JP2000012429A - 露光装置および露光方法 - Google Patents
露光装置および露光方法Info
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- JP2000012429A JP2000012429A JP10173728A JP17372898A JP2000012429A JP 2000012429 A JP2000012429 A JP 2000012429A JP 10173728 A JP10173728 A JP 10173728A JP 17372898 A JP17372898 A JP 17372898A JP 2000012429 A JP2000012429 A JP 2000012429A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/701—Off-axis setting using an aperture
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置のサイズを増大させることなく、複
数の絞りを使用可能とする。 【解決手段】 所定の絞り２５を装着する場合には、制
御部６０がスライド部５２およびハンド５４を制御し、
ストッカ４０に格納されている複数の絞りから所望の絞
り２５を取得し、固定部材２６に挿入して固定させる。
絞り２５の選択が終了すると、光源２０から射出された
光が楕円鏡２１、反射鏡２２によって反射され、シャッ
タ２３およびインプットレンズ２４を介して絞り２５に
入射される。絞り２５は、入射光を所定のパターンに応
じて透過させ、コンデンサレンズ２７に入射する。コン
デンサレンズ２７において集光された光は、反射鏡２８
を介してレチクル２９に入射される。レチクル２９に形
成された所定のパターンに応じて透過された光は、縮小
投影レンズ３０により、ステージ３２上に載置されたウ
エハ３１の所定の領域に収束される。
数の絞りを使用可能とする。 【解決手段】 所定の絞り２５を装着する場合には、制
御部６０がスライド部５２およびハンド５４を制御し、
ストッカ４０に格納されている複数の絞りから所望の絞
り２５を取得し、固定部材２６に挿入して固定させる。
絞り２５の選択が終了すると、光源２０から射出された
光が楕円鏡２１、反射鏡２２によって反射され、シャッ
タ２３およびインプットレンズ２４を介して絞り２５に
入射される。絞り２５は、入射光を所定のパターンに応
じて透過させ、コンデンサレンズ２７に入射する。コン
デンサレンズ２７において集光された光は、反射鏡２８
を介してレチクル２９に入射される。レチクル２９に形
成された所定のパターンに応じて透過された光は、縮小
投影レンズ３０により、ステージ３２上に載置されたウ
エハ３１の所定の領域に収束される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置および露
光方法に関し、特に、光源から射出された光を絞り部材
を介してレチクルに照射し、レチクルに形成された透過
パターンをウエハ上のレジストに投影露光してレジスト
パターンを形成する露光装置に関する。
光方法に関し、特に、光源から射出された光を絞り部材
を介してレチクルに照射し、レチクルに形成された透過
パターンをウエハ上のレジストに投影露光してレジスト
パターンを形成する露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ（Large Scale Integrated Circu
it）などに代表される半導体装置の製造工程のうち、所
望の回路パターンを半導体基板（以下、ウエハと適宜呼
ぶ）に形成するリソグラフィ工程では、レチクルに形成
されているパターンを露光装置によって半導体基板上の
レジストに転写する方法が一般的である。
it）などに代表される半導体装置の製造工程のうち、所
望の回路パターンを半導体基板（以下、ウエハと適宜呼
ぶ）に形成するリソグラフィ工程では、レチクルに形成
されているパターンを露光装置によって半導体基板上の
レジストに転写する方法が一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年では、半
導体装置の微細化が著しく進んできたため、露光装置を
その解像度限界付近で使用せざるを得なくなってきた。
導体装置の微細化が著しく進んできたため、露光装置を
その解像度限界付近で使用せざるを得なくなってきた。
【０００４】そのような使用状況においては、レチクル
に形成されているパターンやウエハの形状に応じて、光
源からの光の強度を調節することが望ましい。そこで、
従来においては、光源から射出された光に、所定の形状
