JP6066338B2 - 誘導結合プラズマ質量分析方法 - Google Patents
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Description
加熱により脱溶媒して気化した試料を搬送するキャリアガスを流すプラズマトーチに高周波を印加して誘導結合プラズマを点灯し、誘導結合プラズマによりイオン化した試料を質量分析する誘導結合プラズマ質量分析方法において、
高周波の出力を700〜850Wにして、キャリアガスの周囲を流れ、誘導結合プラズマの点灯を補助する補助ガスの流量を1.1〜1.5L/minにすることを特徴とする。
従来例として、高周波の出力を1200W、プラズマガスの流量を16.0L/min、補助ガスの流量を0.9L/min、キャリアガスの流量を0.80L/min及び添加ガスの流量を0.20L/minとして、27Al(Mass27)、56Fe(Mass56)、63Cu(Mass63)の質量スペクトルを測定した。
本発明の効果を確認するために、先ず、プラズマトーチ2に印加する高周波の出力と測定されるイオンの強度の関係を調べた。従来例の条件から高周波の出力のみを変えて検出対象の元素のイオン(27Al、56Fe、63Cu)の強度(cps)と妨害イオン(40Ar2、11B16O、28Si2、40Ar16O、28Si16O19F)の強度(cps)を測定した。最初に各種ガスの流量及び高周波の出力を従来例と同じ条件1200Wに設定してイオンの強度を測定した。次に1000Wから50W毎に高周波の出力を下げ、1000〜700Wの範囲で50W毎にイオンの強度を取得した。図6(高周波の出力が1200Wのときのイオンの強度を1としている)に示すように高周波の出力が850W辺りから妨害イオンの強度が減少し始める。特に、800〜750Wで妨害イオンの強度が大幅に減少する。よって、800〜750Wで検出対象の元素のイオンの強度が多少減少していても妨害イオンの干渉(質量干渉)の影響を効果的に低減できる。
2 プラズマトーチ 2a 中心管
2b 補助管 2c 最外管
2d 誘導コイル
Claims (3)
- 加熱により脱溶媒して気化した試料を搬送するキャリアガスを流すプラズマトーチに高周波を印加して誘導結合プラズマを点灯し、前記誘導結合プラズマによりイオン化した前記試料を質量分析する誘導結合プラズマ質量分析方法において、
前記高周波の出力を700〜850Wにし、前記キャリアガスの周囲を流れ、前記誘導結合プラズマの点灯を補助する補助ガスの流量を1.1〜1.5L/minにすることを特徴とする誘導結合プラズマ質量分析方法。 - 前記キャリアガスに添加する添加ガスの流量を0.3〜0.45L/minにして前記キャリアガスを流す請求項1に記載の誘導結合プラズマ質量分析方法。
- 前記添加ガスの流量を0.35〜0.40L/minにし、前記補助ガスの流量を1.2〜1.4L/minにし、前記高周波の出力を750〜800Wにする請求項2に記載の誘導結合プラズマ質量分析方法。
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