JP2010195592A - Floating unit and substrate inspection apparatus - Google Patents

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守 安田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To correct a glass substrate to flatness in a floating unit for floating a large substrate for use in a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) or a color filter, with high flatness, and a substrate inspection apparatus using the floating unit. <P>SOLUTION: A substrate feed stage for feeding a glass substrate 24 includes floating blocks 2 and 3 arranged on opposite sides in the direction of feeding the glass substrate 24 to float the glass substrate 24 by blowing air, and a plurality of suction blocks 4 disposed between the floating blocks 2 and 3 to draw the glass substrate 24 in contactless manner by sucking air. The suction blocks 4 have a rectangular suction pad 14 having a pad wall 16 over the whole of peripheral edges of a channel bottom 15 having an air suction hole 17. The pad wall 16 has an upper surface disposed lower than the upper surface of the floating blocks 2 and 3. For inspection of a warp in the glass substrate 24, a linear inspection area is defined perpendicularly across the direction of feeding the glass substrate 24. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)、カラーフィルタに用いられる大型基板の平面度を高く保って浮上させる浮上ユニット及びこの浮上ユニットを用いた基板検査装置に関する。   The present invention relates to a levitation unit that floats while maintaining high flatness of a large substrate used for, for example, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and a color filter, and a substrate inspection apparatus using the levitation unit.

現在、大型ディスプレイの分野では、LCDやPDPといったフラットディスプレイパネル(FDP)に用いられるガラス基板は、画面の大型化やコスト削減などの要望に応じるためにそのサイズが益々大型化する傾向にある。FDP製造工程では、大型ガラスを搬送するためにローラを用いている。最近では、大型基板とローラとの間の摩擦が問題となり、ガラス基板を浮上させて搬送することが考えられている。   Currently, in the field of large displays, glass substrates used in flat display panels (FDP) such as LCDs and PDPs tend to become larger and larger in order to meet demands for larger screens and cost reductions. In the FDP manufacturing process, rollers are used to convey large glass. Recently, friction between a large substrate and a roller has become a problem, and it is considered that the glass substrate is floated and conveyed.

又、ガラス基板の検査工程では、光学系とCCDカメラとを組み合わせてガラス基板を撮像し、この撮像により取得された画像データを解析処理してガラス基板を検査している。   In the glass substrate inspection process, the glass substrate is imaged by combining an optical system and a CCD camera, and the image data acquired by the imaging is analyzed to inspect the glass substrate.

一方、ガラス基板のパターン生成工程では、半導体回路の生成工程と同様に、
成膜→露光→現像→エッチングの各処理を繰り返してパターンを形成する。ガラス基板は、剛性が低いために、生成した薄膜との熱膨張率の違いや、高温下の処理などの影響を受けて反りを生じることがある。ガラス基板は、サイズの大型化に伴ない、反りの大きさが益々大きくなる傾向にある。
On the other hand, in the pattern generation process of the glass substrate, similar to the generation process of the semiconductor circuit,
A pattern is formed by repeating each process of film formation → exposure → development → etching. Since the glass substrate has low rigidity, the glass substrate may be warped under the influence of a difference in thermal expansion coefficient from the generated thin film, processing at a high temperature, or the like. As the size of the glass substrate increases, the warpage tends to increase more and more.

ガラス基板を拡大光学系により検査する場合には、ガラス基板に反りがあると、フォーカスが合わずにガラス基板の画像がぼけてしまう。又、ガラス基板を縮小光学系により検査する場合には、ガラス基板に反りがあると、干渉像や輝度分布が正確に得られなくなる。   When the glass substrate is inspected by the magnifying optical system, if the glass substrate is warped, the image of the glass substrate is blurred without being focused. Further, when a glass substrate is inspected by a reduction optical system, if the glass substrate is warped, an interference image and a luminance distribution cannot be obtained accurately.

このようなガラス基板の反りの影響を解消する技術が例えば特許文献1に記載されている。この特許文献1は、液晶基板などの薄板の両端部を把持して定盤上に移送し、この移送される薄板をエアスライダにより浮上させ、かつ検査ステーションにおいてエアベアリングによりエア吹き付けと吸引とを同時に行って薄板の浮上高さを調整している。   For example, Patent Document 1 discloses a technique for eliminating the influence of the warp of the glass substrate. In this Patent Document 1, both ends of a thin plate such as a liquid crystal substrate are gripped and transferred onto a surface plate, the transferred thin plate is floated by an air slider, and air blowing and suction are performed by an air bearing at an inspection station. At the same time, the flying height of the thin plate is adjusted.

特開2002−181714号公報JP 2002-181714 A

しかしながら、特許文献1は、検査ステーションに配置されたエアベアリングと薄板を浮上させて搬送するエアースライダとの上面が同一になっているため、大きな反りを矯正するためにエアー吸引力を増加させると、エアー吐出し力とのバランスが崩れてしまう。このように吐出しによる正圧よりも吸引による負圧が大きくなると、負圧によりガラス基板が吸着固着されるおそれがある。   However, in Patent Document 1, since the upper surfaces of the air bearing arranged at the inspection station and the air slider that floats and conveys the thin plate are the same, if the air suction force is increased in order to correct a large warp, The balance with the air discharge force will be lost. Thus, when the negative pressure by suction becomes larger than the positive pressure by discharge, the glass substrate may be adsorbed and fixed by the negative pressure.

又、特許文献1は、透過照明用のライン光源がガラス基板をエアー搬送する搬送路の幅方向に設けられているため、エアー搬送路が幅方向に途切れ、ガラス基板の先端が衝突するおそれがある。   Moreover, since the line light source for transmitted illumination is provided in the width direction of the conveyance path which conveys a glass substrate by air in patent document 1, there exists a possibility that an air conveyance path may interrupt in the width direction and the front-end | tip of a glass substrate may collide. is there.

そこで本発明は、ガラス基板を高い平面度に矯正できる浮上ユニット及びこれを用いた基板検査装置を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the floating unit which can correct | amend a glass substrate to high flatness, and a board | substrate inspection apparatus using the same.