を有する絞りを挿入し、レチクルに形成されているパタ
ーンやウエハの形状に応じて、手作業で絞りを適宜交換
するように構成されていた。
に形成されているパターンやウエハの形状に応じて、光
源からの光の強度を調節することが望ましい。そこで、
従来においては、光源から射出された光に、所定の形状
を有する絞りを挿入し、レチクルに形成されているパタ
ーンやウエハの形状に応じて、手作業で絞りを適宜交換
するように構成されていた。
【０００５】しかしながら、このような構成では、絞り
を交換する作業が煩雑になるという問題点があった。そ
こで、図８に示すように、複数の絞り２ｂ〜２ｇをレボ
ルバ２に搭載し、必要に応じてこのレボルバ２を回転さ
せ、所望の絞りを選択する方法が提案されている。
を交換する作業が煩雑になるという問題点があった。そ
こで、図８に示すように、複数の絞り２ｂ〜２ｇをレボ
ルバ２に搭載し、必要に応じてこのレボルバ２を回転さ
せ、所望の絞りを選択する方法が提案されている。
【０００６】即ち、この例では、円板状のレボルバ２の
同心円上に絞り２ｂ〜２ｇが搭載されており、中心孔２
ａを中心にして適宜回転され、絞り２ｂ〜２ｇの何れか
が光源１からの光路中に挿入される。
同心円上に絞り２ｂ〜２ｇが搭載されており、中心孔２
ａを中心にして適宜回転され、絞り２ｂ〜２ｇの何れか
が光源１からの光路中に挿入される。
【０００７】しかしながら、このような方法では、レボ
ルバ２の大きさによって搭載可能な絞りの数が限定され
るという問題点があった。そこで、多数の絞りを搭載す
るためにレボルバ２のサイズを大きくすると、それに応
じて装置全体のサイズが増大するという問題点があっ
た。
ルバ２の大きさによって搭載可能な絞りの数が限定され
るという問題点があった。そこで、多数の絞りを搭載す
るためにレボルバ２のサイズを大きくすると、それに応
じて装置全体のサイズが増大するという問題点があっ
た。
【０００８】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、装置のサイズを増大することなく、複数の絞
りを搭載可能な露光装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、装置のサイズを増大することなく、複
数の絞りを使用可能な露光方法を提供することを目的と
する。
のであり、装置のサイズを増大することなく、複数の絞
りを搭載可能な露光装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、装置のサイズを増大することなく、複
数の絞りを使用可能な露光方法を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、光源から射出された光を絞り部材を介し
てレチクルに照射し、前記レチクルに形成されたパター
ンをウエハ上のレジストに投影露光してレジストパター
ンを形成する露光装置において、前記光源から射出され
た光を部分的に遮光または減光する複数の前記絞り部材
を格納する格納手段と、前記格納手段に格納されている
前記複数の絞り部材の中から、所望の絞り部材を選択す
る選択手段と、前記選択手段によって選択された絞り部
材を、前記光源と前記レチクルの間の所定の位置に挿入
する挿入手段と、不要となった絞り部材を前記格納手段
に返還する返還手段と、を有することを特徴とする露光
装置が提供される。
決するために、光源から射出された光を絞り部材を介し
てレチクルに照射し、前記レチクルに形成されたパター
ンをウエハ上のレジストに投影露光してレジストパター
ンを形成する露光装置において、前記光源から射出され
た光を部分的に遮光または減光する複数の前記絞り部材
を格納する格納手段と、前記格納手段に格納されている
前記複数の絞り部材の中から、所望の絞り部材を選択す
る選択手段と、前記選択手段によって選択された絞り部
材を、前記光源と前記レチクルの間の所定の位置に挿入
する挿入手段と、不要となった絞り部材を前記格納手段
に返還する返還手段と、を有することを特徴とする露光
装置が提供される。
【００１０】ここで、格納手段は、光源から射出された
光を部分的に遮光または減光する複数の絞り部材を格納
する。選択手段は、格納手段に格納されている複数の絞
り部材の中から、所望の絞り部材を選択する。挿入手段
は、選択手段によって選択された絞り部材を、光源とレ
チクルの間の所定の位置に挿入する。返還手段は、不要
となった絞り部材を格納手段に返還する。
光を部分的に遮光または減光する複数の絞り部材を格納
する。選択手段は、格納手段に格納されている複数の絞
り部材の中から、所望の絞り部材を選択する。挿入手段
は、選択手段によって選択された絞り部材を、光源とレ
