JPH0426099A - 高周波プラズマ用トーチおよび該トーチを用いる元素分析装置 - Google Patents

高周波プラズマ用トーチおよび該トーチを用いる元素分析装置

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JPH0426099A
JPH0426099A JP2129077A JP12907790A JPH0426099A JP H0426099 A JPH0426099 A JP H0426099A JP 2129077 A JP2129077 A JP 2129077A JP 12907790 A JP12907790 A JP 12907790A JP H0426099 A JPH0426099 A JP H0426099A
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JP
Japan
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plasma
torch
gas
gas flow
tube
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Pending
Application number
JP2129077A
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English (en)
Inventor
Makoto Yasuda
誠 安田
Takeshi Kimura
剛 木村
Yukio Okamoto
幸雄 岡本
Konosuke Oishi
大石 公之助
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高周波電力、特にマイクロ波電力により放電維
持されている高周波プラズマを発生させるためのトーチ
(放電ガスのガス導入管)に係り、さらに上記トーチを
使用した高周波プラズマを用いる元素分析装置に関する
〔従来の技術〕
従来のマイクロ波プラズマ用トーチは、アプライド・ス
ペクトロスコピー、第42巻(1988年)、第1o2
3頁から第1025頁(AppliedSpectro
scopy VoQ、42. p 1023〜1025
(1988))において記載されている。第4図にプラ
ズマ発生部周辺の断面図を示した。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術においては、プラズマ発生部のトーチは内
径が軸方向に一定な直管であった。上記従来のトーチは
安定にプラズマを形成させるための比較的大量のガスを
消費して経済的に不利であった。
本発明の目的は、ガスの消費量を減らしても安定にプラ
ズマを形成させることができるトーチを提供することを
目的としている。
さらに本発明の他の目的はガスの消費量を減らした経済
的に有利な元素分析装置を提供することを目的としてい
る。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、プラズマ発生部のトーチの
内径を軸方向に変化させて、ガスの流れに沿って徐々に
内径が小さくなるように構成したものである。
〔作用〕
トーチ内径を徐々に細くすることによって、ガスの流れ
は進むほど(下流側で)速くなる。それによって安定な
層流領域が少ない流量で維持できるように作用する。ま
た、徐々に細くなっているのでガスの内側に向く速度成
分が生じ、プラズマがトーチ中心部に安定に維持できる
ように働く。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
第1図に示したトーチは二重管構造になっている、石英
もしくはアルミナなどで作られている。
外管11の入口11′は接線方向に取りつけられており
、入口11′よりプラズマ形成用のガスである窒素を導
入し、内管12の前方においてプラズマを形成させる。
内管12には、水溶液試料を霧化してそれをキャリヤガ
スである窒素とともに内管12の入口12′より導入す
る。
キャリヤガスおよび試料は、内管12の前方に形成され
ているプラズマ中に導入され、原子化。
励起、イオン化される。プラズマ形成用のガス流量は約
5+127m1n、キャリヤガス流量は約0.5 fl
/minである。また窒素以外にアルゴン、ヘリウム、
空気などの単体または混合ガスも用いることができる。
ところで、プラズマが安定に形成されるかどうかは、プ
ラズマ形成用のガスの流れ方に依るところが大きい。プ
ラズマ形成用ガスは入口に於て接線方向に導入されるた
めガスはらせん状に回転しながらトーチ先端方向へ流れ
ていく。ところで本実施例ではトーチ内径が軸方向に変
化していて、先端に行くほど細くなっているので、ガス
の流速も先端に行くほど速くなり、またガスの内側(軸
方向)への成分が生じている。このためトーチ内径が一
定の従来のトーチと比較して、形成される層流がくずれ
にくく、プラズマ形成用のガス流量を従来のトーチより
も大幅に減らしても安定なプラズマを中心部に形成する
ことが可能になった。
ここで、第1図では明示しなかったが、高周波の印加は
内管12の先端部の前方でトーチ周囲から等方的に供給
するように構成する。その具体例については第3図にて
説明する。
第2図に本発明の他の実施例を示した。第2図に示した
トーチは三重管構造になっている。外管11の入口11
′と中間管13の入口13′はともに接線方向に取りつ
けられている。
本実施例のプラズマトーチにおいても第1図の実施例と
同様に入口11′よりプラズマ形成用のガスが、入口1
2′よりキャリヤガスおよび霧化された試料が導入され
、内管12の前方向に形成されるプラズマ中で試料の原
子化、励起、イオン化が行われる。また第1図と同様に
外管12の内径はガスの流れとともに小さくなっていて
、ガスの流速が徐々に速くなっている。このため従来の
トーチと比較して少ない流量で安定なプラズマを形成す
ることが可能になっている。
ところで第2図の実施例では中間管13の入口13′か
らは少量のガスが導入される。この中間管13にガスを
流すことによって発生するプラズマを内管12の先端部
より浮かせるように作用するので、その結果プラズマに
よる内管12の熱的な損傷をなくすことができる。さら
に内管12の材料がプラズマ中に不純物として混入する
ことがなくなる。例えば内管12が石英でできている場
合Siの微量分析が可能となる。
第1図および第2図の実施例ではトーチは一体で構成さ
れているが、例えば外管と内管を別個に製作して、それ
らをOリングなどを用いて組み立てて構成しても良い。
また外管または中間管の入口を2ケ所以上にしても良い
。例えば外管の入口11′とトーチの軸に対して対称と
なるように新たな入口を設け、プラズマ形成用ガスを二
重して導入することができる。この場合は入口が一ケ所
の場合と比較して、形成されるプラズマの軸対称性が良
くなる。
第3図に本発明の他の実施例を示す。第3図の実施例は
元素分析装置を示しており、プラズマ中で形成される試
料イオンを質量分析部に取り込んで元素分析を行う装置
である。ここではマイクロ波電力で放電維持されたプラ
ズマを示したが、この他の高周波領域、たとえば数十M
Hzのラジオ周波数であっても良い。
第3図(a)は全体構成図、同図(b)はマイクロ波プ
ラズマ発生部および試料導入部付近の詳細図である。マ
グネトロン20で発生した2450MHzのマイクロ波