本発明は、基板を搬送する基板搬送ステージにおいて、前記基板の搬送方向に対して垂直な方向にライン状に配置された一部領域と、前記一部領域の長手方向に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックと、を備えたことを特徴とする基板搬送ステージである。   In the substrate transport stage for transporting a substrate, the present invention is arranged over a partial area arranged in a line in a direction perpendicular to the transport direction of the substrate, and a longitudinal direction of the partial area, A plurality of floating blocks for blowing air to the substrate to float and a plurality of suction blocks arranged between the floating blocks and drawing the substrate in a non-contact manner by air suction. It is a substrate transfer stage.

また本発明は、基板を搬送する基板搬送ステージと、前記基板の搬送方向に対して垂直な方向に設けられた一部領域を検査する検査部と、前記一部領域に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックとを備え、前記浮上ブロックからのエアー吹き上げと前記吸引ブロックのエアー吸引により前記一部領域上における基板を水平に維持し、前記検査部により前記一部領域全面に亘って検査することを特徴とする基板検査装置である。   Further, the present invention is arranged over a substrate transport stage for transporting a substrate, an inspection unit for inspecting a partial region provided in a direction perpendicular to the transport direction of the substrate, and the partial region, A plurality of floating blocks that blow air to the substrate and float, and a plurality of suction blocks that are arranged between the floating blocks and draw the substrate in a non-contact manner by sucking air; the air from the floating block In the substrate inspection apparatus, the substrate on the partial area is kept horizontal by blowing up and air suction of the suction block, and the entire inspection area is inspected by the inspection unit.

以上詳記したように本発明によれば、ガラス基板を平面状に矯正できる浮上ユニット及びこれを用いた基板検査装置を提供できる。   As described above in detail, according to the present invention, a floating unit capable of correcting a glass substrate into a flat shape and a substrate inspection apparatus using the same can be provided.

以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は浮上ユニットの外観構成図である。ベース1上には、複数の浮上ブロック2、3と、これら浮上ブロック2、3の間に吸引ブロック4とが設けられている。各浮上ブロック2、3は、それぞれ直方体形状に形成され、図2に示すように内部にエアーの吹上げ圧力を均等化するための各バッファ空間5、6が形成されている。   FIG. 1 is an external configuration diagram of the floating unit. On the base 1, a plurality of floating blocks 2, 3 and a suction block 4 are provided between the floating blocks 2, 3. The floating blocks 2 and 3 are each formed in a rectangular parallelepiped shape, and buffer spaces 5 and 6 for equalizing the air blowing pressure are formed therein as shown in FIG.

これら浮上ブロック2、3の各上面位置は、それぞれ同一高さ位置に形成されている。これら浮上ブロック2、3の各上面には、それぞれ複数のエアー吹上げ孔7、8と9、10が設けられている。これらエアー吹上げ孔7、8及び9、10は、各浮上ブロック2、3上面に2つに限らず、1つであったり、2つ以上の多数設けてもよい。   The upper surface positions of the floating blocks 2 and 3 are formed at the same height position. A plurality of air blowing holes 7, 8, 9, and 10 are provided on the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3, respectively. These air blowing holes 7, 8, 9, and 10 are not limited to two on the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3, and may be one or a plurality of two or more.

これら浮上ブロック2、3の設けられたベース1の部分には、図2に示すように各エアー供給孔11、12が設けられている。これらエアー供給孔11、12には、圧搾空気供給源13が接続されている。この圧搾空気供給源13は、各エアー供給孔11、12を通して各バッファ空間5、6内に圧搾空気を所定のエアー圧力P1で供給する。この圧搾空気供給源13は、圧搾空気のエアー圧力P1を調整可能である。 As shown in FIG. 2, air supply holes 11 and 12 are provided in the portion of the base 1 where the floating blocks 2 and 3 are provided. A compressed air supply source 13 is connected to the air supply holes 11 and 12. The compressed air supply source 13 supplies compressed air at a predetermined air pressure P 1 into the buffer spaces 5 and 6 through the air supply holes 11 and 12. The compressed air supply source 13 can adjust the air pressure P 1 of the compressed air.

吸引ブロック4は、直方体状に形成され、その上部に凹形の吸引パッド14が設けられている。この吸引パッド14の上面高さ位置は、各浮上ブロック2、3の上面の高さ位置よりも段差Lだけ低く設けられている。   The suction block 4 is formed in a rectangular parallelepiped shape, and a concave suction pad 14 is provided on the top thereof. The upper surface height position of the suction pad 14 is provided by a level difference L lower than the height position of the upper surface of each floating block 2, 3.

この吸引パッド14は、長方形状に形成された溝底部15の外周縁の全周に亘ってパッド壁16を設けてパッド溝を形成し、このパッド溝の溝底部15にエアー吸引孔17を設けている。このエアー吸引孔17は、溝底部15の中央部に若しくは両端部に設けてもよく、又、エアー吸引孔17の数は、1つに限らず、複数設けてもよい。   The suction pad 14 is provided with a pad wall 16 over the entire circumference of the outer peripheral edge of the groove bottom 15 formed in a rectangular shape to form a pad groove, and an air suction hole 17 is provided in the groove bottom 15 of the pad groove. ing. The air suction holes 17 may be provided at the central portion or both ends of the groove bottom portion 15, and the number of the air suction holes 17 is not limited to one, and a plurality of air suction holes 17 may be provided.

吸引ブロック4のエアー吸引孔17に対応するベース1の部分には、図2に示すようにエアー吸引孔18が設けられている。このエアー吸引孔18には、負圧空気供給源19が接続されている。   An air suction hole 18 is provided in the portion of the base 1 corresponding to the air suction hole 17 of the suction block 4 as shown in FIG. A negative pressure air supply source 19 is connected to the air suction hole 18.

負圧空気供給源19は、エアー吸引孔17、18を通して吸着パッド14内のエアーを所定のエアー負圧力P2で排気する。この負圧空気供給源19は、エアー負圧力P2を調整可能である。 The negative pressure air supply source 19 exhausts the air in the suction pad 14 at a predetermined negative air pressure P 2 through the air suction holes 17 and 18. The negative pressure air supply source 19 is capable of adjusting the air negative pressure P 2.