チクルの間の所定の位置に挿入する。返還手段は、不要
となった絞り部材を格納手段に返還する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は、本発明の実施の形態の構
成例である。この図において、光源２０は、例えば、高
圧水銀ランプなどによって構成されている。
を参照して説明する。図１は、本発明の実施の形態の構
成例である。この図において、光源２０は、例えば、高
圧水銀ランプなどによって構成されている。
【００１２】楕円鏡２１は、光源２０からの光を集光し
て、反射鏡２２に入射する。反射鏡２２は、楕円鏡２１
からの光を略直角方向に折り曲げて、シャッタ２３に入
射する。
て、反射鏡２２に入射する。反射鏡２２は、楕円鏡２１
からの光を略直角方向に折り曲げて、シャッタ２３に入
射する。
【００１３】シャッタ２３は、制御部６０の制御に応じ
て、反射鏡２２からの光の通過光量を制限する。インプ
ットレンズ２４は、シャッタ２３を透過した光を平行光
線に変換して出力する。
て、反射鏡２２からの光の通過光量を制限する。インプ
ットレンズ２４は、シャッタ２３を透過した光を平行光
線に変換して出力する。
【００１４】絞り２５は、インプットレンズ２４から出
射された光の一部を透過する。図２は、絞り２５の一例
を示している。この例では、絞り２５の中央部に円形の
透過部２５ａが形成されており、入射光の一部がこの部
分を透過して、コンデンサレンズ２７に射出される。
射された光の一部を透過する。図２は、絞り２５の一例
を示している。この例では、絞り２５の中央部に円形の
透過部２５ａが形成されており、入射光の一部がこの部
分を透過して、コンデンサレンズ２７に射出される。
【００１５】図３は、絞り２５の他の一例を示してい
る。この例では、絞り２５の中央部は、遮光部２５ｂと
されており、その周辺部に輪帯状の透過部２５ｃが形成
されている。入射光の一部は、輪帯状の透過部２５ｃを
透過して、コンデンサレンズ２７に射出される。
る。この例では、絞り２５の中央部は、遮光部２５ｂと
されており、その周辺部に輪帯状の透過部２５ｃが形成
されている。入射光の一部は、輪帯状の透過部２５ｃを
透過して、コンデンサレンズ２７に射出される。
【００１６】保持手段としての固定部材２６は、絞り２
５を光路中の所定の位置に固定する。図４は、固定部材
２６の詳細な構成例を示す図である。図４（Ａ）に示す
ように、固定部材２６は、半リング状の部材の内側に溝
が形成されており、この溝に沿って絞り２５が挿入され
る。図４（Ｂ）は、絞り２５が完全に挿入された状態を
示している。このとき、絞り２５の中心と光軸とは一致
するように構成されている。
５を光路中の所定の位置に固定する。図４は、固定部材
２６の詳細な構成例を示す図である。図４（Ａ）に示す
ように、固定部材２６は、半リング状の部材の内側に溝
が形成されており、この溝に沿って絞り２５が挿入され
る。図４（Ｂ）は、絞り２５が完全に挿入された状態を
示している。このとき、絞り２５の中心と光軸とは一致
するように構成されている。
【００１７】コンデンサレンズ２７は、絞り２５を透過
した光を集光して、反射鏡２８に出射する。反射鏡２８
は、コンデンサレンズ２７から出射された光を略直角方
向に折り曲げてレチクル２９に入射する。
した光を集光して、反射鏡２８に出射する。反射鏡２８
は、コンデンサレンズ２７から出射された光を略直角方
向に折り曲げてレチクル２９に入射する。
【００１８】レチクル２９は、投影露光しようとする回
路パターンに対応した透過／遮断パターンが形成されて
おり、反射鏡２８から入射された光を、このパターンに
応じて透過させ、縮小投影レンズ３０に入射する。
路パターンに対応した透過／遮断パターンが形成されて
おり、反射鏡２８から入射された光を、このパターンに
応じて透過させ、縮小投影レンズ３０に入射する。
【００１９】縮小投影レンズ３０は、レチクル２９を透
過した光を所定の倍率で縮小して、ウエハ３１の所定の
領域に投影する。ウエハ３１は、例えば、シリコンなど
の半導体基板である。
過した光を所定の倍率で縮小して、ウエハ３１の所定の
領域に投影する。ウエハ３１は、例えば、シリコンなど
の半導体基板である。
【００２０】ステージ３２は、制御部６０の制御に応じ
て、ウエハ３１と縮小投影レンズ３０の相対的な位置関
係を補正する。格納手段としてのストッカ４０は、複数
の絞り２５を格納している。なお、このストッカ４０に
格納されている絞り２５には、それぞれＩＤ（Identifi
cation）が付与されており、制御部６０はこのＩＤによ
って絞り２５を管理する。
て、ウエハ３１と縮小投影レンズ３０の相対的な位置関
係を補正する。格納手段としてのストッカ４０は、複数
