JP4534766B2 - 超純水製造装置及び超純水製造方法 - Google Patents
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Description
波長185nmのUVを照射することにより、水が分解して・OHラジカルと・Hラジカルを生成する。
H2O→・OH+・H
生成した・OHラジカルと・Hラジカルの大部分は、水中の有機物の分解に使用されるが、余剰の・OHラジカルと・Hラジカルは、下記の反応でH2O2とH2を生成する。
・OH+・OH→H2O2
・H+・H→H2
アニオン交換樹脂は固体の強アルカリ性物質であるため、その表面で、低圧UV照射酸化装置で生成したH2O2が分解される。ただし、水とO2への完全分解ではないため、H2O2が残る。
H2O2→H2O+1/2O2+未反応H2O2
パラジウムの触媒作用で、低圧UV照射酸化装置で生成したH2O2を水とO2に分解する。このH2O2の分解は、通水条件にもよるが、アニオン交換樹脂とは異なり、ほぼ100%の分解率を得ることができる。また、パラジウムの触媒作用で、低圧UV照射酸化装置で生成したH2により水中のDOを水に還元する。
H2O2→H2O+1/2O2 …(1)
樹脂−Pd+H2→樹脂−Pd−H2 …(2)
1/2O2+樹脂−Pd−H2→H2O+樹脂−Pd …(3)
樹脂−Pd−H2→樹脂−Pd+H2 …(4)
ポンプPの稼動を停止して通水を停止すると同時に非再生型イオン交換容器14Aの流出側配管に設けられた出口弁V4を閉じ、その後直ちに給水側配管に設けられた入口弁V3を閉じる。この操作により、非再生型イオン交換容器14A内は満水で通水時と同等の加圧状態に保持される。このためH2を吸蔵した触媒樹脂からのH2の脱着は防止される。
(1) 樹脂洗浄工場で出荷時水切りし、現場のハンドリングを容易とするため、10〜25L規模に小分け、梱包して出荷されたイオン交換樹脂(アニオン交換樹脂、又はアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂との混合樹脂)と触媒樹脂とを準備する。
(2) 入口弁V3、樹脂抜き弁V6を開、出口弁V4を閉として、容器20の底部から使用済み樹脂を抜き出し、容器20内の清掃、点検後、樹脂抜き弁V6を閉とし、イオン交換樹脂を容器20の上部から投入して高さが均一(上表面が平坦)となるようにイオン交換樹脂層21を形成する。
(3) その後、容器20の上部から触媒樹脂を投入し、イオン交換樹脂層21上に触媒樹脂層22を高さが均一となるように形成する。
(4) 容器20上部を閉とし、入口弁V3を開、エアベント弁V8を開とし、ポンプPを稼動させて、サブタンク11内の一次純水を容器20内に導入して水張りし、満水とした後、排水弁V7を開とすると共に、上方からエアベント弁8あるいは容器20入口のサンプリングバルブ(図示せず)からN2ガスを用いて加圧ブローすることにより、容器20内の水を押し出す。この操作は、工場からの出荷から容器への充填までの間に樹脂から溶出した溶出物を洗浄除去すると共に、容器20内の空気を押し出して容器20内に酸素が残らないようにするために行うものであり、ブローにはN2ガス以外の不活性ガスを用いても良い。なお、N2ガスブロー時にはポンプPを停止する。
(5) 上記(4)の操作を複数回(例えば3回)繰り返した後、入口弁V3を開、排水弁V7、出口弁V4閉のまま、N2ガスによるブローを行わず、ポンプPによる一次純水の供給を継続した状態で、再度水張り、満水とし、次いで排水弁V7を開として、容器20内の水を一次純水で満水状態で、通水ブローする。
(6) その後、(5)と同様の状態を継続したまま、低圧UV照射酸化装置13を点灯する。これにより、低圧UV照射酸化装置で発生したH2が容器20内に流入するため、触媒樹脂がこのH2を吸蔵する。この時、排水弁V7は開とし、交換した触媒樹脂とイオン交換樹脂を洗浄し、洗浄排水はブローする。
(7) (6)の操作を所定時間行った後、バイパス弁V5を開として容器20への通水を停止すると同時に、容器20の排水弁V7を閉とし、直ちに入口弁V3も閉とする。この操作により、非再生型イオン交換容器14A内は満水で通水時と同等の加圧状態に保持される。また、低圧UV照射酸化装置も消灯し、サブシステム全体の殺菌・洗浄工程に移る。