又、各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4との間には、大気中のエアーをエアー吸引ブロック4の吸引パッド14上面に供給するための各隙間20、21が設けられている。これら隙間20、21は、エアーをエアー吸引ブロック4に充分供給可能な間隔であればよい。これら隙間20、21に対応するベース1の各部分には、それぞれ各通気孔22、23が設けられている。これら通気孔22、23は、1つ又は複数設けられるもので、エアーをエアー吸引ブロック4に充分供給可能な径、個数に形成される。   In addition, gaps 20 and 21 for supplying air in the atmosphere to the upper surface of the suction pad 14 of the air suction block 4 are provided between the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4. The gaps 20 and 21 may be any distance that can sufficiently supply air to the air suction block 4. Ventilation holes 22 and 23 are provided in portions of the base 1 corresponding to the gaps 20 and 21, respectively. One or a plurality of these air holes 22 and 23 are provided, and are formed to have a diameter and a number sufficient to supply air to the air suction block 4.

次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。   Next, the operation of the apparatus configured as described above will be described.

圧搾空気供給源13は、各エアー供給孔11、12を通して各バッファ空間5、6内に圧搾空気を所定のエアー圧力P1で供給する。これら圧搾空気は、バッファ空間5、6内においてエアー圧力P1程度のエアーの圧力分布に均等化されて各エアー吹上げ孔7、8と9、10から吹上げられ、ガラス基板24を浮上させる。 The compressed air supply source 13 supplies compressed air at a predetermined air pressure P 1 into the buffer spaces 5 and 6 through the air supply holes 11 and 12. The compressed air is equalized to the air pressure distribution of the air pressure P 1 in the buffer spaces 5 and 6 and blown up from the air blowing holes 7, 8, 9, and 10 to float the glass substrate 24. .

一方、負圧空気供給源19は、エアー吸引孔17、18を通してエアーを所定のエアー負圧力P2で排気する。これにより、吸引パッド14は、パッド溝内の全体からエアーを吸引し、このパッド溝内からエアー吸引孔17、18を通してエアーを排気する。これにより、吸引パッド14の開口側の全面は、エアーの吸引により負圧となり、ガラス基板24を吸引する。 On the other hand, the negative pressure air supply source 19 exhausts air at a predetermined negative air pressure P 2 through the air suction holes 17 and 18. Thereby, the suction pad 14 sucks air from the entire inside of the pad groove, and exhausts air from the pad groove through the air suction holes 17 and 18. As a result, the entire surface of the suction pad 14 on the opening side becomes a negative pressure due to air suction, and the glass substrate 24 is sucked.

ガラス基板24が図1に示すように吸引パッド14のパッド溝の長手方向と同一方向に搬送されと、ガラス基板24は、各エアー吹上げ孔7、8と9、10から吹上げられるエアー圧力によりガラス基板24と各浮上ブロック2、3の上面との間にエアー層が形成されて各浮上ブロック2、3上に浮上する。   When the glass substrate 24 is conveyed in the same direction as the longitudinal direction of the pad groove of the suction pad 14 as shown in FIG. 1, the glass substrate 24 is blown from the air blowing holes 7, 8, 9, 10. As a result, an air layer is formed between the glass substrate 24 and the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3 and floats on the floating blocks 2 and 3.

これと共にガラス基板24は、吸引パッド14のパッド溝の全面からエアー吸引孔17、18を通して吸引されるエアー負圧力により吸引パッド14側に引き寄せられる。このときのエアー負圧力は、吸引パッド14の僅か上方にガラス基板24が浮上しているので、ガラス基板24に対して吸引パッド14のパッド溝の全面に加わる。   At the same time, the glass substrate 24 is drawn toward the suction pad 14 by the negative air pressure sucked through the air suction holes 17 and 18 from the entire surface of the pad groove of the suction pad 14. The negative air pressure at this time is applied to the entire surface of the pad groove of the suction pad 14 with respect to the glass substrate 24 because the glass substrate 24 floats slightly above the suction pad 14.

このときのエアーの流れは、各エアー吹上げ孔7、8と9、10から吹上げられたエアーがガラス基板24に吹き付けられ、各浮上ブロック2、3の上面とガラス基板24との間を流れて吸引パッド14の上面に至り、この吸引パッド14のパッド溝内を通してエアー吸引孔17、18に吸引される。   At this time, the air flow is such that the air blown from the air blowing holes 7, 8, 9, 10 is blown to the glass substrate 24, and between the upper surfaces of the floating blocks 2, 3 and the glass substrate 24. It flows to the upper surface of the suction pad 14 and is sucked into the air suction holes 17 and 18 through the pad groove of the suction pad 14.

ガラス基板24に生じている反りを矯正するために、負圧空気供給源19に
りエアー吸引孔18及びエアー吸引孔17を通して排気するエアー負圧力P2を大きくすると、長方形状に形成された吸引パッド14のパッド溝の全面を通して吸引されるエアー負圧力が大きくなり、ガラス基板24を吸引パッド14側に引き寄せる力が大きくなる。
When the negative air pressure P 2 exhausted through the air suction hole 18 and the air suction hole 17 is increased by the negative pressure air supply source 19 in order to correct the warp generated in the glass substrate 24, the suction formed in a rectangular shape. The negative air pressure sucked through the entire surface of the pad groove of the pad 14 increases, and the force that draws the glass substrate 24 toward the suction pad 14 increases.

この結果、各エアー吹上げ孔7、8と9、10から吹上げられるエアー圧力と、吸引パッド14を通して吸引されるエアー負圧力とのバランスを調整すれば、ガラス基板24の反りが矯正される。   As a result, if the balance between the air pressure blown from the air blowing holes 7, 8, 9 and 10 and the negative air pressure sucked through the suction pad 14 is adjusted, the warp of the glass substrate 24 is corrected. .