の絞り２５を格納している。なお、このストッカ４０に
格納されている絞り２５には、それぞれＩＤ（Identifi
cation）が付与されており、制御部６０はこのＩＤによ
って絞り２５を管理する。
【００２１】図５は、ストッカ４０の詳細な構成を示す
図である。なお、この図は、ストッカ４０を絞り２５が
挿抜される方向から眺めた図である。ストッカ４０の内
部には、凸部４０ａ，４０ｂが形成されており、絞り２
５はこれらの凸部４０ａ，４０ｂに沿って、ストッカ４
０の奥まで挿入される。
図である。なお、この図は、ストッカ４０を絞り２５が
挿抜される方向から眺めた図である。ストッカ４０の内
部には、凸部４０ａ，４０ｂが形成されており、絞り２
５はこれらの凸部４０ａ，４０ｂに沿って、ストッカ４
０の奥まで挿入される。
【００２２】これらの凸部４０ａ，４０ｂは、後述する
ハンド５４によって絞り２５を取得する動作がスムーズ
に行えるように、絞り２５を所定の間隔をあけて配置す
る役割も有している。
ハンド５４によって絞り２５を取得する動作がスムーズ
に行えるように、絞り２５を所定の間隔をあけて配置す
る役割も有している。
【００２３】また、絞り２５がそれぞれ平行になるよう
に近接した状態で格納するようにしてあるので、格納ス
ペースを狭くすることができる。図１に戻って、支柱５
１は、ストッカ４０の絞り２５が並べられている方向と
平行になるように設置されており、この支柱５１を軸と
してスライド部５２が移動または回転する。
に近接した状態で格納するようにしてあるので、格納ス
ペースを狭くすることができる。図１に戻って、支柱５
１は、ストッカ４０の絞り２５が並べられている方向と
平行になるように設置されており、この支柱５１を軸と
してスライド部５２が移動または回転する。
【００２４】スライド部５２は、支柱５１に沿って図の
左右方向に移動するとともに、支柱５１を軸として任意
の方向に回転することが可能とされている。アーム５３
は、スライド部５２の側面に固定されており、ハンド５
４とスライド部５２を連結する。また、その内部には信
号線が内蔵されており、ハンド５４に制御部６０からの
制御信号を供給する。
左右方向に移動するとともに、支柱５１を軸として任意
の方向に回転することが可能とされている。アーム５３
は、スライド部５２の側面に固定されており、ハンド５
４とスライド部５２を連結する。また、その内部には信
号線が内蔵されており、ハンド５４に制御部６０からの
制御信号を供給する。
【００２５】なお、以下では、支柱５１、スライド部５
２、アーム５３、および、ハンド５４をまとめて搬送部
（選択手段、挿入手段、および、返還手段）５０と呼
ぶ。選択手段としての制御部６０は、所定のプログラム
に従って、光源２０、シャッタ２３、ステージ３２、ス
ライド部５２、および、ハンド５４を制御する。
２、アーム５３、および、ハンド５４をまとめて搬送部
（選択手段、挿入手段、および、返還手段）５０と呼
ぶ。選択手段としての制御部６０は、所定のプログラム
に従って、光源２０、シャッタ２３、ステージ３２、ス
ライド部５２、および、ハンド５４を制御する。
【００２６】次に、図６を参照して、搬送部５０の詳細
な構成例について説明する。スライド部５２は、支柱５
１方向へ平行移動するための平行移動用モータ（図示せ
ず）と、支柱５１を中心軸として回転するための回転用
モータ（図示せず）とを内蔵しており、制御部６０から
の制御信号に応じてこれらが駆動されることにより、所
望の方向へ移動または回転する。
な構成例について説明する。スライド部５２は、支柱５
１方向へ平行移動するための平行移動用モータ（図示せ
ず）と、支柱５１を中心軸として回転するための回転用
モータ（図示せず）とを内蔵しており、制御部６０から
の制御信号に応じてこれらが駆動されることにより、所
望の方向へ移動または回転する。
【００２７】アーム５３の先端には、ハンド５４が具備
されている。このハンド５４は、右ハンド５４ａ、左ハ
ンド５４ｂ、および、連接部５４ｃによって構成されて
いる。
されている。このハンド５４は、右ハンド５４ａ、左ハ
ンド５４ｂ、および、連接部５４ｃによって構成されて
いる。
【００２８】右ハンド５４ａおよび左ハンド５４ｂの先
端部の内側には、例えば、ゴム板などの摩擦係数が高い
部材が接着されており、絞り２５が滑って脱落すること
を防ぐ。
端部の内側には、例えば、ゴム板などの摩擦係数が高い
部材が接着されており、絞り２５が滑って脱落すること
を防ぐ。
【００２９】連接部５４ｃには、例えば、電磁石などが
内蔵されており、制御部６０からの制御信号に応じて、
右ハンド５４ａおよび左ハンド５４ｂを電磁力によって
開閉し、絞り２５を挟持または解放する。
内蔵されており、制御部６０からの制御信号に応じて、
