JP4535972B2 - Work stage and exposure apparatus - Google Patents
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本発明は、上方に支持された基板に対して上面から気体を吹出させると同時に気体を吸引して気体の吹出と吸引とをバランスさせて上面と基板間に所定の気体層を生成して基板を浮上させるワークステージに関し、詳しくは、基板面の歪みの発生を抑制して均一な露光を可能にしようとするワークステージ及び露光装置に係るものである。 The present invention allows a gas to be blown from the upper surface to a substrate supported above, and simultaneously sucks the gas to balance the blowing and sucking of the gas to generate a predetermined gas layer between the upper surface and the substrate. More specifically, the present invention relates to a work stage and an exposure apparatus that enable uniform exposure by suppressing generation of distortion on the substrate surface.
従来のワークステージは、図4に示すように、箱状のチャンバ1を備え、該チャンバ1内部には、気体の吹出孔2及び吸引孔3が形成されていた。そして、上記吹出孔2には、図示省略の管路を介して送気ブロワが接続されて、図示省略の制御装置からの指令に基づき送気ブロワが駆動すると、管路を経て圧送された気体が上記吹出孔2から基板4の下面4aに向かって吹き出されて基板4を浮上させ、上記吸引孔3には、図示省略の管路を介して吸気ブロワが接続されて、上記制御装置からの指令に基づき吸気ブロワが駆動すると、吸引力が基板4に作用して基板4が下方に引き付けられるようになっていた(例えば、特許文献1参照)。
しかし、このような従来のワークステージにおいては、吸引孔3内部の圧力を一定に保つことができるようになっていなかったので、例えば、図5に示すようにワークステージ上を基板4が矢印A方向に搬送されて吸引孔3の縁から徐々に覆って行くと、吸引孔3に吸引される矢印Bで示す外気の流量が減り、吸引孔3内部の圧力が低下していた。そのため、吸引孔3内部と外気との差圧が大きくなり、吸引孔3上を通過する基板4の縁部4bが吸引孔3内側に引っ張られて歪むことがあった。したがって、このような従来のワークステージを感光性物質が塗布された基板4を支持するステージとして露光装置に使用した場合には、基板4に歪みが発生して表面がうねり、均一な露光を行なうことができないおそれがあった。
However, in such a conventional work stage, the pressure inside the
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、基板面の歪みの発生を抑制して均一な露光を可能にしようとするワークステージ及び露光装置を提供することを目的とする。 In view of the above, an object of the present invention is to provide a work stage and an exposure apparatus that can cope with such problems and enable uniform exposure by suppressing the occurrence of distortion on the substrate surface.
上記目的を達成するために、第1の本発明によるワークステージは、上面が平坦に形成され、該上面に開口して圧縮気体を外部に吹き出す複数の吹出孔及び外部から気体を吸引する複数の吸引孔を設けて基板を非接触で支持する基板支持体と、前記基板支持体の複数の吹出孔に圧縮気体を供給する供給管と、前記基板支持体の複数の吸引孔を通して吸引された気体を排気する排気管と、を備え、前記基板支持体上の基板に対して気体を吹き出すと共にその気体を吸引して前記基板支持体の上面と基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させるワークステージであって、前記排気管の途中に設けられ、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするバルブと、前記バルブの開閉を制御して外気の導入量を調整し、前記吸引孔の内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持する圧力調整ユニットと、を備えたものである。 To achieve the above object, the workpiece carrier according to the first invention, the upper surface is formed flat, a plurality of sucking the gas from the plurality of outlet holes and external blowing compressed gas to the outside opens into the upper face A substrate support that supports the substrate in a non-contact manner by providing a suction hole, a supply pipe that supplies compressed gas to the plurality of blowing holes of the substrate support, and a gas sucked through the plurality of suction holes of the substrate support A gas pipe having a predetermined thickness between the upper surface of the substrate support and the substrate by blowing out gas to the substrate on the substrate support and sucking the gas. A work stage that floats the substrate, and is provided in the middle of the exhaust pipe, adjusts the exhaust flow rate and allows the introduction of outside air, and controls the opening and closing of the valve to adjust the amount of outside air introduced. And the suction hole A pressure adjustment unit to maintain a differential pressure between the outside pressure parts at a constant pressure, but with a.
