入され、筒体11とガス通路形成部材12との間のプラズマガス通路14を通過してプラズマ発生室2に移送される。
筒体11は、例えば円筒とし、円筒の一端を開口部21とし、円筒の他端から内部にガス通路形成部材12を配置する。円筒の軸方向の長さは、分析の内容により適宜決められるが、例えば25mm〜200mmの小型から390mm程度まで利用し、円筒の内径(直径)は、例えば5mm〜30mmの小型から300mm程度まで利用する。プラズマ発生室2の軸方向の長さは、例えば10mm〜180mmの小型から370mm程度まで利用する。このプラズマ発生室2の軸方向の長さは、開口部21からプラズマ発生室奥の端壁の面までの距離である。プラズマトーチ本体の長さ(円筒の軸方向の長さ+噴霧装置の円筒からの突出部の長さ)は、例えば35mm〜210mmの小型から400mm程度まで利用する。ガス通路形成部材の軸方向の長さは、例えば15mm〜100mmとする。ガス通路形成部材の外径(直径)は、プラズマ発生室側端部で大きく、反対側端部で小さいものでも、又は、全体に同一径でもよい。同一径の場合、その外径(直径)は、例えば筒体11の内径(直径)より0.5mm〜10mm小さいものを使用する。
<3>噴霧装置
噴霧装置3は、液体をプラズマ発生室2に噴霧する装置である。噴霧装置3は、例えば図1〜図2に示すように、管状の噴霧装置本体31と、噴霧装置本体31の先端部にプラズマ発生室に液体を送り出す噴霧口36を備えている。噴霧装置本体31は、液体を注入する液体注入口33とプラズマ室2に液体を移送する液体通路管32、及び、噴霧ガスを注入する噴霧ガス注入口35とプラズマ発生室2に移送する噴霧ガス通路管34を備えている。噴霧装置本体31は、噴霧ガス通路管34の外管と、外管内に配置された液体通路管32の内管よりなる。
噴霧装置3は、プラズマトーチ本体1のガス通路形成部材12により保持される。噴霧装置3は、ガス通路形成部材12の貫通孔内に移動可能に保持される。噴霧装置3とガス通路形成部材12間を機密にするために、噴霧装置本体31の周囲にOリング37を配置する。噴霧装置の噴霧口36は、プラズマ発生室2の内部に押し出されたり、逆に、ガス通路形成部材12の貫通孔内に入り込むように移動することができる。噴霧装置3は、小型化ができ、噴霧装置本体31の軸方向の長さは、例えば、20mm〜150mmとし、外径(直径)は、例えば、3mm〜15mmの小型から299mm程度まで利用する。この噴霧装置本体31の軸方向の長さは、噴霧口36から噴霧ガス注入口35までの距離である。このように噴霧装置3を小型化でき、取り扱いが容易になるとともに、噴霧装置3の表面に付着する液体の量を最小限に抑えることができる。
<1>実施例
本発明の液体導入プラズマトーチを用いて、ナトリウム由来のスペクトル(589nm)の発光強度及び発光強度安定性の影響を調査した。本発明は、噴霧口36の位置を調整できることになり、噴霧ガスの流量と液体導入量の調整の他にパラメータが増え、よりバリエーションに富んだ最適な分析条件を探し出せることが可能になった。従来、分析最適条件は、噴霧ガスの流量と、液体導入量にのみ依存していたため、分析目的及び資料の状態に合わせた細かい最適条件の調整が難しかった。実験に使用した、液体導入プラズマトーチのプラズマトーチ本体の長さは65mm(トーチ全体では85mm)であり、プラズマ発生室の長さは55mmであり、内径(直径)は16mmであり、ガス通路形成部材の長さは20mmであり、噴霧装置本体の長さは40mm(噴霧装置全体では65mm)であり、外径(直径)は7mmである。
<2>データ測定
表1のような測定条件により測定した。試料としてナトリウム500μg/l硝酸溶液を導入し、噴霧口36の位置、噴霧ガスの流量、プラズマガスをそれぞれ変更し、プラズマから放出されるナトリウム由来のスペクトル(589nm)の発光強度及び発光強度の安定性に与える影響を調査した。なお、発光強度の安定性は、発光強度を30ミリ秒の積分時間を持つロックインアンプで増幅し、2ミリ秒の積分時間を持つ測定を10,000回、計20秒間測定し、それらのデータの標準偏差(SD)をもって安定性とした。従来の液体導入法との比較のために、スプレーチャンバ及び同軸型ネブライザを用いて、発光強度と発光強度の安定性を測定した。
Figure 2005031020
噴霧ガスの流量を0.3(l/min)、0.5(l/min)、0.7(l/min)と変化させた時の、ナトリウム由来のスペクトルの発光強度の安定性と発光強度の測定データを、各々図3、図4、図5に示す。図3〜図5の(A)は発光強度の安定性のグラフを示し、図3〜図5の(B)は発光強度のグラフを示している。また、図3〜図5の(A)は、横軸が噴霧口の位置を示し、縦軸が発光強度の安定性(標準偏差σの単位:RSD)を示している。図3〜図5の(B)は、横軸が噴霧口の位置を示し、縦軸が発光強度を示している。図3〜図5において、液体噴霧量が0.03(l/min)のグラフ(黒丸)と0.06(l/min)のグラフ(白丸)を示している。横軸の噴霧口36の位置は、図2の目盛り(mm)の値を示している。負の値は、噴霧口36がプラズマ発生室2内にあり、端壁面13からの距離を示しており、正の値は、噴霧口36が端壁面13の孔内に入り込み、端壁面13からの距離を示している。
図3(A)(噴霧ガスの流量:0.3(l/min))において、液体噴霧量が0.03(l/min)のグラフ(黒丸)の場合、発光強度の安定性は、噴霧口の位置にあまり影響を受けないが、液体噴霧量が0.06(l/min)のグラフ(白丸)の場合、噴霧口の位置がプラズマ発生室内の端壁面から2mmの範囲で発光強度の安定性が高いことを示している。図3(B)において、発光強度は、液体噴霧量が0.03(l/min)のグラフ(黒丸)の場合、発光強度は、小さいが、液体噴霧量が0.06(l/min)のグラフ(白丸)の場合、噴霧口の位置がプラズマ発生室内の端壁面から2mmの個所で発光強度が大きいことを示している。
図4(A)(噴霧ガスの流量:0.5(l/min))において、液体噴霧量が0.03(l/min)のグラフ(黒丸)の場合、図3(A)とあまり違いがないが、液体噴霧量が0.06(l/min)のグラフ(白丸)の場合、図3(A)に比して弱くなり、噴霧口の位置の影響が少ないことを示している。図4(B)において、発光強度は、液体噴霧量が0.03(l/min)でも0.06(l/min)でも、図(B)のグラフとあまり違いが見られない。
図5(A)(噴霧ガスの流量:0.7(l/min))において、発光強度の安定性は、図3と図4のグラフとかなり違いがあり、噴霧口がプラズマ発生室にいある方が、安定性が高いことを示している。図5(B)において、発光強度は、液体噴霧量が0.03(l/min)と0.06(l/min)において、グラフの変化が類似し、液体噴霧量が多いほど、発光強度が大きいことを示している。
<3>結果と結論
噴霧口の位置は、噴霧ガスの流量と液体導入量と共に、発光強度とその安定性に極めて大きい影響を与えることが明らかになった。そこで、噴霧口の位置を調整することにより、最適な測定データを得ることができる。
液体導入プラズマトーチの説明図 液体導入プラズマトーチの一部拡大図 噴霧ガス流量0.3(l/min)の発光強度の安定性(A)と発光強度(B)のグラフ 噴霧ガス流量0.5(l/min)の発光強度の安定性(A)と発光強度(B)のグラフ 噴霧ガス流量0.7(l/min)の発光強度の安定性(A)と発光強度(B)のグラフ
符号の説明
1・・・プラズマトーチ本体
11・・筒体
12・・ガス通路形成部材
13・・端壁面
14・・プラズマガス通路
15・・プラズマガス注入口
2・・・プラズマ発生室
21・・開口部
3・・・噴霧装置
31・・噴霧装置本体
32・・液体通路管
33・・液体注入口
34・・噴霧ガス通路管
35・・噴霧ガス注入口
36・・噴霧口
4・・・プラズマ
41・・噴霧された液体

