JPH0696724A - 誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents
誘導結合プラズマ質量分析装置Info
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- JPH0696724A JPH0696724A JP4242084A JP24208492A JPH0696724A JP H0696724 A JPH0696724 A JP H0696724A JP 4242084 A JP4242084 A JP 4242084A JP 24208492 A JP24208492 A JP 24208492A JP H0696724 A JPH0696724 A JP H0696724A
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- plasma
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＩＣＰーＭＳの分子イオンの生成を抑制す
る。 【構成】 第二ガス流量制御部を設置して、プラズマト
ーチの中心にネブライザーガスと第二ガス流量制御部で
流量制御するスプレーチャンバーガスを流し、かつスプ
レーチャンバーガスにアルゴンを使用した構成。 【効果】 分子イオンが低減するため、分子イオンの干
渉を受ける鉄やカリウム等の分析性能が大幅に向上す
る。
る。 【構成】 第二ガス流量制御部を設置して、プラズマト
ーチの中心にネブライザーガスと第二ガス流量制御部で
流量制御するスプレーチャンバーガスを流し、かつスプ
レーチャンバーガスにアルゴンを使用した構成。 【効果】 分子イオンが低減するため、分子イオンの干
渉を受ける鉄やカリウム等の分析性能が大幅に向上す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料溶液中の微量不
純物の同定・定量を行なう誘導結合プラズマ質量分析装
置（ＩＣＰ−ＭＳと呼ぶ）に関する。
純物の同定・定量を行なう誘導結合プラズマ質量分析装
置（ＩＣＰ−ＭＳと呼ぶ）に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術を図２を用いて説明する。図
２は、ＩＣＰ−ＭＳの主に試料導入部を示した図であ
る。図２において、１は試料溶液、２はキャピラリーチ
ューブ、３はネブライザー、４はアダプター、５はスプ
レーチャンバー、６はドレイン、７はプラズマトーチ、
８はワークコイル、９はガス流量制御部、１０は高周波
電源、１１はプラズマ、１２は質量分析部である。
２は、ＩＣＰ−ＭＳの主に試料導入部を示した図であ
る。図２において、１は試料溶液、２はキャピラリーチ
ューブ、３はネブライザー、４はアダプター、５はスプ
レーチャンバー、６はドレイン、７はプラズマトーチ、
８はワークコイル、９はガス流量制御部、１０は高周波
電源、１１はプラズマ、１２は質量分析部である。
【０００３】分析する試料溶液１は細管状のキャピラリ
ーチューブ２を通してネブライザー３に導かれる。ネブ
ライザー３の中心にはキャピラリーチューブ２に接続さ
れた細管があり、その周囲はガス流量制御部９からのガ
ス（ネブライザーガスと呼ぶ：通常アルゴン）が流れる
構造をしている。ネブライザー３にネブライザーガスを
流すと、先端から試料溶液１が霧状に噴霧される。この
ネブライザー３は、同軸型ネブライザーと呼ばれるもの
であるが、クロスフロー型ネブライザーと呼ばれるもの
もある。ネブライザー３の先端は、アダプター４を介し
てスプレーチャンバー５に接続されている。
ーチューブ２を通してネブライザー３に導かれる。ネブ
ライザー３の中心にはキャピラリーチューブ２に接続さ
れた細管があり、その周囲はガス流量制御部９からのガ
ス（ネブライザーガスと呼ぶ：通常アルゴン）が流れる
構造をしている。ネブライザー３にネブライザーガスを
流すと、先端から試料溶液１が霧状に噴霧される。この
ネブライザー３は、同軸型ネブライザーと呼ばれるもの
であるが、クロスフロー型ネブライザーと呼ばれるもの
もある。ネブライザー３の先端は、アダプター４を介し
てスプレーチャンバー５に接続されている。
【０００４】すなわち試料溶液１は、スプレーチャンバ
ー５内に噴霧される。スプレーチャンバー５は、噴霧さ