このような構成により、平坦に形成された基板の上面に開口して複数の吹出孔及び複数の吸引孔を設けた基板支持体の上記吹出孔に供給管で圧縮気体を供給して基板支持体上の基板に対して気体を吹き出し、その気体を上記吸引孔から吸引して排気管で排気し、圧力調整ユニットで排気管の途中に設けたバルブの開閉を制御して外気の導入量を調整し、排気管の排気流量を調整して上記吸引孔の内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持し、これにより上記基板支持体の上面と基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させる。 With such a configuration, the substrate support is provided by supplying compressed gas through the supply pipe to the blowout hole of the substrate support provided with a plurality of blowout holes and a plurality of suction holes in the upper surface of the flat substrate. A gas is blown out to the upper substrate, the gas is sucked from the suction hole and exhausted by the exhaust pipe, and the opening / closing of a valve provided in the middle of the exhaust pipe is controlled by the pressure adjustment unit to adjust the amount of outside air introduced. And adjusting the exhaust flow rate of the exhaust pipe to maintain the pressure difference between the pressure inside the suction hole and the outside air pressure at a constant pressure, whereby a predetermined thickness is provided between the upper surface of the substrate support and the substrate. A gas layer is generated to float the substrate.
また、前記基板支持体は、上部を開放した箱体の内部に、上下方向に連続した複数の微細な空孔を有する焼結体を前記箱体の上部を塞いで設け、該焼結体の空孔を前記吹出孔とし、前記焼結体に上下方向に貫通する孔を穿設して前記吸引孔としたものである。これにより、上部を開放した箱体の内部に、箱体の上部を塞いで設けた焼結体の上下方向に連続した複数の微細な空孔を吹出孔として圧縮気体を吹き出させ、焼結体に上下方向に貫通する孔を穿設して吸引孔として外部の気体を吸引する。 Further, the substrate support body is provided with a sintered body having a plurality of fine pores continuous in the vertical direction inside the box body with the upper part open, with the upper part of the box body closed, The air hole is used as the blowout hole, and a hole penetrating the sintered body in the vertical direction is formed as the suction hole. As a result, a compressed gas is blown out using a plurality of fine pores continuous in the vertical direction of the sintered body provided by closing the upper portion of the box body inside the box body with the upper portion opened, and the sintered body A hole penetrating in the vertical direction is drilled in to suck out external gas as a suction hole.
さらに、前記供給管は前記箱体に接続され、前記排気管は前記焼結体に穿設された吸引孔に接続されたものである。箱体に接続された供給管で圧縮気体を吹出孔に供給し、焼結体に穿設された吸引孔に接続された排気管で吸引孔から吸引した外部の気体を排気する。 Further, the supply pipe is connected to the box, and the exhaust pipe is connected to a suction hole formed in the sintered body. Compressed gas is supplied to the blowout hole by a supply pipe connected to the box, and external gas sucked from the suction hole is exhausted by an exhaust pipe connected to a suction hole formed in the sintered body.
そして、前記圧力調整ユニットは、前記吸引孔内部の圧力を検出する圧力センサーと、予め測定して定められた圧力の目標値を記憶する記憶手段と、前記圧力センサーの出力と外気圧を検出する別の圧力センサーの出力とを比較して差圧を求め、前記記憶手段の目標値とのずれ量を演算する演算部と、該ずれ量が所定の範囲内となるように前記バルブを開閉駆動する駆動部とからなるものである。これにより、記憶手段で予め測定して定められた圧力の目標値を記憶し、圧力センサーで吸引孔内部の圧力を検出し、演算部で上記圧力センサーの出力と外気圧を検出する別の圧力センサーの出力とを比較して差圧を求めた後、記憶手段から読み出した目標値とのずれ量を演算し、駆動部で該ずれ量が所定の範囲内となるようにバルブを開閉駆動して吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力とする。 The pressure adjustment unit detects a pressure sensor for detecting the pressure inside the suction hole, storage means for storing a target value of pressure determined by measurement in advance, and outputs of the pressure sensor and external pressure. Comparing with the output of another pressure sensor to find the differential pressure and calculating the deviation from the target value of the storage means, and opening and closing the valve so that the deviation is within a predetermined range And a drive unit that performs. Thereby, the target value of the pressure measured and determined in advance by the storage means is stored, the pressure inside the suction hole is detected by the pressure sensor, and the output of the pressure sensor and the external pressure are detected by the calculation unit After calculating the differential pressure by comparing with the sensor output , calculate the amount of deviation from the target value read from the storage means, and drive the valve to open and close the valve so that the amount of deviation falls within the specified range. Thus , the differential pressure between the pressure inside the suction hole and the outside air pressure is made constant .