殺菌・洗浄工程の間、非再生型イオン交換容器14Aは通水停止状態になるが、加圧状態が維持され、H2を吸蔵した触媒樹脂からのH2の脱着が防止される。
(8) 殺菌・洗浄工程終了後、非再生型イオン交換容器14Aへの通水に先立ち、低圧UV照射酸化装置13を点灯し、弁V5閉、弁V3,V4開として通水工程を再開する。
(1) 樹脂洗浄工場で非再生型イオン交換容器の容器に、上記[2]の(2),(3)の場合と同様の操作で容器内にイオン交換樹脂を充填してイオン交換樹脂層を形成し、その後触媒樹脂を充填し、イオン交換樹脂層上に触媒樹脂層を形成する。
(2) その後、DOを除去した超純水で上記[2]の(4),(5)の場合と同様の操作で洗浄−ブローする。
(3) 洗浄終了後、上記[2]の(7)の場合と同様の操作で出口弁閉とした後入口弁閉とし、容器内を加圧状態で保持して非再生型イオン交換容器として出荷する。
(4) 現地着後、非再生型イオン交換容器を交換し、殺菌・洗浄まで低圧UV照射酸化装置を点灯状態で洗浄ブローする。
(5) その後、[2]の(7)と同様の操作で殺菌・洗浄し、[2]の(8)と同様に通水工程を再開する。
TOC2μg/L、比抵抗18.12MΩ・cmの一次純水を図1(b)に示すサブシステムで処理した。
TOC2μg/L、比抵抗18.2MΩ・cmの一次純水を図1(b)に示すサブシステムで処理した。
TOC2μg/L、比抵抗18.12MΩ・cmの一次純水を図1(b)に示すサブシステムで処理した。
実施例1において、低圧UV照射酸化装置からの流出水を分岐させ、並列に設けた下記の樹脂充填容器にそれぞれSV60hr−1の通水速度で通水した。いずれの充填容器からもDO1μg/L以下の処理水を得ることができた。
2 一次純水製造装置
3 二次純水製造装置(サブシステム)
11 サブタンク
12 熱交換器
13 低圧UV照射酸化装置
14,14A 非再生型イオン交換容器
15 UF膜分離装置
16 循環ライン
17 バイパスライン
20 容器
21 イオン交換樹脂層
22 触媒樹脂層
Claims (5)
- 被処理水が導入される紫外線照射酸化装置と、該紫外線照射酸化装置の流出水が通水されるパラジウム触媒充填容器とを有し、該被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させることにより溶存酸素を除去した超純水を得る超純水製造装置において、
該パラジウム触媒充填容器への通水停止期間中に該充填容器内を加圧下に保持するようにした超純水製造装置であって、
前記紫外線照射酸化装置の上流側配管に設けられたポンプと、前記充填容器の給水側配管に設けられた入口弁及び流出側配管に設けられた出口弁とを有し、該充填容器への通水停止と共に該出口弁を閉とし、次いで該入口弁をすみやかに閉とすることにより、通水停止期間中に当該充填容器内を加圧下に保持するようにしたことを特徴とする超純水製造装置。 - 請求項1において、前記充填容器内を0.2〜0.4MPaの加圧下に保持することを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1又は2において、前記充填容器は、アニオン交換樹脂層、又はアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とが混合状態で存在する混合樹脂層を有すると共に、パラジウム触媒が充填された非再生型イオン交換容器であることを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項3において、前記充填容器内において、前記パラジウム触媒は前記アニオン交換樹脂層又は混合樹脂層の上表面に積層されていることを特徴とする超純水製造装置。
- 被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒充填容器に通水して溶存酸素を除去した超純水を得る超純水製造方法において、
該パラジウム触媒充填容器への通水停止期間中に該充填容器内を加圧下に保持するようにしたことを特徴とする超純水製造方法。
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