れた試料溶液１の霧状粒子のうち特定の粒径のものをネ
ブライザーガスと共にプラズマトーチ７に導き（分級と
呼ぶ）、他はドレイン６に排出する働きをしている。プ
ラズマトーチ７は３重管構造をしている。プラズマトー
チ７の中心の管はスプレーチャンバー５に接続されてお
り、最外殻および第二殻には各々プラズマガス、補助ガ
スがガス流量制御部９より供給される。プラズマガス、
補助ガスには、通常アルゴンが使用される。
ー５内に噴霧される。スプレーチャンバー５は、噴霧さ
れた試料溶液１の霧状粒子のうち特定の粒径のものをネ
ブライザーガスと共にプラズマトーチ７に導き（分級と
呼ぶ）、他はドレイン６に排出する働きをしている。プ
ラズマトーチ７は３重管構造をしている。プラズマトー
チ７の中心の管はスプレーチャンバー５に接続されてお
り、最外殻および第二殻には各々プラズマガス、補助ガ
スがガス流量制御部９より供給される。プラズマガス、
補助ガスには、通常アルゴンが使用される。
【０００５】プラズマトーチ７の先端には、ワークコイ
ル８が巻かれており、高周波電源１０で発生する高周波
電力が印加できるようになっている。高周波電力は、通
常０．８から２．０ｋＷの間で使用される。プラズマト
ーチ７にガスを流した状態で高周波電力を印加すると、
ガスはワークコイル８の近傍に形成される交番磁場と誘
導結合してプラズマ１１が発生・維持される。プラスマ
トーチ７の中心に導入された試料溶液１の霧状粒子は、
プラズマ１１内でイオン化される。イオン化された試料
溶液１は、質量分析部１２内に導かれる。質量分析部１
２は、導かれたイオンの質量を分離して検出する働きを
している。測定する試料溶液１中の微量不純物は、検出
された質量数から同定が行われ、検出強度から濃度がわ
かる。ＩＣＰ−ＭＳの構造は、例えば「ＩＣＰ発光分析
の基礎と応用」（原口／著、講談社サイエンティフィ
ク）に開示されている。
ル８が巻かれており、高周波電源１０で発生する高周波
電力が印加できるようになっている。高周波電力は、通
常０．８から２．０ｋＷの間で使用される。プラズマト
ーチ７にガスを流した状態で高周波電力を印加すると、
ガスはワークコイル８の近傍に形成される交番磁場と誘
導結合してプラズマ１１が発生・維持される。プラスマ
トーチ７の中心に導入された試料溶液１の霧状粒子は、
プラズマ１１内でイオン化される。イオン化された試料
溶液１は、質量分析部１２内に導かれる。質量分析部１
２は、導かれたイオンの質量を分離して検出する働きを
している。測定する試料溶液１中の微量不純物は、検出
された質量数から同定が行われ、検出強度から濃度がわ
かる。ＩＣＰ−ＭＳの構造は、例えば「ＩＣＰ発光分析
の基礎と応用」（原口／著、講談社サイエンティフィ
ク）に開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来技術におい
ては、プラズマを構成するガス（アルゴン）および試料
溶液１の構成成分とが結合した分子イオンが生成する。
分子イオンとしては例えば、ＡｒＯ+ （質量数５６）、
ＡｒＨ+ （質量数３９）等がある。このため分子イオン
と質量数が重なる元素（例えば、５６Ｆｅ、３９Ｋ）
は、干渉を受けて分析性能が著しく低下していた。
ては、プラズマを構成するガス（アルゴン）および試料
溶液１の構成成分とが結合した分子イオンが生成する。
分子イオンとしては例えば、ＡｒＯ+ （質量数５６）、
ＡｒＨ+ （質量数３９）等がある。このため分子イオン
と質量数が重なる元素（例えば、５６Ｆｅ、３９Ｋ）
は、干渉を受けて分析性能が著しく低下していた。
【０００７】本発明の目的は、分子イオンの生成を抑制
して、ＦｅやＫといった従来技術では分析性能が損なわ
れていた元素の分析を大幅に性能向上させることであ
る。
して、ＦｅやＫといった従来技術では分析性能が損なわ
れていた元素の分析を大幅に性能向上させることであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は試料溶液を霧状に噴霧するネブライザー
と、前記ネブライザーで前記試料溶液を霧状に噴霧させ
るためのガスを制御して供給するガス流量制御部と、前
記ネブライザーで噴霧された前記試料溶液の分級を行な
うスプレーチャンバーと、三重管構造をしていて中心が
前記スプレーチャンバーに接続されたプラズマトーチ
と、前記プラズマトーチでプラズマを発生・維持するた