また、第2の発明による露光装置は、感光性物質を塗布した基板の両端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の基板の搬送経路上に配設され、平坦に形成された上面に開口して圧縮気体を外部に吹き出す複数の吹出孔及び外部から気体を吸引する複数の吸引孔を設け、前記吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持して前記上面と前記搬送手段によって搬送される基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させるワークステージと、前記ワークステージの上方に配設され、該ワークステージ上を非接触で搬送される前記基板に対してフォトマスクを介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系と、を備えたものである。 An exposure apparatus according to a second aspect of the present invention is provided on a substrate transport path of a substrate that holds both ends of a substrate coated with a photosensitive material and conveys the substrate in a predetermined direction at a constant speed. Provided with a plurality of blowing holes for opening compressed air to the outside by opening on the flat upper surface and a plurality of suction holes for sucking the gas from the outside, and for adjusting the pressure difference between the pressure inside the suction hole and the external pressure a workpiece stage for floating the substrate to generate a gas layer of desired thickness between the substrate that will be conveyed by the upper surface and said transfer means to maintain a constant pressure, is disposed above the work stage, And an exposure optical system for forming a predetermined exposure pattern by irradiating the substrate transported in a non-contact manner with exposure light through a photomask.
このような構成により、搬送手段で感光性物質を塗布した基板の両端部を保持して所定方向に一定の速度で搬送し、搬送手段の基板の搬送経路上に配設され、平坦に形成された上面に開口して圧縮気体を外部に吹き出す複数の吹出孔及び外部から気体を吸引する複数の吸引孔を設けたワークステージで吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持して上記上面と上記搬送手段によって搬送される基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させ、露光光学系でワークステージ上を搬送される感光性物質を塗布した基板に対してフォトマスクを介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成する。 With such a configuration, the both ends of the substrate coated with the photosensitive material are held by the transfer means and transferred at a constant speed in a predetermined direction, and are arranged on the transfer path of the substrate of the transfer means and formed flat. The work stage is provided with a plurality of blowout holes that open to the upper surface and blow out compressed gas to the outside, and a plurality of suction holes that suck the gas from the outside, and the differential pressure between the pressure inside the suction hole and the external pressure is made constant maintained by floating the substrate to generate a gas layer of a predetermined thickness between the substrates that will be carried by said upper surface and said conveying means, by applying a photosensitive material to be conveyed on the workpiece in the exposure optical system A predetermined exposure pattern is formed by irradiating the substrate with exposure light through a photomask.
さらに、前記ワークステージは、前記露光光学系による露光光の照射領域に対応した部分に上下方向に貫通する貫通孔を設けて、前記基板を透過した露光光が下方に抜けるようにしたものである。露光光学系による露光光の照射領域に対応した部分に上下方向に貫通して設けた貫通孔で基板を透過した露光光を下方に抜けさせる。 Furthermore, the work stage is provided with a through-hole penetrating in the vertical direction in a portion corresponding to an exposure light irradiation region by the exposure optical system so that the exposure light transmitted through the substrate passes downward. . The exposure light transmitted through the substrate is released downward through a through hole provided in a vertical direction in a portion corresponding to an exposure light irradiation region by the exposure optical system.
請求項1に係るワークステージによれば、基板支持体の上面に開口する吸引孔上を基板が通過しても吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定に維持することができるので、基板の縁部が吸引孔内側に引っ張られることがなく、基板面の歪みの発生を抑制することができる。 According to the work stage of the first aspect, the differential pressure between the pressure inside the suction hole and the external air pressure can be kept constant even when the substrate passes over the suction hole opened on the upper surface of the substrate support. The edge of the substrate is not pulled inside the suction hole, and the occurrence of distortion of the substrate surface can be suppressed.