ガラス基板24の反り量が大きい場合には、吸引パッド14を通して吸引するエアー負圧力を大きくする。エアー負圧力を大きくすると、ガラス基板24は、図3に示すように下降して各浮上ブロック2、3に近付き、ガラス基板24と各浮上ブロック2、3の上面との隙間も狭くなる。   When the warp amount of the glass substrate 24 is large, the negative air pressure sucked through the suction pad 14 is increased. When the negative air pressure is increased, the glass substrate 24 descends as shown in FIG. 3 and approaches each floating block 2, 3, and the gap between the glass substrate 24 and the upper surface of each floating block 2, 3 becomes narrow.

このときのエアーの流れは、図3に示すようにベース1の各通気孔22、23から各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4との間の各隙間20、21を通して吸引パッド14の上面に流れ、この吸引パッド14のパッド溝内からエアー吸引孔17、エアー吸引孔18を通して排気される。   As shown in FIG. 3, air flows at this time from the air holes 22 and 23 of the base 1 to the upper surface of the suction pad 14 through the gaps 20 and 21 between the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4. The air is exhausted from the inside of the pad groove of the suction pad 14 through the air suction hole 17 and the air suction hole 18.

このとき、ガラス基板24は、各浮上ブロック2、3とガラス基板24との間に吹上げられたエアー層により各浮上ブロック2、3上で浮上する。又、吸引パッド14の上面は、各浮上ブロック2、3の上面よりも低い位置に設けられているので、吸引パッド14とガラス基板24との隙間が確保され、エアー負圧力を大きくしても、この間隔を介して吸着パッド14の周囲からエアーが流入し、吸着パッド14がガラス基板24により塞がれることがない。   At this time, the glass substrate 24 floats on the floating blocks 2 and 3 by the air layer blown between the floating blocks 2 and 3 and the glass substrate 24. Further, since the upper surface of the suction pad 14 is provided at a position lower than the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3, a gap between the suction pad 14 and the glass substrate 24 is secured, and even if the negative air pressure is increased. The air does not flow from the periphery of the suction pad 14 through this interval, and the suction pad 14 is not blocked by the glass substrate 24.

従って、上記第1の実施の形態において、吸引パッド14とガラス基板24との間隔がエアー層より確実に確保され、かつ吸着パッド14の上面が各浮上ブロック2、3の上面より一段低くし、ガラス基板24との間隔を充分に確保されるので、ガラス基板24に生じている大きな反りを矯正するためにエアー吸引孔17から排気するエアー負圧力P2を大きくしても、ガラス基板24は吹上げられたエアー層により各浮上ブロック2、3の上面に接触することなく、かつ吸引パッド14に吸着されることなく、エアーの吐出し力(正圧力)と吸引力(負圧力)とによりガラス基板24の浮上高さを高精度に制御できる。 Therefore, in the first embodiment, the space between the suction pad 14 and the glass substrate 24 is ensured more securely than the air layer, and the upper surface of the suction pad 14 is made one step lower than the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3, Since the space between the glass substrate 24 and the glass substrate 24 is sufficiently secured, even if the negative air pressure P 2 exhausted from the air suction hole 17 is increased in order to correct a large warp generated in the glass substrate 24, the glass substrate 24 is The air discharge force (positive pressure) and the suction force (negative pressure) do not come into contact with the upper surfaces of the floating blocks 2 and 3 and are not attracted to the suction pad 14 by the blown-up air layer. The flying height of the glass substrate 24 can be controlled with high accuracy.

又、各浮上ブロック2、3へのエアーの供給系統と吸引ブロック4からのエアーの吸引系統とをそれぞれ独立させているので、ガラス基板24の反りを矯正するために、エアー吹き出し圧力とエアー吸引力とをそれぞれ別々にバランス良く調整でき、これらエアー吹き出し圧力とエアー吸引力との調整によりガラス基板24の浮上高さを制御できる。   In addition, since the air supply system to the floating blocks 2 and 3 and the air suction system from the suction block 4 are independent from each other, in order to correct the warp of the glass substrate 24, the air blowing pressure and the air suction The force can be adjusted separately with good balance, and the flying height of the glass substrate 24 can be controlled by adjusting the air blowing pressure and the air suction force.

又、ガラス基板24の剛性に応じてエアー吹き出しとエアー吸引との各圧力やそのバランスを調整することによって反りを矯正できる。さらに、各浮上ブロック2、3及び吸引パッド14を別々に設計することができるので、これら各浮上ブロック2、3の形状や吸引パッド14の径などの設計自由度が高くなる。   Further, the warp can be corrected by adjusting each pressure and balance between air blowing and air suction according to the rigidity of the glass substrate 24. Further, since the floating blocks 2 and 3 and the suction pad 14 can be designed separately, the degree of freedom in design such as the shape of the floating blocks 2 and 3 and the diameter of the suction pad 14 is increased.

各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4との各間に各隙間20、21を設けたので、ガラス基板24に生じている大きな反りを矯正するために吸引パッド14からのエアー吸引力を大きくしても、各隙間20、21を通してエアーを吸引パッド14に流すことができ、ガラス基板24の大きな反りを確実に矯正できる。   Since the gaps 20 and 21 are provided between the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4, the air suction force from the suction pad 14 is increased in order to correct a large warp generated in the glass substrate 24. However, air can be flowed to the suction pad 14 through the gaps 20 and 21, and the large warp of the glass substrate 24 can be reliably corrected.

又、吸引パッド14のパッド溝の長手方向は、ガラス基板24の搬送方向と同一方向に設けるので、搬送中にガラス基板24の端面が通り過ぎる途中であっても、浮上ユニット上方における吹き出しと吸引とのエアー圧力分布には変化が無く、ガラス基板24を上下方向に振らすことなく安定して搬送できる。   In addition, since the longitudinal direction of the pad groove of the suction pad 14 is provided in the same direction as the transport direction of the glass substrate 24, even if the end surface of the glass substrate 24 passes during transport, There is no change in the air pressure distribution, and the glass substrate 24 can be stably conveyed without shaking in the vertical direction.

次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図1及び図2と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。   Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図4及び図5は浮上ユニットの構成図であって、図4は外観構成図、図5は断面構成図である。本実施の形態は、各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4とを面接触させて各隙間20、21を無くし、各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4との間に段差Lを直接設けたものである。   4 and 5 are configuration diagrams of the levitation unit, FIG. 4 is an external configuration diagram, and FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram. In the present embodiment, the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4 are brought into surface contact to eliminate the gaps 20 and 21, and a step L is directly provided between the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4. Is.