右ハンド５４ａおよび左ハンド５４ｂを電磁力によって
開閉し、絞り２５を挟持または解放する。
【００３０】なお、電磁石ではなく、例えば、高圧の空
気によって右ハンド５４ａおよび左ハンド５４ｂを駆動
するようにしてもよい。また、挟持するかわりに、例え
ば、空気圧によって絞り２５を吸着するようにしてもよ
い。
気によって右ハンド５４ａおよび左ハンド５４ｂを駆動
するようにしてもよい。また、挟持するかわりに、例え
ば、空気圧によって絞り２５を吸着するようにしてもよ
い。
【００３１】次に、以上の実施の形態の動作について説
明する。図７は、本発明の実施の形態において実行され
る処理の一例を説明するフローチャートである。
明する。図７は、本発明の実施の形態において実行され
る処理の一例を説明するフローチャートである。
【００３２】いま、レチクル２９が装着され、ステージ
３２上にウエハ３１が搭載されると、以下の処理が実行
される。 ［Ｓ１］制御部６０は、使用する絞り２５のＩＤの入力
を受ける。
３２上にウエハ３１が搭載されると、以下の処理が実行
される。 ［Ｓ１］制御部６０は、使用する絞り２５のＩＤの入力
を受ける。
【００３３】即ち、制御部６０は、レチクル２９のパタ
ーンやウエハ３１の形状に応じた絞り２５のＩＤを図示
せぬ入力装置から入力する。 ［Ｓ２］制御部６０は、搬送部５０を制御し、現在装着
されている絞り２５をストッカ４０の格納されていた場
所に返還する。 ［Ｓ３］制御部６０は、ステップＳ１において入力され
たＩＤに対応する絞り２５をストッカ４０から選択して
搬送し、固定部材２６に固定する。 ［Ｓ４］制御部６０は、縮小投影レンズ３０から出射さ
れるパターンが、ウエハ３１の所定の領域に投影される
ように、ステージ３２を所定の位置まで移動させる。 ［Ｓ５］制御部６０は、ステージ３２の移動が終了した
か否かを判定し、終了した場合にはステップＳ６に進
み、それ以外の場合にはステップＳ５に戻る。 ［Ｓ６］制御部６０は、シャッタ２３を制御して、光源
２０からの光をインプットレンズ２４に入射させる。そ
の結果、露光が開始される。 ［Ｓ７］制御部６０は、露光が開始されてから所定の時
間が経過したか否かを判定する。その結果、所定の時間
が経過した場合にはステップＳ８に進み、それ以外の場
合にはステップＳ７に戻る。
ーンやウエハ３１の形状に応じた絞り２５のＩＤを図示
せぬ入力装置から入力する。 ［Ｓ２］制御部６０は、搬送部５０を制御し、現在装着
されている絞り２５をストッカ４０の格納されていた場
所に返還する。 ［Ｓ３］制御部６０は、ステップＳ１において入力され
たＩＤに対応する絞り２５をストッカ４０から選択して
搬送し、固定部材２６に固定する。 ［Ｓ４］制御部６０は、縮小投影レンズ３０から出射さ
れるパターンが、ウエハ３１の所定の領域に投影される
ように、ステージ３２を所定の位置まで移動させる。 ［Ｓ５］制御部６０は、ステージ３２の移動が終了した
か否かを判定し、終了した場合にはステップＳ６に進
み、それ以外の場合にはステップＳ５に戻る。 ［Ｓ６］制御部６０は、シャッタ２３を制御して、光源
２０からの光をインプットレンズ２４に入射させる。そ
の結果、露光が開始される。 ［Ｓ７］制御部６０は、露光が開始されてから所定の時
間が経過したか否かを判定する。その結果、所定の時間
が経過した場合にはステップＳ８に進み、それ以外の場
合にはステップＳ７に戻る。
【００３４】なお、ウエハ３１に照射される光の積算エ
ネルギによって、露光の終了を判定するようにしてもよ
い。 ［Ｓ８］制御部６０は、シャッタ２３を制御して露光を
終了する。
ネルギによって、露光の終了を判定するようにしてもよ
い。 ［Ｓ８］制御部６０は、シャッタ２３を制御して露光を
終了する。
【００３５】以上に述べたように、本実施の形態によれ
ば、ストッカ４０を設けて複数の絞り２５を格納してお
き、搬送部５０によって所望の絞りを選択して装着する
ようにしたので、装置のサイズを大型化することなく、
多数の絞りを使用することが可能となる。
ば、ストッカ４０を設けて複数の絞り２５を格納してお
き、搬送部５０によって所望の絞りを選択して装着する
ようにしたので、装置のサイズを大型化することなく、
多数の絞りを使用することが可能となる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の露光装置で
は、光源から射出された光を部分的に遮光または減光す
る複数の絞り部材を格納手段に格納し、格納手段に格納
されている複数の絞り部材の中から、所望の絞り部材を
選択手段によって選択し、選択手段によって選択された
絞り部材を、光源とレチクルの間の所定の位置に挿入手
段によって挿入し、挿入手段によって挿入された絞り部