また、請求項2に係る発明によれば、焼結体が内部に元々有する上下方向に連続した複数の微細な空孔を吹出孔として利用することができる。したがって、基板支持体の上面の全面に亘って均一に気体を吹き出させることができる。この場合、吹出孔が微細であるため気体の吹出力を小さくすることができる。したがって、基板支持体の上面と基板との間の気体層の厚みを容易に薄くすることができる。
Moreover, according to the invention which concerns on
さらに、請求項3に係る発明によれば、圧縮気体を焼結体の複数の空孔に満遍なく供給することができる。したがって、基板支持体の上面の全面に亘って均一に気体を吹き出させることができる。
Furthermore, according to the invention which concerns on
そして、請求項4に係る発明によれば、吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧が一定の圧力に維持されるように自動調整することができる。したがって、基板面の歪みの発生を抑制するために吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を調整する作業が容易になる。 According to the fourth aspect of the invention, it is possible to automatically adjust so that the differential pressure between the pressure inside the suction hole and the external pressure is maintained at a constant pressure. Therefore, it is easy to adjust the differential pressure between the pressure inside the suction hole and the external pressure in order to suppress the occurrence of distortion of the substrate surface.
また、請求項5に係る露光装置によれば、基板支持体の上面に開口する吸引孔上を基板が通過しても吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定に維持することができるので、基板の縁部が吸引孔内側に引っ張られることがなく、基板面の歪みの発生を抑制することができる。したがって、基板表面に塗布された感光性物質を均一に露光することができる。これにより、露光パターンを高精度に形成することができる。 According to the exposure apparatus of the fifth aspect, even if the substrate passes over the suction hole opened on the upper surface of the substrate support , the pressure difference between the pressure inside the suction hole and the external pressure can be kept constant. Therefore, the edge of the substrate is not pulled inside the suction hole, and the occurrence of distortion of the substrate surface can be suppressed. Therefore, the photosensitive material applied to the substrate surface can be uniformly exposed. Thereby, an exposure pattern can be formed with high accuracy.
さらに、請求項6に係る発明によれば、基板が透明である場合に、該基板を透過した露光光がワークステージの上面で乱反射されて基板側に戻り、所定の領域以外の部分を露光してしまうおそれがない。したがって、露光パターンをより高精度に形成することができる。 According to the sixth aspect of the present invention, when the substrate is transparent, the exposure light transmitted through the substrate is diffusely reflected on the upper surface of the work stage and returns to the substrate side to expose portions other than the predetermined region. There is no fear of it. Therefore, the exposure pattern can be formed with higher accuracy.
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による露光装置の実施形態を示す正面図である。この露光装置は、感光性物質を塗布した基板に対してフォトマスクを介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成するもので、搬送手段5と、ワークステージ6と、露光光学系7とからなる。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention. This exposure apparatus forms a predetermined exposure pattern by irradiating a substrate coated with a photosensitive substance with exposure light through a photomask. A conveying means 5, a