このような構成であれば、各エアー吹上げ孔7、8と9、10から吹上げられるエアー圧力によりガラス基板24は、各浮上プレート7、8の上方に浮上する。これと共にガラス基板24は、吸引パッド14のパッド溝の全面からエアー吸引孔17を通して吸引されるエアー負圧力により吸引パッド14側に引き寄せられる。   With such a configuration, the glass substrate 24 floats above the floating plates 7 and 8 by the air pressure blown from the air blowing holes 7, 8 and 9 and 10. At the same time, the glass substrate 24 is pulled toward the suction pad 14 by the negative air pressure sucked through the air suction hole 17 from the entire surface of the pad groove of the suction pad 14.

このときのエアーの流れは、図5に示すように各エアー吹上げ孔7、8と9、
10から吹上げられたエアーがガラス基板24に吹き付けられ吸引パッド14に流れ、エアー吸引孔17、18を通して吸引される。
The air flow at this time is as shown in FIG.
The air blown up from 10 is blown onto the glass substrate 24, flows into the suction pad 14, and is sucked through the air suction holes 17 and 18.

このような構成の場合、各浮上ブロック2、3と吸引ブロック4との間の各隙間20、21を無くした分だけ吸引パッド14に流れ込むエアー量が少なくなることから吸引パッド14のエアー負圧力を大きくできないが、ガラス基板24が薄くかつガラス基板24に生じている反り量が少なければ、充分に反りを矯正するだけのエアー負圧力を得ることはできる。   In such a configuration, since the amount of air flowing into the suction pad 14 is reduced by the amount of the gaps 20 and 21 between the floating blocks 2 and 3 and the suction block 4, the negative air pressure of the suction pad 14 is reduced. However, if the glass substrate 24 is thin and the amount of warpage occurring in the glass substrate 24 is small, it is possible to obtain a negative air pressure sufficient to correct the warp.

なお、上記各実施の形態では、2つの浮上ブロック2、3の間に吸引ブロック4を設けたが、1つの浮上ブロックに1つの吸引ブロックを隣接して設けてもよい。又、ガラス基板24の浮上手段としてエアー浮上方式を用いているが、これに限らず、静電浮上方式を用いてもよい。又、各エアー吹上げ孔7、8、9、10からエアーを吹上げる方式に限らず、各浮上プレート7、8を多孔質部材からなるプレートに取り替え、この多孔質プレートの全面から均一な圧力のエアーを吹き上げてガラス基板24を浮上させてもよい。   In each of the above embodiments, the suction block 4 is provided between the two floating blocks 2 and 3, but one suction block may be provided adjacent to one floating block. Moreover, although the air levitation method is used as the levitation means of the glass substrate 24, the present invention is not limited to this, and an electrostatic levitation method may be used. Further, not only the method of blowing air from each air blowing hole 7, 8, 9, 10 but each floating plate 7, 8 is replaced with a plate made of a porous member, and uniform pressure is applied from the entire surface of this porous plate. The air may be blown up to float the glass substrate 24.

又、吸引パッド14の形状は、長方形状に限らず、楕円形状でもよく、ガラス基板24が浮上装置上を搬送するときに、ガラス基板24に対するエアー吹上げの面積とエアー吸引の面積との割合が大きく変化しない形状であればよい。このようにガラス基板24に対するエアー吹上げの面積とエアー吸引の面積との割合が大きく変化しなければ、ガラス基板4の端面が搬送方向に通り過ぎる途中であってもエアー圧力分布に変化がなく、ガラス基板24を上下方向に振らすことなく安定して搬送できる。   The shape of the suction pad 14 is not limited to a rectangular shape, and may be an elliptical shape. When the glass substrate 24 is transported on the floating device, the ratio of the area of air blowing to the glass substrate 24 and the area of air suction. Any shape that does not change significantly may be used. Thus, if the ratio of the area of air blowing to the glass substrate 24 and the area of air suction does not change significantly, the air pressure distribution does not change even while the end surface of the glass substrate 4 passes in the transport direction, The glass substrate 24 can be stably conveyed without shaking in the vertical direction.

次に、本発明の第3の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図1及び図2と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。   Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図6は上記各実施の形態の浮上ユニットを用いた基板検査装置の概略構成図である。搬送ステージ30は、上面に複数のエアー吹上げ孔31と複数のエアー吸引孔32とが所定の間隔で設けられている。ガラス基板24は、各エアー吹上げ孔31からのエアー吹上げと各エアー吸引孔32からのエアー吸引とにより安定して搬送ステージ30の上方に浮上し、図示されない各吸着保持機構によってガラス基板24の両端部が引っ張られて矢印イ方向に搬送される。なお、搬送ステージ30は、各エアー吹上げ孔31及びエアー吸引孔32を設けるに限らず、エアー吹き上げ孔31のみを設けてもよく、多孔質部材の全面から均一な圧力のエアーを吹き上げてガラス基板24を浮上させてもよい。   FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a substrate inspection apparatus using the levitation unit of each of the above embodiments. The transfer stage 30 is provided with a plurality of air blowing holes 31 and a plurality of air suction holes 32 at predetermined intervals on the upper surface. The glass substrate 24 stably floats above the transfer stage 30 by air blowing from each air blowing hole 31 and air sucking from each air suction hole 32, and the glass substrate 24 is supported by each suction holding mechanism (not shown). Both ends are pulled and conveyed in the direction of the arrow a. The transfer stage 30 is not limited to the air blowing holes 31 and the air suction holes 32, and may be provided with only the air blowing holes 31. Glass with a uniform pressure is blown from the entire surface of the porous member. The substrate 24 may be levitated.