材を保持手段によって保持し、不要となった絞り部材を
格納手段に返還手段が返還するようにしたので、装置の
サイズを拡大することなく、多数の絞りを使用可能とな
る。
は、光源から射出された光を部分的に遮光または減光す
る複数の絞り部材を格納手段に格納し、格納手段に格納
されている複数の絞り部材の中から、所望の絞り部材を
選択手段によって選択し、選択手段によって選択された
絞り部材を、光源とレチクルの間の所定の位置に挿入手
段によって挿入し、挿入手段によって挿入された絞り部
材を保持手段によって保持し、不要となった絞り部材を
格納手段に返還手段が返還するようにしたので、装置の
サイズを拡大することなく、多数の絞りを使用可能とな
る。
【００３７】また、本発明の露光方法では、光源から射
出された光を部分的に遮光または減光する複数の絞り部
材を格納し、格納されている複数の絞り部材の中から、
所望の絞り部材を選択し、選択された絞り部材を、光源
とレチクルの間の所定の位置に挿入し、挿入された絞り
部材を保持し、不要となった絞り部材を返還するように
したので、装置のサイズを拡大することなく、多数の絞
りを使用可能となる。
出された光を部分的に遮光または減光する複数の絞り部
材を格納し、格納されている複数の絞り部材の中から、
所望の絞り部材を選択し、選択された絞り部材を、光源
とレチクルの間の所定の位置に挿入し、挿入された絞り
部材を保持し、不要となった絞り部材を返還するように
したので、装置のサイズを拡大することなく、多数の絞
りを使用可能となる。
【図１】本発明の実施の形態の構成例である。
【図２】図１に示す絞りの構成例を示す図である。
【図３】図１に示す絞りの他の構成例を示す図である。
【図４】図１に示す固定部材の詳細な構成例を示す図で
ある。（Ａ）は図１に示す固定部材の斜視図であり、
（Ｂ）は図１に示す固定部材の断面図である。
ある。（Ａ）は図１に示す固定部材の斜視図であり、
（Ｂ）は図１に示す固定部材の断面図である。
【図５】図１に示すストッカの詳細な構成例を示す図で
ある。
ある。
【図６】図１に示す搬送部の詳細な構成例を示す図であ
る。
る。
【図７】図１に示す実施の形態において実行される処理
の一例を説明するフローチャートである。
の一例を説明するフローチャートである。
【図８】従来における、絞りを保持するレボルバの一例
を示す図である。
を示す図である。
２０……光源，２１……楕円鏡，２２……反射鏡，２３
……シャッタ，２４……インプットレンズ，２５……絞
り，２６……固定部材，２７……コンデンサレンズ，２
８……反射鏡，２９……レチクル，３０……縮小投影レ
ンズ，３１……ウエハ，３２……ステージ，４０……ス
トッカ，５１……支柱，５２……スライド部，５３……
アーム，５４……ハンド，６０……制御部
……シャッタ，２４……インプットレンズ，２５……絞
り，２６……固定部材，２７……コンデンサレンズ，２
８……反射鏡，２９……レチクル，３０……縮小投影レ
ンズ，３１……ウエハ，３２……ステージ，４０……ス
トッカ，５１……支柱，５２……スライド部，５３……
アーム，５４……ハンド，６０……制御部
Claims (5)
- 【請求項１】 光源から射出された光を絞り部材を介し
てレチクルに照射し、前記レチクルに形成されたパター
ンをウエハ上のレジストに投影露光してレジストパター
ンを形成する露光装置において、 前記光源から射出された光を部分的に遮光または減光す
る複数の前記絞り部材を格納する格納手段と、 前記格納手段に格納されている前記複数の絞り部材の中
から、所望の絞り部材を選択する選択手段と、 前記選択手段によって選択された絞り部材を、前記光源
と前記レチクルの間の所定の位置に挿入する挿入手段
と、 前記挿入手段によって挿入された前記絞り部材を保持す
る保持手段と、 不要となった絞り部材を前記格納手段に返還する返還手
段と、 を有することを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記格納手段は、前記絞り部材のそれぞ
れが平行になるように近接した状態で格納することを特
徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記保持手段は、前記絞り部材を挿抜可
能な状態で保持することを特徴とする請求項１記載の露
光装置。 - 【請求項４】 前記選択手段は、前記レチクルに形成さ
れたパターンまたはウエハの形状に応じて絞り部材を選
択することを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項５】 光源から射出された光を絞り部材を介し
てレチクルに照射し、前記レチクルに形成されたパター
ンをウエハ上のレジストに投影露光してレジストパター