上記搬送手段5は、感光性物質を塗布した基板4の両端部を保持して図1に矢印Aで示す方向に一定の速度で搬送するものであり、後述するワークステージ6の搬送方向(矢印A方向)と直交する方向の両側方に設けられている。その具体例は、例えば、図2に示すように搬送方向に沿って複数並べられた搬送ローラである。この場合、上記搬送手段5は、基板4の自重及び吸引孔3による吸引力によって所定量だけ下方に沈むようになっている。
The conveying means 5 holds both ends of the substrate 4 coated with a photosensitive material and conveys the substrate 4 at a constant speed in the direction indicated by the arrow A in FIG. It is provided on both sides in the direction orthogonal to the (A direction). A specific example thereof is, for example, a plurality of transport rollers arranged in the transport direction as shown in FIG. In this case, the transport means 5 sinks downward by a predetermined amount due to the weight of the substrate 4 and the suction force by the
上記搬送手段5の搬送経路上には、ワークステージ6が設けられている。このワークステージ6は、平坦に形成された上面8に開口して圧縮気体を外部に吹き出す複数の吹出孔及び外部から気体を吸引する複数の吸引孔を設け、吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持して上記上面8と上記搬送手段5によって搬送される基板4との間に所定の厚みの気体層9を生成して基板4を浮上させるもので、図1に示す矢印A方向に非接触で基板4を搬送できるようになっている。さらに、後述する露光光学系7による露光光の照射領域に対応した部分には、上下方向に貫通する貫通孔10を設け、基板4を透過した露光光が貫通孔10を介して下方に抜けるようにしている。具体的には、図2に示すように、上面が長方形状の単位ワークステージ11を四角形状に並べたものであり、一対の単位ワークステージ11をその長手方向が同図に矢印Aで示す搬送方向に直交するようにして所定の距離だけ離して平行に配設し、上記一対の単位ワークステージ11の両端部外側に搬送方向と平行に別の一対の単位ワークステージ11を配設している。そして、各単位ワークステージ11は、図3に示すように、基板支持体12と、供給管13と、排気管14と、バルブ15と、圧力調整ユニット16とからなる。
A
上記基板支持体12は、上部を開放した直方体状の箱体17の内部に、上下方向に連続した複数の微細な空孔を有する直方体状の焼結体18を上記箱体17の内部に中空部17aが形成されるように該箱体17の上部を塞いで設けたものであり、該焼結体18の複数の空孔を上記吹出孔2とし、上記焼結体18に上下方向に貫通する孔を穿設して上記吸引孔3としている。この場合、図2に示すように、焼結体18の長手方向に沿って複数の吸引孔3が例えば三列に形成されている。
The substrate support 12 includes a rectangular parallelepiped sintered
上記基板支持体12の箱体17の底部17bには、少なくとも一本の供給管13が設けられている。この供給管13は、複数の吹出孔2に圧縮気体、例えばクリーンエアを供給するものであり、一端部が上記箱体17の中空部17aに接続され、他端部が図示省略の送気ブロワに接続されている。
At least one
上記基板支持体12の焼結体18に穿設した吸引孔3には、一本の排気管14が接続されている。この排気管14は、多数の吸引孔3を通して吸引された気体を排気するものであり、一端部側が上記吸引孔3の数に合わせて枝管14aとして枝分かれし、それぞれその末端部が吸引孔3内側に嵌着されており、他端部が図示省略の吸気ブロワに接続されている。
A single exhaust pipe 14 is connected to the
上記排気管14の途中には、バルブ15が設けられている。このバルブ15は、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするものであり、例えば電気信号に応じて開閉する電磁バルブである。
A
上記バルブ15には、圧力調整ユニット16が信号線Lで接続されている。この圧力調整ユニット16は、バルブ15を制御して外気の導入量を調整し、上記吸引孔3の内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持するものであり、圧力センサー19と、メモリ20と、演算部21と、駆動部22とからなる。
A pressure adjusting unit 16 is connected to the
上記圧力センサー19は、上記排気管14の枝管14aが合流した部分の内部に設けられており、その内部の圧力を検出するものである。また、上記メモリ20は、事前に測定して見つけられた最良の圧力(目標値)を記憶しておくものであり、記憶手段となるものである。さらに、上記演算部21は、上記圧力センサー19の出力値と別に備えた外気の圧力を検出する圧力センサーの出力値とを比較してその差圧を求め、該差圧と上記メモリ20から読み出した目標値とのずれ量を演算するものである。そして、駆動部22は、上記演算部21の演算結果に基づいて目標値からのずれ量が所定の範囲内(望ましくは、略ゼロ)となるように上記バルブ15を開閉駆動するものである。なお、上記所定の範囲内とは、図5に示す基板4の縁部4bのたわみ量が許容値内に納まるような目標値からのずれの許容範囲のことであり、これは、基板4の大きさや剛性によって決められるものである。
The
上記ワークステージ6の上方には、図1に示すように、露光光学系7が配設されている。この露光光学系7は、ワークステージ6の上面8上を搬送される感光性物質を塗布した基板4に対してフォトマスク23を介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成するものであり、光源24と、マスクステージ25と、コンデンサーレンズ26とを有してなる。
An exposure optical system 7 is disposed above the