顕微鏡本体33は、図示しない門型アームに設けられ、搬送ステージ30の上方をガラス基板24のエアー搬送方向(イ)に対して垂直な矢印ロ方向に移動可能になっている。この顕微鏡本体33の移動により観察される部分がガラス基板24に対する検査領域になる。   The microscope body 33 is provided on a portal arm (not shown), and is movable above the transfer stage 30 in the direction of an arrow B perpendicular to the air transfer direction (A) of the glass substrate 24. A portion observed by the movement of the microscope main body 33 becomes an inspection region for the glass substrate 24.

この検査領域に対応する搬送ステージ30の上面には、上記第1又は第2の実施の形態で説明した浮上ブロック2、3と吸引ブロック4とからなる浮上ユニット34が複数配列されている。これら浮上ユニット34は、吸引ブロック4の各吸引パッド14の各パッド溝の長手方向がガラス基板24のエアー搬送方向(イ)に対して平行になるように設けられている。   On the upper surface of the transfer stage 30 corresponding to this inspection area, a plurality of levitation units 34 composed of the levitation blocks 2 and 3 and the suction block 4 described in the first or second embodiment are arranged. These floating units 34 are provided such that the longitudinal direction of each pad groove of each suction pad 14 of the suction block 4 is parallel to the air conveyance direction (A) of the glass substrate 24.

このような構成であれば、ガラス基板24は、搬送ステージ30の各エアー吹上げ孔31からのエアー吹上げと各エアー吸引孔32からのエアー吸引とにより搬送ステージ30の上方に安定して浮上し、各吸着保持機構によって両端部が引っ張られて矢印イ方向に所定ピッチ毎に搬送される。   With such a configuration, the glass substrate 24 is stably floated above the conveyance stage 30 by air blowing from each air blowing hole 31 of the conveying stage 30 and air suction from each air suction hole 32. Then, both end portions are pulled by each suction holding mechanism and are transported at predetermined pitches in the direction of arrow A.

一方、顕微鏡本体33の検査領域に浮上ユニット34を配置することにより、
エアーの吹き上げと吸引によりガラス基板24の浮上高さを高精度に位置制御でき、検査領域上においてガラス基板24の水平度を高精度に維持することができる。
On the other hand, by placing the floating unit 34 in the inspection area of the microscope body 33,
The flying height of the glass substrate 24 can be controlled with high accuracy by blowing and sucking air, and the level of the glass substrate 24 can be maintained with high accuracy on the inspection region.

ガラス基板24の検査では、顕微鏡本体33の拡大像を観察して欠陥部を検出するので、顕微鏡本体33の倍率が高くなるに従って焦点深度が浅くなる。このため、ガラス基板24の水平度が出ていないと、顕微鏡本体33の焦点が合わず、ガラス基板24の拡大像がぼけてしまうが、顕微鏡本体33の検査領域に設けられた各浮上ユニット34によりガラス基板24の反りが矯正され、ガラス基板24は検査領域上で水平かつ一定の高さに正確に保持されるので、顕微鏡本体33により検査領域全面に亘って焦点の合ったガラス基板24の拡大像を得ることができ、ガラス基板24の検査精度を高くできる。   In the inspection of the glass substrate 24, a magnified image of the microscope main body 33 is observed to detect a defective portion, so that the depth of focus decreases as the magnification of the microscope main body 33 increases. Therefore, if the glass substrate 24 is not leveled, the microscope main body 33 is not focused and an enlarged image of the glass substrate 24 is blurred. However, each floating unit 34 provided in the inspection region of the microscope main body 33 is blurred. Accordingly, the warp of the glass substrate 24 is corrected, and the glass substrate 24 is accurately held horizontally and at a constant height on the inspection region. An enlarged image can be obtained, and the inspection accuracy of the glass substrate 24 can be increased.

なお、上記第3の実施の形態では、搬送ステージ30の上面に複数の浮上ユニット34を配置したが、これら浮上ユニット34は、図7及び図8に示す配置にしてもよい。図7に示すエアー搬送ステージ30には、複数のエアー吹上げ孔31が適宜な間隔で設けられると共に、ガラス基板24の搬送方向(イ)に沿って複数の溝35が並設されている。又、搬送ステージ30は、多孔質部材により形成されてもよい。この搬送ステージ30の各溝35で分かれた各上面における顕微鏡本体33の観察領域には、それぞれ各設置用穴36が設けられ、これら設置用穴36内に各浮上ユニット34が設けられている。   In the third embodiment, a plurality of levitation units 34 are arranged on the upper surface of the transfer stage 30, but these levitation units 34 may be arranged as shown in FIGS. In the air transfer stage 30 shown in FIG. 7, a plurality of air blowing holes 31 are provided at appropriate intervals, and a plurality of grooves 35 are provided in parallel along the transfer direction (A) of the glass substrate 24. Further, the transfer stage 30 may be formed of a porous member. Each observation hole of the microscope main body 33 on each upper surface divided by each groove 35 of the transport stage 30 is provided with each installation hole 36, and each floating unit 34 is provided in each of the installation holes 36.

図8に示すエアー搬送ステージ30では、各溝35の各底面における顕微鏡本体33の観察領域にそれぞれ浮上ユニット34が設けられている。   In the air conveyance stage 30 shown in FIG. 8, the levitation unit 34 is provided in the observation region of the microscope main body 33 on each bottom surface of each groove 35.

浮上ユニット34の配置であっても、第3の実施の形態と同様の作用効果が得られる。   Even with the arrangement of the levitation unit 34, the same effects as those of the third embodiment can be obtained.

なお、この発明は、上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiments as they are, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

上記各実施形態で説明した浮上ユニットは、FDPのガラス板の基板検査装置に限らず、半導体製造ラインなどの各種基板の搬送ラインに適用することが可能であり、又はカラー液晶ディスプレイのフィルタの検査装置での搬送ラインにも適用可能である。又、ステッパにおいて上記各実施形態で説明した浮上装置を適用すれば、非接触状態で半導体基板をステージ上に浮上保持して露光処理ができる。   The levitation unit described in each of the above embodiments is not limited to the FDP glass plate substrate inspection apparatus, but can be applied to various substrate transfer lines such as semiconductor manufacturing lines, or color liquid crystal display filter inspection. It can also be applied to a transfer line in the apparatus. Further, when the levitating apparatus described in the above embodiments is applied to the stepper, the exposure process can be performed by levitating and holding the semiconductor substrate on the stage in a non-contact state.