電力は方形導波管21.スリースタブチューナ22.λ
/4インピーダンス変成器23を経て、薄形方形導波管
24(内側の寸法、8.4X109.2mに伝播する。
薄形方形導波管24を貫通するように石英製の二重管ト
ーチが設置されている。プラズマを形成するための窒素
ガスは、窒素ボンベ30から外管11に、入口11′よ
り供給される。
外管11の内径は先端に行くほど徐々に細くなっており
、従来の1/2以下の少ないガス流量で安定なマイクロ
波プラズマ1を発生している。このプラズマ1は大気圧
中の放電で、効率よくマイクロ波電力を吸収し、高温な
プラズマになっている。窒素ボンベ30から出た窒素ガ
スはネプライザ(霧化器)31に送られ、試料32もネ
プライザ31に送られて霧化される。霧化された試料は
窒素ガスとともにトーチの中管12の入口12′より導
入され、プラズマ1の中心部に供給される。
導入された試料はプラズマ1中で原子化、さらにイオン
化される。
プラズマ1中のイオンは質量分析部40のサンプリング
・オリフィス41より前置真空室42に吸入される。前
置真空室42の圧力は数torr程度であり、差動排気
されている。イオンはさらにスキーマ・オリフィス43
を通過して質量分離された後イオン検出器44に入り測
定される。本実施例では、少ないガス流量で安定なプラ
ズマ1が形成されているため、ガス消費量が少なく経済
的に優れた元素分析装置が実現されている。
本発明で用いるマイクロ波立体回路は、上述した実施例
に限らず、他のマイクロ波プラズマ発生用のキャビティ
、例えばサーファトロン型キャビティやビーネッカー型
キャビティを用いる元素分析装置にも適用できる。また
上記実施例では質量分析装置に適用したが、プラズマか
らの発光を用いる発光分光分析装置などの他の元素分析
装置にも容易に適用できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ガス消費量を大幅(1/2以下)に減
らすことができるので、経済的に優れた装置を実現させ
ることができる。さらに分析すべきイオンの径方向への
拡散を低減できるので、分析感度の向上や検出限界の低
減もできる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図および第3図(b)は本発明の実施例の
プラズマトーチの縦断面図、第3図(a)は本発明のプ
ラズマトーチを用いた元素分析装置の概略構成図、第4
図は従来のプラズマトーチを示す縦断面図である。 1・・・プラズマ、11・・・トーチの外管、12・・
トーチの内管、 24・・・薄形方形導波管、 31・・・霧化器、 32・・・試料、 40・・・質量分析装置、 41・・・サンプ 第 函 12゜ 半 図 ζ久)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、大略大気圧下の高周波電力で放電維持されたプラズ
    マを発生させるためのトーチであって、プラズマ発生部
    のトーチの内径か軸に沿って異なり、プラズマガスの流
    れの上流部で太く下流側で細くなっていることを特徴と
    する高周波プラズマ用トーチ。 2、特許請求の範囲第1項記載の高周波プラズマ用トー
    チを用いた元素分析装置。
JP2129077A 1990-05-21 1990-05-21 高周波プラズマ用トーチおよび該トーチを用いる元素分析装置 Pending JPH0426099A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01269555A (ja) * 1988-04-20 1989-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd サーマルプリンタ装置
JPH04328450A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Yokogawa Electric Corp プラズマ発生装置
EP0792091A1 (en) * 1995-12-27 1997-08-27 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Elemental analysis method and apparatus
EP1402762A1 (en) * 2001-07-03 2004-03-31 Varian Australia Pty. Ltd. Plasma torch
JP2007047185A (ja) * 1995-12-27 2007-02-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 元素分析装置
US8285224B2 (en) 2007-07-26 2012-10-09 Tdk Corporation Transmitter/receiver for radio communication, RFID system and receiving method for transmitter/receiver for radio communication

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01269555A (ja) * 1988-04-20 1989-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd サーマルプリンタ装置
JPH04328450A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Yokogawa Electric Corp プラズマ発生装置
EP0792091A1 (en) * 1995-12-27 1997-08-27 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Elemental analysis method and apparatus
US5818581A (en) * 1995-12-27 1998-10-06 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Elemental analysis method and apparatus
JP2007047185A (ja) * 1995-12-27 2007-02-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 元素分析装置
EP1402762A1 (en) * 2001-07-03 2004-03-31 Varian Australia Pty. Ltd. Plasma torch
EP1402762A4 (en) * 2001-07-03 2009-07-01 Varian Australia PLASMA TORCH
US8285224B2 (en) 2007-07-26 2012-10-09 Tdk Corporation Transmitter/receiver for radio communication, RFID system and receiving method for transmitter/receiver for radio communication

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