めのエネルギーを供給する高周波電源およびワークコイ
ルと、前記プラズマトーチで維持されたプラズマ中でイ
オン化した前記微量不純物を質量分離して検出する質量
分析部からなる誘導結合プラズマ質量分析装置におい
て、第二ガス流量制御部を設置して、前記プラズマトー
チの中心に流すガスを前記ネブライザーを通して行なう
前記ガス流量制御部および前記第二ガス流量制御部によ
り制御し、かつ前記第二ガス流量制御部に流すガスにア
ルゴンを使用したことを特徴とする誘導結合プラズマ質
量分析装置である。
に、この発明は試料溶液を霧状に噴霧するネブライザー
と、前記ネブライザーで前記試料溶液を霧状に噴霧させ
るためのガスを制御して供給するガス流量制御部と、前
記ネブライザーで噴霧された前記試料溶液の分級を行な
うスプレーチャンバーと、三重管構造をしていて中心が
前記スプレーチャンバーに接続されたプラズマトーチ
と、前記プラズマトーチでプラズマを発生・維持するた
めのエネルギーを供給する高周波電源およびワークコイ
ルと、前記プラズマトーチで維持されたプラズマ中でイ
オン化した前記微量不純物を質量分離して検出する質量
分析部からなる誘導結合プラズマ質量分析装置におい
て、第二ガス流量制御部を設置して、前記プラズマトー
チの中心に流すガスを前記ネブライザーを通して行なう
前記ガス流量制御部および前記第二ガス流量制御部によ
り制御し、かつ前記第二ガス流量制御部に流すガスにア
ルゴンを使用したことを特徴とする誘導結合プラズマ質
量分析装置である。
【０００９】本発明により、分子イオンの生成を抑制し
て、鉄やカリウムといった従来技術では分析性能が損な
われていた元素の分析を大幅に性能向上させた。
て、鉄やカリウムといった従来技術では分析性能が損な
われていた元素の分析を大幅に性能向上させた。
【００１０】
【作用】上記のように構成された誘導結合プラズマ質量
分析装置においては、プラズマトーチの中心に流すガス
をネブライザーガス以外に第二ガス流量制御部によりア
ルゴンを流すことにより、プラズマの構造（プラズマ温
度や電子密度）が変化して分子イオンが生成し難い状態
にした。その結果、鉄やカリウムといった分子イオン
（ＡｒＯ+ やＡｒＨ+ ）の干渉を受ける元素のブランク
レベルが低減し、分析性能が大幅に向上する。
分析装置においては、プラズマトーチの中心に流すガス
をネブライザーガス以外に第二ガス流量制御部によりア
ルゴンを流すことにより、プラズマの構造（プラズマ温
度や電子密度）が変化して分子イオンが生成し難い状態
にした。その結果、鉄やカリウムといった分子イオン
（ＡｒＯ+ やＡｒＨ+ ）の干渉を受ける元素のブランク
レベルが低減し、分析性能が大幅に向上する。
【００１１】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図１に基づいて
説明する。図１において、試料溶液１、キャピラリーチ
ューブ２、ネブライザー３、スプレーチャンバー５、ド
レイン６、プラズマトーチ７、ワークコイル８、ガス流
量制御部９、高周波電源１０、プラズマ１１、質量分析
部１２は、図２を用いて説明した従来技術と同等であ
る。４ａはアダプター、１３は第二ガス流量制御部、１
４は継手、１５はチューブである。
説明する。図１において、試料溶液１、キャピラリーチ
ューブ２、ネブライザー３、スプレーチャンバー５、ド
レイン６、プラズマトーチ７、ワークコイル８、ガス流
量制御部９、高周波電源１０、プラズマ１１、質量分析
部１２は、図２を用いて説明した従来技術と同等であ
る。４ａはアダプター、１３は第二ガス流量制御部、１
４は継手、１５はチューブである。
【００１２】アダプター４ａは、スプレーチャンバー５
とネブライザー３を接続できる構造に加えて、側面に継
手１４を取り付けられる構造をしている。そして第二ガ
ス流量制御部１３で流量制御されたガス（スプレーチャ
ンバーガスと呼ぶことにする）は、チューブ１５、継手
１４、アダプター４ａを介してスプレーチャンバー５内
に流入する。即ち試料溶液１（の一部）は、ネブライザ
ーガスおよびスプレーチャンバーガスと共にスプレーチ
ャンバー５を通してプラズマトーチ１の中心の管に導入
される。試料溶液１の溶媒には、硝酸や弗酸等の酸やキ
シレンやＭＩＢＫといった有機溶媒が使用される。従っ
てアダプター４ａ、継手１４、チューブ１５の材質は、
酸や有機溶媒に耐性を持つＰＴＦＥ等の弗素系の樹脂が