上記光源24は、紫外線を含む露光光を放射するものであり、例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線レーザ発振器等である。また、上記ワークステージ6の上面8に対して近接して、上記マスクステージ25が配設されている。このマスクステージ25は、短冊状のフォトマスク23を上記上面8に平行な面内にてその長手方向が搬送方向(矢印A方向)と直交するように保持するものである。なお、上記フォトマスク23には、その長手方向に沿って複数のマスクパターン27が並べて形成されている。さらに、上記光源24とマスクステージ25との間には、コンデンサーレンズ26が配設されている。このコンデンサーレンズ26は、上記マスクステージ25に保持されたフォトマスク23に対して光源24から放射された露光光を垂直に照射させるためのものであり、その焦点位置を上記光源24の集光点近傍に位置させている。
The
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
先ず、搬送手段5が起動され、表面に感光性物質を塗布した基板4が搬送手段5によって両端部を保持されて図1に示す矢印A方向に搬送される。このとき、図3に示すワークステージ6の吹出孔2からは供給管13を介して供給される圧縮気体の例えばクリーンエアが上面8上に吹き出しており、吸引孔3からは気体が吸引されている。
Next, the operation of the exposure apparatus configured as described above will be described.
First, the transport means 5 is activated, and the substrate 4 having a photosensitive material coated on the surface is held by the transport means 5 and transported in the direction of arrow A shown in FIG. At this time, for example, clean air of compressed gas supplied through the
搬送手段5によって搬送された基板4が上記ワークステージ6の上面8上に達すると、吹出孔2から吹き出す圧縮気体が基板4の下面4aに吹き付けられて基板4はワークステージ6の上面8上に浮上する。一方、吸引孔3からは、上記吹き出された気体が吸引されているので浮上した基板4はワークステージ6の上面8側に引き付けられる。このとき、吹出孔2からの気体の吹出に比べ吸引孔3による気体の吸引が強くなるように調整すれば、基板4の下面4aとワークステージ6の上面8との間に薄い気体層9が生成されて基板4は浮上し、非接触でワークステージ6上を搬送されることになる。
When the substrate 4 transported by the transport means 5 reaches the upper surface 8 of the
この場合、基板4の移動に伴って基板4の縁部4bがワークステージ6の上面8上の吸引孔3を次第に覆っていく。それと共に、図3に矢印Bで示す吸引孔3内に吸引される外気が減り、吸引孔3内部の圧力が低下する。
In this case, the
このとき、図3に示すように、上記吸引孔3内部の圧力の低下を圧力調整ユニット16の圧力センサー19で検知し、その出力が演算部21に送られる。演算部21では、入力した圧力の信号と別に設けられた外気圧を検知する圧力センサーの値とを比較して、吸引孔3内部の圧力と外気圧との差圧を求め、予め測定されメモリ20に保存された圧力の目標値を読み出して両者を比較する。そして、目標値からのずれ量が所定の範囲内(望ましくは、略ゼロ)となるように駆動部22を駆動してバルブ15を開いて、同図に矢印Cで示すように外気を排気管14内に導入して排気流量が一定にされる。これにより、排気管14の枝管14aの合流部内部、即ち吸引孔3内部の圧力が一定となり、吸引孔3内部と外気との差圧が一定に保たれ、基板4の縁部4bが吸引孔3内側に引っ張られて歪む量が許容される範囲になる。したがって、基板4表面は均一又は略均一に保たれることになる。
At this time, as shown in FIG. 3, the pressure drop in the
次に、図1に示す光源24から露光光が放射され、この露光光はコンデンサーレンズ26で平行光とされてマスクステージ25に保持されたフォトマスク23に垂直に照射する。さらに、フォトマスク23を通り抜けた露光光は、ワークステージ6の上面8上を図1に示す矢印A方向に搬送される基板4上に垂直に照射する。これにより、フォトマスク23に形成されたマスクパターン27が基板4表面に塗布された感光性物質に転写されることになる。この場合、基板4を透過した露光光は、ワークステージ6に上下方向に設けられた貫通孔10を下方に向けて抜けて行く。したがって、基板4を透過した露光光が例えば上面8に有する吸引孔3の縁部等で乱反射されて基板4側に戻り、所定の領域と異なる部分を露光するということがない。なお、上記貫通孔10の下部に光吸収器を設ければ、基板4を透過した露光光を吸収して除去することができる。
Next, the exposure light is emitted from the
以上の説明においては、ワークステージ6に貫通孔10を設けた場合について説明したが、これに限られず、貫通孔10はなくてもよい。また、搬送手段5は、搬送ローラを並べたものに限られず、基板の両端部を保持して搬送できるようにしたものであるならば如何なるものであってもよい。さらに、上記ワークステージ6は、露光装置に使用されるものに限られない。
In the above description, although the case where the through
2…吹出孔
3…吸引孔
4…基板
5…搬送手段
6…ワークステージ
7…露光光学系
8…上面
9…気体層
10…貫通孔
11…単位ワークステージ
12…基板支持体
13…供給管
14…排気管
15…バルブ
16…圧力調整ユニット
17…箱体
17a…中空部
18…焼結体
19…圧力センサー
20…メモリ(記憶手段)
21…演算部
22…駆動部
23…フォトマスク
DESCRIPTION OF
21 ...
Claims (6)
前記基板支持体の複数の吹出孔に圧縮気体を供給する供給管と、
前記基板支持体の複数の吸引孔を通して吸引された気体を排気する排気管と、
