JP4534133B2 - キャパシタおよびその製造方法、並びに半導体メモリ装置 - Google Patents
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(1)半導体(例えば,シリコン)からなる第1電極上に、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第1の高誘電体金属酸化膜を形成する第1工程
(2)第1の高誘電体金属酸化膜を窒化して第1の高誘電体金属酸窒化膜に変換した後、アニーリング処理を施す第2工程
(3)アニーリング処理された第1の高誘電体金属酸窒化膜上に、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第2の高誘電体金属酸化膜を形成する第3工程
(4)第2の高誘電体金属酸化膜を窒化して、第1の高誘電体金属酸窒化膜の窒化量よりも多い窒化量を含む第2の高誘電体金属酸窒化膜に変換する第4工程
(5)第2の高誘電体金属酸窒化膜上に第2電極を形成する第5工程
なお、第2の高誘電体金属酸窒化膜は、1層でも2以上の層の積層構造であってもよい。
Claims (6)
- 半導体からなる第1電極上に、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第1の高誘電体金属酸化膜を形成する第1工程と、
前記第1の高誘電体金属酸化膜を窒化して第1の高誘電体金属酸窒化膜に変換した後、アニーリング処理を施す第2工程と、
前記アニーリング処理された第1の高誘電体金属酸窒化膜上に、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第2の高誘電体金属酸化膜を形成する第3工程と、
前記第2の高誘電体金属酸化膜を窒化して、前記第1の高誘電体金属酸窒化膜の窒化量よりも多い窒化量を含む第2の高誘電体金属酸窒化膜に変換する第4工程と、
前記第2の高誘電体金属酸窒化膜上に第2電極を形成する第5工程と
を含むことを特徴とするキャパシタの製造方法。 - 前記第1および第2の高誘電体金属酸化膜を互いに同一の組成を有するものとする
ことを特徴とする請求項1記載のキャパシタの製造方法。 - 前記第2および第4工程それぞれの窒化処理を、熱窒化またはプラズマ窒化により行う
ことを特徴とする請求項1記載のキャパシタの製造方法。 - 半導体からなる第1電極と、
誘電体膜と、
前記誘電体膜上に形成された第2電極と
を備え、
前記誘電体膜は、
前記第1電極上に形成された、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第1の高誘電体金属酸窒化膜と、
前記第1の高誘電体金属酸窒化膜上に形成されると共に前記第1の高誘電体金属酸窒化膜の窒化量よりも多い窒化量を含む、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第2の高誘電体金属酸窒化膜と
を含む
ことを特徴とするキャパシタ。 - 前記第1および第2の高誘電体金属酸窒化膜は互いに同一の組成を有する
ことを特徴とする請求項4記載のキャパシタ。 - キャパシタを有する半導体メモリ装置であって、
前記キャパシタは、
半導体からなる第1電極と、
誘電体膜と、
前記誘電体膜上に形成された第2電極と
を備え、
前記誘電体膜は、
前記第1電極上に形成された、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第1の高誘電体金属酸窒化膜と、
前記第1の高誘電体金属酸窒化膜上に形成されると共に前記第1の高誘電体金属酸窒化膜の窒化量よりも多い窒化量を含む、Al,Hf,Zr,Pr,Y,Laのいずれか1つを主成分とする材料からなる第2の高誘電体金属酸窒化膜と
を含む
ことを特徴とする半導体メモリ装置。
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---|---|---|---|---|
JPS629666A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2003209110A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-07-25 | Sony Corp | 金属酸窒化膜の製造方法および絶縁ゲート型電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
JP2005166696A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Rohm Co Ltd | 金属化合物薄膜およびその製造方法、ならびに当該金属化合物薄膜を含む半導体装置およびその製造方法 |
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2004
- 2004-08-16 JP JP2004236688A patent/JP4534133B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPS629666A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-17 | Nec Corp | 半導体装置 |
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