適当である。
とネブライザー３を接続できる構造に加えて、側面に継
手１４を取り付けられる構造をしている。そして第二ガ
ス流量制御部１３で流量制御されたガス（スプレーチャ
ンバーガスと呼ぶことにする）は、チューブ１５、継手
１４、アダプター４ａを介してスプレーチャンバー５内
に流入する。即ち試料溶液１（の一部）は、ネブライザ
ーガスおよびスプレーチャンバーガスと共にスプレーチ
ャンバー５を通してプラズマトーチ１の中心の管に導入
される。試料溶液１の溶媒には、硝酸や弗酸等の酸やキ
シレンやＭＩＢＫといった有機溶媒が使用される。従っ
てアダプター４ａ、継手１４、チューブ１５の材質は、
酸や有機溶媒に耐性を持つＰＴＦＥ等の弗素系の樹脂が
適当である。
【００１３】また、ガス流量制御部９および第二ガス流
量制御部１３で制御するガス流量は、スプレーチャンバ
ーガス０から１ｌ／ｍｉｎ、ネブライザーガス０から２
ｌ／ｍｉｎ、プラズマガス０から２０ｌ／ｍｉｎ、補助
ガス０から２ｌ／ｍｉｎ程度が適当である。もちろん、
ガス流量制御部９と第二ガス流量制御部１３を一つもモ
ジュール内に組み込むことは可能であり、本発明が有効
であることは云うまでもない。
量制御部１３で制御するガス流量は、スプレーチャンバ
ーガス０から１ｌ／ｍｉｎ、ネブライザーガス０から２
ｌ／ｍｉｎ、プラズマガス０から２０ｌ／ｍｉｎ、補助
ガス０から２ｌ／ｍｉｎ程度が適当である。もちろん、
ガス流量制御部９と第二ガス流量制御部１３を一つもモ
ジュール内に組み込むことは可能であり、本発明が有効
であることは云うまでもない。
【００１４】次にアルゴンのスプレーチャンバーガスを
流したときの分子イオンの干渉の様子を図３を用いて説
明する。図３は、スプレーチャンバーガス流量を変化さ
せたときの、ブランク液の５６ａｍｕ（ＡｒＯ+ ）およ
び３９ａｍｕ（ＡｒＨ+ ）強度の変化を示している。図
３からスプレーチャンバーガスを流すことにより、鉄と
干渉するＡｒＯ+ は千分の一以下、カリウムと干渉する
ＡｒＨ+ は百分の一以下に低減できることがわかる。こ
れは、アルゴンのスプレーチャンバーガスを導入する
と、プラズマの構造（プラズマ温度や電子密度）が変化
して分子イオンが生成し難い状態になったためと考えら
れる。つまり、アルゴンガスをスプレーチャンバー内５
にどうにをすることにより、プラズマの温度は低下す
る。この温度経過により、アルゴンガスはイオン化しに
くくなり（試料原子はイオン化温度が低いのでアルゴン
に比べ影響されない）従って、アルゴンは反応しにくく
なる。つまりアルゴンとの分子イオンが発生しにくくな
る。
流したときの分子イオンの干渉の様子を図３を用いて説
明する。図３は、スプレーチャンバーガス流量を変化さ
せたときの、ブランク液の５６ａｍｕ（ＡｒＯ+ ）およ
び３９ａｍｕ（ＡｒＨ+ ）強度の変化を示している。図
３からスプレーチャンバーガスを流すことにより、鉄と
干渉するＡｒＯ+ は千分の一以下、カリウムと干渉する
ＡｒＨ+ は百分の一以下に低減できることがわかる。こ
れは、アルゴンのスプレーチャンバーガスを導入する
と、プラズマの構造（プラズマ温度や電子密度）が変化
して分子イオンが生成し難い状態になったためと考えら
れる。つまり、アルゴンガスをスプレーチャンバー内５
にどうにをすることにより、プラズマの温度は低下す
る。この温度経過により、アルゴンガスはイオン化しに
くくなり（試料原子はイオン化温度が低いのでアルゴン
に比べ影響されない）従って、アルゴンは反応しにくく
なる。つまりアルゴンとの分子イオンが発生しにくくな
る。
【００１５】その結果本発明によると、鉄の測定は０．
０１ｐｐｂ以下、カリウムの測定は０．１ｐｐｂ以下ま
で可能になる。従来技術では鉄は１ｐｐｂ程度、カリウ
ムは数十ｐｐｂ程度迄しか測定できなかったことと比較
すると、大幅な進歩である。また、アルゴンのスプレー
チャンバーガスを流したときに低減できる分子イオン
は、ＡｒＯ+ 、ＡｒＨ+ の他に、ＡｒＣ+ （５２Ｃｒに
干渉）やＡｒＮＨ+ （５５Ｍｎに干渉）等がある。とこ
ろで、スプレーチャンバーガスにアルゴンを使用する
と、上記のように分子イオンを大幅に低減できる効果が
得られるとともに、スプレーチャンバーガス導入により
新たな分子イオンが生じるといったデメリットがない
（例えば窒素を導入すると、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒと干渉する