ンを形成する露光方法において、 前記照明系から射出された光を部分的に遮光または減光
する複数の前記絞り部材を格納し、 格納されている前記複数の絞り部材の中から、所望の絞
り部材を選択し、 選択された絞り部材を、前記光源と前記レチクルとの間
の所定の位置に挿入し、 不要となった絞り部材を返還する、 ことを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10173728A JP2000012429A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 露光装置および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10173728A JP2000012429A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 露光装置および露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000012429A true JP2000012429A (ja) | 2000-01-14 |
Family
ID=15966050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10173728A Pending JP2000012429A (ja) | 1998-06-22 | 1998-06-22 | 露光装置および露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000012429A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006148138A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2006148137A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| EP1678559A1 (en) * | 2003-10-29 | 2006-07-12 | Carl Zeiss SMT AG | Optical assembly for photolithography |
| EP1678558A1 (en) * | 2003-10-29 | 2006-07-12 | Carl Zeiss SMT AG | Diaphragm changing device |
-
1998
- 1998-06-22 JP JP10173728A patent/JP2000012429A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1678559A1 (en) * | 2003-10-29 | 2006-07-12 | Carl Zeiss SMT AG | Optical assembly for photolithography |
| EP1678558A1 (en) * | 2003-10-29 | 2006-07-12 | Carl Zeiss SMT AG | Diaphragm changing device |
| JP2012099859A (ja) * | 2003-10-29 | 2012-05-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 光学アセンブリ |
| US9933707B2 (en) | 2003-10-29 | 2018-04-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical apparatus for use in photolithography |
| US10139733B2 (en) | 2003-10-29 | 2018-11-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Diaphragm changing device |
| JP2006148138A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2006148137A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP4532395B2 (ja) * | 2004-11-24 | 2010-08-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
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