JP4532395B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
ただし、k1は、定数である。従って、NAの値が高いほど、解像度が良くなる、つまり結像され得るパターン形体がより小さくなることが分かる。
IL 照明系
PL 投影系
PB 放射ビーム
W 基板
C 目標部分
P1、P2 位置合わせマーク
IF1、IF2 位置センサ
MA パターニング装置
M1、M2 位置あわせマーク
MT マスク・テーブル
PM 第1の位置決め装置
PW 第2の位置決め装置
WT 基板テーブル
LA 放射ソース
1 EUVリソグラフィ装置
3 放射装置
4 照明光学装置
12、22、23 中間焦点
13、14、18、19、24、25 反射素子
16 反射ビーム
17 パターニングされたビーム
20 NA絞り円板
21 開口
32 位置決め装置(機構)
34 細長いアーム
35、44フォーク
36 支持体
37 ピボット
38 第2のアーム
39 第2のフォーク
41 送出機構
42 ショベル部
43 操作アーム(水平アーム)
45 投影光学系
46 真空チャンバ
47 円板交換装置
48 筐体
49 円板交換システム
50 真空弁体
51 第1の弁
52 第2の弁
53 空気止めチャンバ
Claims (17)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを供給するように構成された照明系と、
前記放射ビームにパターンを付与するように構成されたパターニング装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターニングされたビームを前記基板の目標部分上に投影するように構成された投影系と
を含み、
前記照明系及び前記投影系のうち少なくとも一方が、真空状態に調整された環境内にあり、かつ前記放射ビームを反射又は屈折させる集束素子を含み、前記装置がさらに、
絞り円板を前記集束素子の近傍に配置するように構成され、それによって前記放射ビームが、前記絞り円板内の開口を通過するようにした円板位置決め装置と、
前記真空状態に調整された環境外にあってさらなる調整された環境内に密閉され、複数の絞り円板からある絞り円板を選択し、前記選択された絞り円板を前記円板位置決め装置に供給するように構成された円板交換装置と、
前記円板交換装置から前記円板位置決め装置へ前記選択された絞り円板を供給するための送出機構と
を含み、
前記真空状態に調整された環境が、前記円板送出機構によって前記真空状態に調整された環境外の前記円板交換装置から前記真空状態に調整された環境内の前記円板位置決め装置へ円板を移動させるための1つ又は複数の弁体を含む、
装置。 - 使用されていないときに前記複数の絞り円板を保持するように構成され、前記円板交換装置と連動する筐体をさらに含む、請求項1に記載の装置。
- 前記円板位置決め装置が、前記集束素子のひとみ平面内に前記選択された絞り円板を配置するように構成される、請求項1に記載の装置。
- 使用の際は、前記集束素子の近傍に配置された前記選択された絞り円板の開口サイズによって、前記投影系又は前記照明系いずれかのうち前記集束素子を含む方の開口率が決まる、請求項1に記載の装置。
- 前記集束素子が、反射レンズである、請求項1に記載の装置。
- 前記放射が、約5nmから約20nmの波長を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記放射が、約193nmの波長を有する、請求項1に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
照明系を使用した放射の放射ビームを供給する段階と、
前記放射ビームをパターニングする段階と、
投影系を使用して、前記パターニングされた放射ビームを、少なくとも放射感知物質の層によって部分的に覆われた基板の目標部分上に投影する段階と、
真空状態に調整された環境内に密閉された前記照明系又は前記投影系の集束素子の近傍に絞り円板を位置決めする段階と、
前記集束素子の近傍に位置する前記絞り円板を弁体を介して前記真空状態に調整された環境から取り除く段階と、
前記真空状態に調整された環境外であってさらなる調整された環境内に密閉された円板交換装置を使用して、前記弁体を介してさらなる絞り円板を前記真空状態に調整された環境内に挿入する段階と
を含む方法。 - 前記円板交換装置が、互いに異なる開口を有する複数の絞り円板を保持するように構成された筐体を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記絞り円板が、前記集束素子のひとみ平面内に位置する、請求項8に記載の方法。
- 前記レンズの近傍に位置する前記絞り円板の開口サイズによって、前記投影系又は前記照明系いずれかのうち前記集束素子を含む方の開口率が決まる、請求項8に記載の方法。
- 前記集束素子が、反射レンズである、請求項8に記載の方法。
- 前記放射が、約5nmから約20nmの波長を有する、請求項8に記載の方法。
- 前記放射が、約193nmの波長を有する、請求項8に記載の方法。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを提供するように構成された照明系と、
前記放射ビームにパターンを付与するように構成されたパターニング装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された支持テーブルと、
真空状態に調整された環境内にあり、前記パターニングされたビームを前記基板の目標部分に投影するように構成され、前記放射ビームを反射又は屈折するための集束素子を含む投影系と、
絞り円板を前記集束素子の近傍に配置するように構成され、それによって前記放射ビームが前記絞り円板内の開口を通過するようにした円板位置決め装置と、
前記真空状態に調整された環境外にあってさらなる調整された環境内に密閉され、複数の絞り円板からある絞り円板を選択し、前記選択された絞り円板を前記円板位置決め装置に供給するように構成された円板交換装置と、
前記円板交換装置から前記円板位置決め装置へ前記選択された絞り円板を供給するための送出機構と
を含み、
前記真空状態に調整された環境が、前記円板送出機構によって前記真空状態に調整された環境外の前記円板交換装置から前記真空状態に調整された環境内の前記円板位置決め装置へ円板を移動させるための1つ又は複数の弁体を含む、
装置。 - デバイス製造方法であって、
照明系を使用して放射ビームを供給する段階と、
前記放射ビームをパターニングする段階と、
前記照明系及び前記投影系のうち少なくとも一方が、真空状態に調整された環境内に密閉され、かつ前記放射ビームを反射又は屈折するための集束素子を含み、前記パターニングされた放射ビームを、放射感知物質の層によって少なくとも部分的に覆われた基板の目標部分上に投影する段階と、
前記真空状態に調整された環境外であってさらなる調整された環境内に密閉された円板交換装置を使用して、複数の絞り円板から1つの絞り円板選択する段階と、
前記放射ビームが、前記絞り円板内の開口を通過するように、弁体を介して前記絞り円板を前記真空状態に調整された環境内に挿入して前記集束素子の近傍に位置決めする段階と
を含む方法。 - リソグラフィ装置であって、
EUV放射ビームを供給するように構成された照明系と、
前記EUV放射ビームにパターンを付与するように構成されたパターニング装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターニングされたEUV放射ビームを前記基板の目標部分上に投影するように構成された投影系と
を含み、少なくとも前記照明系及び前記投影系のうち一方が、真空状態に調整された環境内にあり、かつ前記EUV放射ビーム内に、前記EUV放射ビームを形作り及び/又は濾過するための集束素子を含み、前記装置がさらに、
前記集束素子の近傍に絞り円板を配置するように構成され、それによって前記EUV放射ビームが前記絞り円板内の開口を通過するようにした円板位置決め装置と、
前記真空状態に調整された環境外にあってさらなる調整された環境内に密閉され、複数の絞り円板からある絞り円板を選択し、前記選択された絞り円板を前記円板位置決め装置へ供給するように構成された円板交換装置と、
前記円板交換装置から前記円板位置決め装置へ前記選択された絞り円板を供給するための送出機構と
を含み、
前記真空状態に調整された環境が、前記円板送出機構によって前記真空状態に調整された環境外の前記円板交換装置から前記真空状態に調整された環境内の前記円板位置決め装置へ円板を移動させるための1つ又は複数の弁体を含む、
装置。
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