ＣｌＮが生じることがある）ことも付け加えておく。
０１ｐｐｂ以下、カリウムの測定は０．１ｐｐｂ以下ま
で可能になる。従来技術では鉄は１ｐｐｂ程度、カリウ
ムは数十ｐｐｂ程度迄しか測定できなかったことと比較
すると、大幅な進歩である。また、アルゴンのスプレー
チャンバーガスを流したときに低減できる分子イオン
は、ＡｒＯ+ 、ＡｒＨ+ の他に、ＡｒＣ+ （５２Ｃｒに
干渉）やＡｒＮＨ+ （５５Ｍｎに干渉）等がある。とこ
ろで、スプレーチャンバーガスにアルゴンを使用する
と、上記のように分子イオンを大幅に低減できる効果が
得られるとともに、スプレーチャンバーガス導入により
新たな分子イオンが生じるといったデメリットがない
（例えば窒素を導入すると、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒと干渉する
ＣｌＮが生じることがある）ことも付け加えておく。
【００１６】
【発明の効果】本発明は以上説明したように、プラズマ
トーチの中心に流すガスをネブライザーを通して行なう
ガス流量制御部および第二ガス流量制御部により制御
し、かつ第二ガス流量制御部に流すガスにアルゴンを使
用した構成としたので、分子イオンが低減でき、分子イ
オンの干渉を受ける鉄やカリウム等の元素の測定性能を
大幅に向上できる効果がある。
トーチの中心に流すガスをネブライザーを通して行なう
ガス流量制御部および第二ガス流量制御部により制御
し、かつ第二ガス流量制御部に流すガスにアルゴンを使
用した構成としたので、分子イオンが低減でき、分子イ
オンの干渉を受ける鉄やカリウム等の元素の測定性能を
大幅に向上できる効果がある。
【図１】本発明の実施例を示したブロック図である。
【図２】従来技術のＩＣＰ−ＭＳの主に試料導入部を示
したブロック図である。。
したブロック図である。。
【図３】アルゴンのスプレーチャンバーガスを流したと
きの鉄およびカリウムと干渉する分子イオンの変化を示
したグラフである。
きの鉄およびカリウムと干渉する分子イオンの変化を示
したグラフである。
１ 試料溶液 ２ キャピラリーチューブ ３ ネブライザー ４，４ａ アダプター ５ スプレーチャンバー ６ ドレイン ７ プラズマトーチ ８ ワークコイル ９ ガス流量制御部 １０ 高周波電源 １１ プラズマ １２ 質量分析部 １３ 第二ガス流量制御部 １４ 継手 １５ チューブ
Claims (1)
- 【請求項１】 液体試料中の微量不純物の同定・定量を
する目的として、試料溶液を霧状に噴霧するネブライザ
ーと、前記ネブライザーで前記試料溶液を霧状に噴霧さ
せるためのガスを制御して供給するガス流量制御部と、
前記ネブライザーで噴霧された前記試料溶液の分級を行
なうスプレーチャンバーと、三重管構造をしていて中心
が前記スプレーチャンバーに接続されたプラズマトーチ
と、前記プラズマトーチでプラズマを発生・維持するた
めのエネルギーを供給する高周波電源およびワークコイ
ルと、前記プラズマトーチで維持されたプラズマ中でイ
オン化した前記微量不純物を質量分離して検出する質量
分析部からなる誘導結合プラズマ質量分析装置におい
て、第二ガス流量制御部を設置して、前記プラズマトー
チの中心に流すガスを前記ネブライザーを通して行なう
前記ガス流量制御部および前記第二ガス流量制御部によ
り制御し、かつ前記第二ガス流量制御部で制御するガス
にアルゴンを使用したことを特徴とする誘導結合プラズ
マ質量分析装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4242084A JP2852838B2 (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| US08/118,820 US5477048A (en) | 1992-09-10 | 1993-09-10 | Inductively coupled plasma mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4242084A JP2852838B2 (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0696724A true JPH0696724A (ja) | 1994-04-08 |