を備え、前記基板支持体上の基板に対して気体を吹き出すと共にその気体を吸引して前記基板支持体の上面と基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させるワークステージであって、
前記排気管の途中に設けられ、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするバルブと、
前記バルブの開閉を制御して外気の導入量を調整し、前記吸引孔の内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持する圧力調整ユニットと、
を備えたことを特徴とするワークステージ。 A substrate support that has a flat upper surface and is provided with a plurality of blowing holes that open to the upper surface and blow compressed gas to the outside and a plurality of suction holes that suck the gas from the outside to support the substrate in a non-contact manner;
A supply pipe for supplying compressed gas to the plurality of blowout holes of the substrate support;
An exhaust pipe for exhausting the gas sucked through the plurality of suction holes of the substrate support;
A workpiece that blows out gas to the substrate on the substrate support and sucks the gas to generate a gas layer having a predetermined thickness between the upper surface of the substrate support and the substrate to float the substrate Stage,
A valve provided in the middle of the exhaust pipe to adjust the exhaust flow rate and to introduce outside air;
A pressure adjusting unit that controls the opening and closing of the valve to adjust the introduction amount of outside air, and maintains a differential pressure between the pressure inside the suction hole and the outside pressure at a constant pressure;
Work stage characterized by having
前記搬送手段の基板の搬送経路上に配設され、平坦に形成された上面に開口して圧縮気体を外部に吹き出す複数の吹出孔及び外部から気体を吸引する複数の吸引孔を設け、前記吸引孔内部の圧力と外気圧との差圧を一定の圧力に維持して前記上面と前記搬送手段によって搬送される基板との間に所定の厚みの気体層を生成して基板を浮上させるワークステージと、
前記ワークステージの上方に配設され、該ワークステージ上を非接触で搬送される前記基板に対してフォトマスクを介して露光光を照射して所定の露光パターンを形成する露光光学系と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 Conveying means for holding both ends of the substrate coated with the photosensitive material and conveying the substrate in a predetermined direction at a constant speed;
The suction means is provided on a transport path of the substrate of the transport means, and is provided with a plurality of blowing holes that open on a flatly formed upper surface and blow compressed gas to the outside and a plurality of suction holes that suck the gas from the outside. work stage to float the substrate to generate a gas layer of a predetermined thickness between the substrates to maintain the pressure difference between the hole interior of the pressure and the external atmospheric pressure at a constant pressure Ru is conveyed by the upper surface to the conveying means When,
An exposure optical system which is disposed above the work stage and forms a predetermined exposure pattern by irradiating exposure light through a photomask to the substrate which is conveyed in a non-contact manner on the work stage;
An exposure apparatus comprising:
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