JP4554405B2 - 光ディスクの製造装置及び製造方法 - Google Patents
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本発明は、信号層が1層の高密度記録対応のディスクと信号層が2層の高密度記録対応のディスクとを同一の装置で選択的に製造でき、しかも経済性に優れた製造装置を提供することを課題としている。
前記第2の発明によれば、信号層が2層の品質の高い高密度記録対応のディスクを製造できる経済性に優れた製造装置を提供できる。
また、前記第4の発明によれば、トラブルが発生したときに、製造途中のディスクを無駄にすることなく、かつトラブルが回復したときに、直に光ディスクの完成品を得ることができる。
先ず、本発明を実施するための基本的な実施形態1の光ディスク製造装置200について図1、図2−1、図2−2を用いて説明する。図1は光ディスク製造装置200の基本的な構成を示し、図2−1と図2−2は光ディスクの製造工程を説明するための図である。
次に、本発明を実施するための最良の形態である実施形態2の光ディスク製造装置300について図3〜図5を用いて説明する。図3は光ディスク製造装置300の全体を示し、図4−1と図4−2は光ディスクの製造工程を説明するための図であり、図5は光ディスク製造装置300の一部分を示す図である。
前述したように、この光ディスク製造装置300は、一点鎖線で分けられる二つの機構部300Aと機構部300Bとからなり、高密度記録対応の信号層が2層の光ディスクを製造するときには、二つの機構部300Aと機構部300Bとを動作させる。機構部300Aはディスク基板に第1の信号層と反射膜とカバー層となる光透過膜とを形成し、機構部300Bは、機構部300Aから移載される第1の信号層a1と第1の反射膜b1とを有するディスク基板に第2の信号層を有する光透過膜を形成する第2の信号層形成用機構を構成する。実施形態3では、図3の他に製造工程を説明するための図6−1、図6−2、図6−3と光ディスク製造装置300の一部分を示す図7とを用いて、光ディスクの一例として信号層が2層の光ディスクの製造について説明する。図7では分かり易いように処理段階の各ディスクの流れを実線矢印と、破線矢印とで示している。
Aa・・・第1移載機構
BB・・・第1の搬送機構
CC・・・成膜機構
EE・・・光透過層形成機構
FF・・・第2の搬送機構
GG・・・第2の信号層形成用機構
Gg・・・第3の同時移載機構
1・・・射出成形機
3・・・ディスク基板取り出し機構
5・・・冷却機構
7・・・移載機構
9・・・エージング機構
11・・・間欠回転機構
13・・・表裏反転機構
15・・・移載機構
17・・・第1の搬送機構の搬送ライン
19・・・成膜装置
20・・・ディスク蓄積部
21・・・ディスク積載用回転テーブル
23・・・移載機構
25・・・スペーサ供給機構
27・・・移載機構
29・・・第2の搬送機構の第1の搬送ライン
31・・・光透過膜形成部
33・・・同時移載機構
35・・・液体供給機構
37・・・回転処理装置
39・・・移載機構
41・・・キャップ蓄積機構
42・・・キャップ洗浄機構
43、45・・・同時移載機構
47、49・・・回転処理装置
51、53・・・マスク機構
53・・・共通固定部材
55・・・硬化光照射装置
57・・・硬化光照射装置
59・・・ディスク蓄積部
61・・・第2の搬送機構の第2の搬送ライン
63・・・移載機構
65・・・液状物質供給機構
67・・・回転処理部
69・・・同時移載機構
71・・・回転処理装置
73・・・硬化光照射装置
75・・・移載機構
77・・・ターンテーブル機構
79・・・表裏反転機構
81・・・成膜装置
83・・・中継台
85・・・移載機構
87・・・検査部
89・・・中継台
91・・・移載機構
93・・・良品用積載機構
95・・・不良品用積載機構
96・・・スペーサ蓄積部
97・・・同時移載機構
101・・・射出成形機
103・・・ディスク取り出し機構
105・・・冷却機構
107・・・移載機構
109・・・エージング機構
111・・・間欠回転機構
113・・・表裏反転機構
115・・・移載機構
117・・・転写用搬送機構の搬送ライン
119・・・光透過膜形成部
121・・・同時移載機構
123・・・移載機構
125・・・液体供給機構
127・・・移載機構
129・・・キャップ蓄積機構
131・・・キャップ洗浄機構
133・・・移載機構
135・・・ターンテーブル機構
137・・・第3の搬送機構の搬送ライン
139・・・液状物質供給機構
141・・・回転処理部
143・・・同時移載機構
145・・・回転処理装置
147・・・移載機構
149・・・硬化光照射装置
151・・・移載機構
153・・・表裏反転機構
155・・・載置台
157・・・移載機構
159・・・ターンテーブル機構
161・・・真空貼り合せ装置
163・・・移載機構
165・・・ターンテーブル機構
167・・・硬化光照射装置
169・・・表裏反転機構
171・・・剥離機構
173、175・・・同時移載機構
177、179・・・剥離機構
181、183・・・転写用ディスク除去機構
Claims (5)
- 信号層が1層又は信号層が2層の光ディスクを選択的に製造することが可能な光ディスクの製造装置において、