本発明に係わる浮上ユニットの第1の実施の形態を示す外観構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The external appearance block diagram which shows 1st Embodiment of the floating unit concerning this invention. 同ユニットの断面構成図。Sectional block diagram of the unit. 同ユニットにおける吸引パッドによるエアー負圧力を大きくしたときのガラス基板と浮上プレートとの隙間を示す図。The figure which shows the clearance gap between a glass substrate and a floating plate when the air negative pressure by the suction pad in the unit is enlarged. 本発明に係わる浮上ユニットの第2の実施の形態を示す外観構成図。The external appearance block diagram which shows 2nd Embodiment of the floating unit concerning this invention. 同ユニットの断面構成図。Sectional block diagram of the unit. 本発明に係わる浮上ユニットを用いた基板検査装置の第3の実施の形態を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows 3rd Embodiment of the board | substrate inspection apparatus using the floating unit concerning this invention. 本発明に係わる浮上ユニットの基板検査装置における配置の変形例を示す図。The figure which shows the modification of arrangement | positioning in the board | substrate inspection apparatus of the levitation | floating unit concerning this invention. 本発明に係わる浮上ユニットの基板検査装置における配置の変形例を示す図。The figure which shows the modification of arrangement | positioning in the board | substrate inspection apparatus of the levitation | floating unit concerning this invention.

1:ベース、2,3:浮上ブロック、4:吸引ブロック、5,6:バッファ空間、7,8:浮上プレート、9a,9b,10a,10b:エアー吹上げ孔、11,12:エアー供給孔、13:圧搾空気供給源、14:吸引パッド、15:溝底部、16:パッド壁、17,18:エアー吸引孔、19:負圧空気供給源、20,21:隙間、22,23:通気孔、24:ガラス基板、30:搬送ステージ、31:エアー吹上げ孔、32:エアー吸引孔、33:顕微鏡本体、34:浮上ユニット、35:溝、40:べース、41:多孔質部材、42:溝、43:エアー吸引部、44:底部、45:壁、46:エアー吸引孔、47:半導体ウエハ。   1: base, 2, 3: floating block, 4: suction block, 5, 6: buffer space, 7, 8: floating plate, 9a, 9b, 10a, 10b: air blowing holes, 11, 12: air supply holes , 13: compressed air supply source, 14: suction pad, 15: groove bottom, 16: pad wall, 17, 18: air suction hole, 19: negative pressure air supply source, 20, 21: gap, 22, 23: communication Pore, 24: Glass substrate, 30: Transport stage, 31: Air blowing hole, 32: Air suction hole, 33: Microscope body, 34: Lifting unit, 35: Groove, 40: Base, 41: Porous member 42: groove, 43: air suction part, 44: bottom part, 45: wall, 46: air suction hole, 47: semiconductor wafer.

Claims (11)