Claims (5)

  1. プラズマを生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、
    プラズマ発生室を形成するプラズマトーチ本体と、
    噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置とを備え、
    噴霧口の位置を調整可能とすることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
  2. 請求項1に記載の液体導入プラズマトーチにおいて、
    プラズマ発生室の開口部に対向する端壁に孔を有し、
    噴霧装置を端壁の孔内で位置調整可能とすることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
  3. 請求項1に記載の液体導入プラズマトーチにおいて、
    噴霧装置は、管状の噴霧装置本体を備え、噴霧装置本体内に液体が通過する液体通路と、噴霧ガスが通過する噴霧ガス通路とを有し、
    噴霧装置本体は、プラズマトーチ本体に対して摺動可能であることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
  4. プラズマを生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、
    プラズマ発生室を形成するプラズマトーチ本体と、
    噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する小型の噴霧装置と、
    噴霧装置を形成する管状の噴霧装置本体とを備え、
    プラズマトーチ本体は、35mm〜210mmの軸方向の長さとし、
    プラズマ発生室は、10mm〜180mmの軸方向の長さとし、
    噴霧装置本体は、20mm〜150mmの軸方向の長さとすることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
  5. プラズマを生じさせる液体導入プラズマトーチにおいて、
    プラズマ発生室を形成するプラズマトーチ本体と、
    噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置と、
    噴霧装置を形成する管状の噴霧装置本体とを備え、
    噴霧装置本体は、プラズマトーチ本体の長さとプラズマ発生室の奥行きの深さの範囲に入る程度の長さとすることを特徴とする、液体導入プラズマトーチ。
JP2003272898A 2003-07-10 2003-07-10 液体導入プラズマトーチ Expired - Fee Related JP4123432B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003272898A JP4123432B2 (ja) 2003-07-10 2003-07-10 液体導入プラズマトーチ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003272898A JP4123432B2 (ja) 2003-07-10 2003-07-10 液体導入プラズマトーチ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005031020A true JP2005031020A (ja) 2005-02-03
JP4123432B2 JP4123432B2 (ja) 2008-07-23