第1の信号層を有するディスク基板を形成する第1の信号層形成用機構と、
複数の前記ディスク基板が載置される複数のポジションを有する第1の搬送機構と、
該第1の搬送機構に少なくとも一部分が隣接する第2の搬送機構と、
第1の信号層の形成されたディスク基板を前記第1の信号層形成用機構から前記第1の搬送機構に移載する第1の移載機構と、
前記第1の搬送機構に沿って配置される成膜装置であって、前記ディスク基板の前記第1の信号層の上に第1の反射膜を成膜、又は前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上に形成された第2の信号層の上に半透明の第2の反射膜を成膜できる成膜機構と、
前記第1の搬送機構から移載された前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上に、前記第2の信号層を形成し得る第2の信号層形成用機構と、
前記第1の搬送機構の前記ポジションに載置されて搬送されてくる、前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板、又は前記第1の信号層と前記第1の反射膜と前記第2の信号層と前記半透明の第2の反射膜とを有する前記ディスク基板を選択的に前記第2の搬送機構に移載することができる第2の移載機構と、
前記第1の搬送機構によって搬送されてくる、前記第1の信号層を有する前記ディスク基板を前記第2の信号層形成用機構に移載できると共に、前記第2の信号層形成用機構において前記第2の信号層が形成された前記ディスク基板を前記第1の搬送機構に移載できる第3の移載機構と、
前記第2の搬送機構により搬送される前記ディスク基板の前記第1の反射膜又は前記半透明の第2の反射膜の上に、カバー層となる光透過層を形成することができる光透過層形成機構と、
を備えることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 信号層が2層の光ディスクを製造する光ディスクの製造装置において、
第1の信号層を有するディスク基板を形成する第1の信号層形成用機構と、
複数の前記ディスク基板が載置される複数のポジションを有する第1の搬送機構と、
該第1の搬送機構に少なくとも一部分が隣接する第2の搬送機構と、
第1の信号層の形成されたディスク基板を、前記第1の信号層形成用機構から前記第1の搬送機構における前記ポジションに1つおきに空きがあるように移載、又は1つおきに空いている前記ポジションに移載する第1の移載機構と、
前記第1の搬送機構に沿って配置される成膜装置であって、前記ディスク基板の前記第1の信号層の上に第1の反射膜を成膜、及び前記ディスク基板の前記第1の反射膜上に形成された第2の信号層の上に半透明の第2の反射膜を成膜する成膜機構と、
前記第1の搬送機構から移載された前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上に、前記第2の信号層を形成する第2の信号層形成用機構と、
前記第1の搬送機構の前記ポジションに載置されて搬送されてくる、前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板は前記第2の搬送機構に移載せず、前記第1の信号層と前記第1の反射膜と前記第2の信号層と前記半透明の第2の反射膜とを有する前記ディスク基板を前記第2の搬送機構に移載する第2の移載機構と、
前記第1の搬送機構によって搬送されてくる、前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板を前記第2の信号層形成用機構に移載できると共に、前記第2の信号層形成用機構において前記第2の信号層が形成された前記ディスク基板を前記第1の搬送機構における前記ポジションに1つおきに空きがあるように移載できる第3の移載機構と、
前記第2の搬送機構により搬送される前記ディスク基板の前記半透明の第2の反射膜の上に、カバー層となる光透過層を形成することができる光透過層形成機構と、
を備えることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 請求項1又は請求項2において、
前記光透過層形成機構は、前記光透過層を形成するための液状物質を前記第1の反射膜又は前記第2の反射膜の上に展延する回転処理装置と、
液状の前記光透過層の外周部を除いて半硬化又は硬化させる第1の硬化光照射装置と、
前記光透過層の全体を硬化させる第2の硬化光照射装置と、
を備えることを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかにおいて、
前記第2の搬送機構は、互いに独立して搬送動作を行う第1の搬送ラインと第2の搬送ラインとからなり、
前記第1の搬送ラインには、前記光透過層形成機構が配置され、
前記第2の搬送ラインには、カバー層となる前記光透過層の上にハードコート層を形成する機構が配置され、