基板を搬送する基板搬送ステージにおいて、
前記基板の搬送方向に対して垂直な方向にライン状に配置された一部領域と、
前記一部領域の長手方向に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、
これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックと、
を備えたことを特徴とする基板搬送ステージ。
In the substrate transfer stage that transfers the substrate,
A partial region arranged in a line in a direction perpendicular to the transport direction of the substrate;
A plurality of floating blocks arranged over the longitudinal direction of the partial region and blowing air to the substrate to float;
A plurality of suction blocks that are arranged between these floating blocks and draw the substrate in a non-contact manner by sucking air;
A substrate transfer stage comprising:
前記浮上ブロックと前記吸引ブロックは、2つの浮上ブロックの間に1つの吸引ブロックを配置した浮上ユニットに構成し、この浮上ユニットを前記一部領域に複数配列したことを特徴とする請求項1記載の基板搬送ステージ。   2. The levitation block and the suction block are configured as a levitation unit in which one suction block is disposed between two levitation blocks, and a plurality of the levitation units are arranged in the partial area. Substrate transfer stage. 前記浮上ブロックと前記吸引ブロックは、前記一部領域に亘って交互に配列されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送ステージ。   2. The substrate transfer stage according to claim 1, wherein the floating block and the suction block are alternately arranged over the partial area. 前記吸引ブロックは、上部に凹形のパッド窪を有する長方形に形成され、この吸引ブロックの長手方向を前記基板の搬送方向と同一方向となるように配置されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の基板搬送ステージ。   2. The suction block according to claim 1, wherein the suction block is formed in a rectangular shape having a concave pad recess at an upper portion thereof, and is arranged such that a longitudinal direction of the suction block is the same as a transport direction of the substrate. 4. The substrate transfer stage according to any one of 3 above. 前記吸引ブロックは、その上面の高さが前記浮上ブロックの上面の高さよりも低い位置に配置されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の基板搬送ステージ。   4. The substrate transfer stage according to claim 1, wherein the suction block is arranged at a position where the height of the upper surface thereof is lower than the height of the upper surface of the floating block. 5. 前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記負圧空気供給源は、前記エアー負圧力を調整することにより前記各浮上ブロックにより浮上した基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の基板搬送ステージ。   The suction block is connected to a negative-pressure air supply source capable of adjusting the negative air pressure, and the negative-pressure air supply source adjusts the negative air pressure to raise the flying height of the substrate floated by each of the floating blocks. The substrate transfer stage according to claim 1, wherein the substrate transfer stage is controlled. 基板を搬送する基板搬送ステージと、
前記基板の搬送方向に対して垂直な方向に設けられた一部領域を検査する検査部と、
前記一部領域に亘って配列され、前記基板に対してエアーを吹出して浮上させる複数の浮上ブロックと、
これら浮上ブロックの間に配置され、エアーの吸引により前記基板を非接触で引き込む複数の吸引ブロックとを備え、
前記浮上ブロックからのエアー吹き上げと前記吸引ブロックのエアー吸引により前記一部領域上における基板を水平に維持し、前記検査部により前記一部領域全面に亘って検査することを特徴とする基板検査装置。
A substrate transfer stage for transferring a substrate;
An inspection unit for inspecting a partial region provided in a direction perpendicular to the conveyance direction of the substrate;
A plurality of floating blocks that are arranged over the partial area and blown to the substrate to float;
A plurality of suction blocks which are arranged between the floating blocks and draw the substrate in a non-contact manner by sucking air;
A substrate inspection apparatus characterized in that the substrate on the partial area is kept horizontal by blowing air from the floating block and air suction of the suction block, and inspecting the entire partial area by the inspection unit. .
前記基板搬送ステージは、前記一部領域を除く両側に前記基板にエアーを吹き上げて浮上させるエアー吹き上げ孔を多数設け、更に、前記基板を浮上させた状態で前記搬送方向に搬送する吸着保持機構を備えたことを特徴とする請求項7記載の基板検査装置。   The substrate transport stage is provided with a plurality of air blowing holes for blowing air to the substrate to float on both sides except the partial area, and further, a suction holding mechanism for transporting the substrate in the transport direction in the state of floating the substrate. 8. The substrate inspection apparatus according to claim 7, further comprising: 前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記負圧空気供給源は、前記エアー負圧力を調整することにより前記一部領域上に浮上した基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項7記載の基板検査装置。 The suction block is connected to a negative pressure air supply source capable of adjusting an air negative pressure, and the negative pressure air supply source adjusts the air negative pressure to increase the flying height of the substrate that has floated on the partial area. 8. The substrate inspection apparatus according to claim 7, wherein the thickness is controlled. 前記浮上ブロックは、圧搾空気のエアー圧力を調整可能な圧搾空気供給源に接続され、前記吸引ブロックは、エアー負圧力を調整可能な負圧空気供給源に接続され、前記圧搾空気供給源または負圧空気供給源によりエアー吹き出し圧またはエアー吸引力を調整することにより前記検査領域上に浮上した前記基板の浮上高さを制御することを特徴とする請求項7記載の基板検査装置。   The floating block is connected to a compressed air supply source capable of adjusting the air pressure of the compressed air, and the suction block is connected to a negative pressure air supply source capable of adjusting an air negative pressure. 8. The substrate inspection apparatus according to claim 7, wherein the flying height of the substrate that has floated on the inspection area is controlled by adjusting an air blowing pressure or an air suction force by a pressurized air supply source. 前記基板の浮上高さは、前記検査部の検査領域全面に亘って焦点が合うように前記基板を水平かつ一定の浮上高さに制御されることを特徴とする請求項9又は10に記載の基板検査装置。   The flying height of the substrate is controlled to be a horizontal and constant flying height so that the entire surface of the inspection area of the inspection unit is in focus. Board inspection equipment.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012121641A (en) * 2010-12-06 2012-06-28 Daifuku Co Ltd Plate-like body conveying device
CN104766816A (en) * 2014-01-02 2015-07-08 万润科技股份有限公司 Electronic module conveying method and device
CN104787579A (en) * 2014-01-22 2015-07-22 由田新技股份有限公司 Detection device
WO2018180651A1 (en) * 2017-03-27 2018-10-04 日本電気硝子株式会社 Method and device for producing glass sheet
CN108910534A (en) * 2018-07-05 2018-11-30 江苏科技大学 The contactless air bearing feeding device of glass substrate
CN112830256A (en) * 2020-12-31 2021-05-25 合肥工业大学 Elastic pressure stabilizer for sheet air-float supporting system
CN113203681A (en) * 2021-04-20 2021-08-03 合肥富煌君达高科信息技术有限公司 Air-float rotation control mechanism
JP2022513842A (en) * 2018-12-21 2022-02-09 カティーバ, インコーポレイテッド Devices, systems, and methods that control board floating

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6186311A (en) * 1984-07-04 1986-05-01 Hitachi Ltd Plate-like material transfer device
JPH0750336A (en) * 1993-08-04 1995-02-21 Hitachi Ltd Differential suction type vacuum chuck
JPH10157851A (en) * 1996-12-02 1998-06-16 Ckd Corp Object-to-be-conveyed conveying method in floatation type conveying device and floatation type conveying device
JP2002181714A (en) * 2000-12-19 2002-06-26 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Thin plate inspection device
JP2002217082A (en) * 2001-01-12 2002-08-02 Nikon Corp Stage system and aligner
JP2004331265A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Olympus Corp Floating unit and substrate inspection device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6186311A (en) * 1984-07-04 1986-05-01 Hitachi Ltd Plate-like material transfer device
JPH0750336A (en) * 1993-08-04 1995-02-21 Hitachi Ltd Differential suction type vacuum chuck
JPH10157851A (en) * 1996-12-02 1998-06-16 Ckd Corp Object-to-be-conveyed conveying method in floatation type conveying device and floatation type conveying device
JP2002181714A (en) * 2000-12-19 2002-06-26 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Thin plate inspection device
JP2002217082A (en) * 2001-01-12 2002-08-02 Nikon Corp Stage system and aligner
JP2004331265A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Olympus Corp Floating unit and substrate inspection device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012121641A (en) * 2010-12-06 2012-06-28 Daifuku Co Ltd Plate-like body conveying device
CN104766816A (en) * 2014-01-02 2015-07-08 万润科技股份有限公司 Electronic module conveying method and device
CN104787579A (en) * 2014-01-22 2015-07-22 由田新技股份有限公司 Detection device
WO2018180651A1 (en) * 2017-03-27 2018-10-04 日本電気硝子株式会社 Method and device for producing glass sheet
CN108910534A (en) * 2018-07-05 2018-11-30 江苏科技大学 The contactless air bearing feeding device of glass substrate
JP2022513842A (en) * 2018-12-21 2022-02-09 カティーバ, インコーポレイテッド Devices, systems, and methods that control board floating
EP3900025A4 (en) * 2018-12-21 2022-09-14 Kateeva, Inc. Devices, systems, and methods for controlling floatation of a substrate
CN112830256A (en) * 2020-12-31 2021-05-25 合肥工业大学 Elastic pressure stabilizer for sheet air-float supporting system
CN113203681A (en) * 2021-04-20 2021-08-03 合肥富煌君达高科信息技术有限公司 Air-float rotation control mechanism

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