| JP2852838B2 JP2852838B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=17084058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4242084A Expired - Fee Related JP2852838B2 (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5477048A (ja) |
| JP (1) | JP2852838B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10188877A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-21 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JP2015190889A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 信越半導体株式会社 | 誘導結合プラズマ質量分析方法 |
| JP2019521366A (ja) * | 2016-05-18 | 2019-07-25 | パーキンエルマー・ヘルス・サイエンシーズ・カナダ・インコーポレイテッドＰｅｒｋｉｎｅｌｍｅｒ Ｈｅａｌｔｈ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｃａｎａｄａ， Ｉｎｃ． | 噴霧チャンバ及びそれらを利用する方法 |
| US11581177B2 (en) | 2018-07-25 | 2023-02-14 | Perkinelmer Health Sciences Canada, Inc. | System for introducing particle-containing samples to an analytical instrument and methods of use |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6002129A (en) * | 1998-05-14 | 1999-12-14 | Seiko Instruments Inc. | Inductively coupled plasma mass spectrometric and spectrochemical analyzer |
| US6294764B1 (en) * | 1998-10-07 | 2001-09-25 | Mississippi State University | Multi-component process analysis and control |
| JP3902380B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2007-04-04 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | Ｉｃｐ分析装置 |
| JP4174599B2 (ja) * | 2003-07-08 | 2008-11-05 | 株式会社島津製作所 | 高速液体クロマトグラフの分画装置 |
| JP4207782B2 (ja) * | 2004-01-06 | 2009-01-14 | 株式会社島津製作所 | 液体クロマトグラフの分画装置 |
| JP4148143B2 (ja) * | 2004-01-19 | 2008-09-10 | 株式会社島津製作所 | 液体クロマトグラフ等の分画装置 |
| WO2007129513A1 (ja) | 2006-05-09 | 2007-11-15 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 試料導入システム |
| JP4903515B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2012-03-28 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
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