前記第1の搬送ラインの終端部には移載機構とディスク積載部とを備え、その移載機構は正常時には前記第1の搬送ライン上のカバー層となる前記光透過層の形成された前記ディスク基板を前記第2の搬送ラインに移載し、また、トラブル発生時には、前記第1の搬送ラインからカバー層となる前記光透過層の形成された前記ディスク基板を前記ディスク積載部に移載して一旦積載し、かつトラブル回復時には前記ディスク積載部から前記ディスク基板を前記第2の搬送ラインに移載することを特徴とする光ディスクの製造装置。 - 第1の信号層を有するディスク基板を形成する第1の信号層形成用機構と、複数の前記ディスク基板が載置される複数のポジションを有する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構に少なくとも一部分が隣接する第2の搬送機構と、前記第1の搬送機構に沿って配置され、前記ディスク基板の前記第1の信号層の上に第1の反射膜を成膜、更には第2の信号層の上に半透明の第2の反射膜を成膜できる成膜機構と、前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上に前記第2の信号層を形成できる第2の信号層形成用機構と、前記半透明の第2の反射膜の上にカバー層となる光透過層を形成できる光透過層形成機構とを備えた装置を用いて1層又は2層の信号層を有する光ディスクを選択的に製造する製造方法であって、
前記第1の信号層形成用機構によって前記第1の信号層が形成された前記ディスク基板は、前記第1の搬送機構の前記ポジションに載置され、
前記第1の搬送機構に載置された前記ディスク基板は、前記成膜機構に移載されて前記第1の信号層上に前記第1の反射膜が形成された後に再び前記第1の搬送機構に移載され、
前記第1の信号層と前記第1の反射膜とを有する前記ディスク基板、又は前記第1の信号層と前記第1の反射膜と前記第2の信号層と前記半透明の第2の反射膜とを有する前記ディスク基板が選択的に第2の搬送機構に移載され、
前記第1の反射膜が形成された前記ディスク基板が前記第1の搬送機構から前記第2の搬送機構に移載される場合には、前記ディスク基板の前記第1の反射膜の上にカバー層となる光透過層が形成され、
前記第1の反射膜が形成された前記ディスク基板が前記第2の搬送機構に移載されない場合には、前記第1の反射膜が形成された前記ディスク基板は前記第1の搬送機構から前記第2の信号層形成用機構に移載されて、前記第1の反射膜上に前記第2の信号層が形成された後に、再び前記第1の搬送機構に移載され、
前記第1の反射膜と前記第2の信号層とが形成された前記ディスク基板は、前記第1の搬送機構から前記成膜機構に再び移載されて前記第2の信号層上に前記半透明の第2の反射膜が形成された後に再び前記第1の搬送機構に移載され、
前記第1の反射膜と前記第2の信号層と前記半透明の第2の反射膜とが形成された前記ディスク基板は、前記第1の搬送機構から前記第2の搬送機構に移載され、
前記第1の反射膜と前記第2の信号層と前記半透明の第2の反射膜とが形成されている前記ディスク基板は、その前記半透明の第2の反射膜の上にカバー層となる光透過層が形成されることを特徴とする光ディスクの製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002197735A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Sony Disc Technology Inc | 光ディスクの製造装置 |
JP2003067986A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Tdk Corp | 光記録媒体製造用のスタンパ、情報記録領域及び光透過層の形成方法及び光記録媒体 |
JP2003067990A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Tdk Corp | 光記録媒体の情報記録層の形成方法、及び光記録媒体の製造方法 |
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JP2002197735A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Sony Disc Technology Inc | 光ディスクの製造装置 |
JP2003067986A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Tdk Corp | 光記録媒体製造用のスタンパ、情報記録領域及び光透過層の形成方法及び光記録媒体 |
JP2003067990A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Tdk Corp | 光記録媒体の情報記録層の形成方法、及び光記録媒体の製造方法 |
JP2004047018A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Hitachi Zosen Corp | ディスク移載装置及びそれを備えた光ディスク製造装置 |
JP2004334991A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Sony Disc Technology Inc | 光学記録媒体およびその製造方法 |
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