Family

ID=34210312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003272898A Expired - Fee Related JP4123432B2 (ja) 2003-07-10 2003-07-10 液体導入プラズマトーチ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4123432B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006137205A1 (ja) 2005-06-22 2006-12-28 Tokyo Institute Of Technology 液体導入プラズマシステム
CN102235977A (zh) * 2010-03-29 2011-11-09 精工电子纳米科技有限公司 Icp分析装置及其分析方法
KR101479261B1 (ko) * 2013-07-31 2015-01-05 한국기초과학지원연구원 액체 공급 장치 및 이를 이용한 플라즈마 수처리 장치
KR101493673B1 (ko) 2013-07-09 2015-02-16 한국기초과학지원연구원 액체 플라즈마 토치 발생장치
JP2019040863A (ja) * 2017-08-23 2019-03-14 国立大学法人東北大学 活性種含有液噴射装置
CN109545648A (zh) * 2018-12-27 2019-03-29 昆山禾信质谱技术有限公司 一种复合电离装置
WO2020100761A1 (ja) * 2018-11-16 2020-05-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 プラズマトーチ、プラズマ発生装置および分析装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006137205A1 (ja) 2005-06-22 2006-12-28 Tokyo Institute Of Technology 液体導入プラズマシステム
JPWO2006137205A1 (ja) * 2005-06-22 2009-01-08 国立大学法人東京工業大学 液体導入プラズマシステム
JP4560634B2 (ja) * 2005-06-22 2010-10-13 国立大学法人東京工業大学 液体導入プラズマシステム
CN102235977A (zh) * 2010-03-29 2011-11-09 精工电子纳米科技有限公司 Icp分析装置及其分析方法
KR101493673B1 (ko) 2013-07-09 2015-02-16 한국기초과학지원연구원 액체 플라즈마 토치 발생장치
KR101479261B1 (ko) * 2013-07-31 2015-01-05 한국기초과학지원연구원 액체 공급 장치 및 이를 이용한 플라즈마 수처리 장치
JP2019040863A (ja) * 2017-08-23 2019-03-14 国立大学法人東北大学 活性種含有液噴射装置
JP7040770B2 (ja) 2017-08-23 2022-03-23 国立大学法人東北大学 活性種含有液噴射装置
WO2020100761A1 (ja) * 2018-11-16 2020-05-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 プラズマトーチ、プラズマ発生装置および分析装置
JPWO2020100761A1 (ja) * 2018-11-16 2021-10-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 プラズマトーチ、プラズマ発生装置および分析装置
CN109545648A (zh) * 2018-12-27 2019-03-29 昆山禾信质谱技术有限公司 一种复合电离装置
CN109545648B (zh) * 2018-12-27 2024-04-30 昆山禾信质谱技术有限公司 一种复合电离装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4123432B2 (ja) 2008-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3925000B2 (ja) 噴霧器及びそれを用いた分析装置
US6126086A (en) Oscillating capillary nebulizer with electrospray
US9541479B2 (en) Apparatus and method for liquid sample introduction
JPH05251038A (ja) プラズマイオン質量分析装置
JP3670055B2 (ja) 噴霧器
JP4123432B2 (ja) 液体導入プラズマトーチ
US7145137B2 (en) Demountable direct injection high efficiency nebulizer for inductively coupled plasma mass spectrometry
US9165751B1 (en) Sample atomization with reduced clogging for analytical instruments
US20200391235A1 (en) Nebulizer, sample introduction unit, and analysis device
JP5051773B2 (ja) 三重管構造を有するネブライザーとそれを用いた分析システム
JPH11248632A (ja) 調整可能なインゼクタ―を有するプラズマト―チおよびその様なト―チを用いる気体分析装置
JP2962626B2 (ja) 質量分析装置
Koropchak et al. Aerosol particle size effects on plasma spectrometric analysis
JP7028486B2 (ja) プラズマトーチ、プラズマ発生装置および分析装置
JP4709998B2 (ja) 液体導入プラズマ装置
JPH09159610A (ja) 試料導入安定化機構を備えたプラズマ分析装置
JP2002318193A (ja) ネブライザ及び高周波誘導結合プラズマ発光分析装置
JPS5940256B2 (ja) 発光分光分析装置
JP2011209250A (ja) 誘導結合プラズマ分析装置用試料導入装置
JP2007114063A (ja) ネブライザ及び試料液霧化装置
JPH0426099A (ja) 高周波プラズマ用トーチおよび該トーチを用いる元素分析装置
JP2002131226A (ja) 原子吸光分光光度計
JP5467360B2 (ja) アトマイザーおよび発光分析装置
JPH09199076A (ja) 誘導結合プラズマ質量分析装置及びその方法
JPS6250644A (ja) プラズマ発光分析装置用廃液槽

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20041129

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20041224

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20041227

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071022

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071227

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080205

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

R155 Notification before disposition of declining of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R155

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees