JP2000173895A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP2000173895A JP2000173895A JP10347159A JP34715998A JP2000173895A JP 2000173895 A JP2000173895 A JP 2000173895A JP 10347159 A JP10347159 A JP 10347159A JP 34715998 A JP34715998 A JP 34715998A JP 2000173895 A JP2000173895 A JP 2000173895A
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- Japan
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- exposure apparatus
- stage
- optical path
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多数枚の絞りを小スペース内に収容し逐次選
択して取り出し自動的に光路上にセットすることができ
る半導体製造用の露光装置を提供する。 【解決手段】 光路2上に絞り18を備えた光学レンズ
系を介してマスク9に形成されたパターンをウェーハ1
1上に投影露光する露光装置において、種類の異なる複
数の絞り19を収容したストッカー21と、前記絞りを
搭載するための光路2上に設けた絞りステージ17と、
前記ストッカー21から絞り19を取り出して前記絞り
ステージ17上にセットする絞り交換手段20とを備え
た。
択して取り出し自動的に光路上にセットすることができ
る半導体製造用の露光装置を提供する。 【解決手段】 光路2上に絞り18を備えた光学レンズ
系を介してマスク9に形成されたパターンをウェーハ1
1上に投影露光する露光装置において、種類の異なる複
数の絞り19を収容したストッカー21と、前記絞りを
搭載するための光路2上に設けた絞りステージ17と、
前記ストッカー21から絞り19を取り出して前記絞り
ステージ17上にセットする絞り交換手段20とを備え
た。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置製造用の
露光装置に関する。より詳しくは、光学系の絞り交換機
構に関するものである。
露光装置に関する。より詳しくは、光学系の絞り交換機
構に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハ上にICやLSI等の半
導体素子を形成するために、投影露光装置が用いられ、
レチクル(マスク)に形成されたパターンを光学系を介
してウェーハ上に投影露光する。
導体素子を形成するために、投影露光装置が用いられ、
レチクル(マスク)に形成されたパターンを光学系を介
してウェーハ上に投影露光する。
【0003】図4は、従来の半導体露光装置の光学系の
構成図である。水銀ランプ等からなる光源1からの光路
2に沿って順番に、露光タイミングや露光時間を制御す
るシャッター3と、絞りの径に応じて光を集中させたり
広げたりするインプットレンズ4と、照射する光を均一
化するフライアイレンズ5と、投影レンズに対する光の
入射角度に対応した開口数を変化させる絞り部6と、フ
ライアイレンズにより発生した収差を補正するための第
1リレーレンズ7および第2リレーレンズ8と、露光転
写すべきパターンが形成されたレチクル9と、レチクル
のパターンを縮小してウェーハ11上に投影する縮小投
影レンズ10が設けられる。
構成図である。水銀ランプ等からなる光源1からの光路
2に沿って順番に、露光タイミングや露光時間を制御す
るシャッター3と、絞りの径に応じて光を集中させたり
広げたりするインプットレンズ4と、照射する光を均一
化するフライアイレンズ5と、投影レンズに対する光の
入射角度に対応した開口数を変化させる絞り部6と、フ
ライアイレンズにより発生した収差を補正するための第
1リレーレンズ7および第2リレーレンズ8と、露光転
写すべきパターンが形成されたレチクル9と、レチクル
のパターンを縮小してウェーハ11上に投影する縮小投
影レンズ10が設けられる。
【0004】このような従来の露光装置において、絞り
部6は、複数の開口数の異なる絞りを装着した円盤状の
レボルバーを光路2上に切替え可能に設けた構成であ
る。露光条件に合わせてレボルバーをタレット式に回転
して必要とする開口数の絞りを選択する。選択された絞
りを光路2上に配置し露光を行う。
部6は、複数の開口数の異なる絞りを装着した円盤状の
レボルバーを光路2上に切替え可能に設けた構成であ
る。露光条件に合わせてレボルバーをタレット式に回転
して必要とする開口数の絞りを選択する。選択された絞
りを光路2上に配置し露光を行う。
【0005】一方、近年の回路パターンの微細化と高集
積化に伴い、回路条件に応じた露光条件が複雑化してき
ている。このため、素子形成時の露光プロセスにおい
て、露光条件に対応させて絞りを変更する必要があり、
開口数(NA)やコヒーレンス度(σ)等が異なる複数
の絞りを逐次交換して用いなければならない。
積化に伴い、回路条件に応じた露光条件が複雑化してき
ている。このため、素子形成時の露光プロセスにおい
て、露光条件に対応させて絞りを変更する必要があり、
開口数(NA)やコヒーレンス度(σ)等が異なる複数
の絞りを逐次交換して用いなければならない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
露光装置においては、レボルバーにセットされた数枚の
絞りしか選択できず、多種類の絞りを用いるためには、
露光条件が変るごとにレボルバーに絞りをセットし直さ
なければならない。
露光装置においては、レボルバーにセットされた数枚の
絞りしか選択できず、多種類の絞りを用いるためには、
露光条件が変るごとにレボルバーに絞りをセットし直さ
なければならない。
【0007】これに対処して、レボルバーにセットする
絞りの枚数を増やせば、レボルバーの外径が大きくな
り、光路部分が拡大されて装置が大型化する。
絞りの枚数を増やせば、レボルバーの外径が大きくな
り、光路部分が拡大されて装置が大型化する。
【0008】本発明は上記従来技術を考慮したものであ
って、多数枚の絞りを小スペース内に収容し逐次選択し
て取り出し自動的に光路上にセットすることができる半
導体製造用の露光装置の提供を目的とする。
って、多数枚の絞りを小スペース内に収容し逐次選択し
て取り出し自動的に光路上にセットすることができる半
導体製造用の露光装置の提供を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明では光路上に絞りを備えた光学レンズ系を介
してマスクに形成されたパターンをウェーハ上に投影露
光する露光装置において、種類の異なる複数の絞りを収
容したストッカーと、前記絞りを搭載するための光路上
に設けた絞りステージと、前記ストッカーから絞りを取
り出して前記絞りステージ上にセットする絞り交換手段
とを備えたことを特徴とする露光装置を提供する。
め、本発明では光路上に絞りを備えた光学レンズ系を介
してマスクに形成されたパターンをウェーハ上に投影露
光する露光装置において、種類の異なる複数の絞りを収
容したストッカーと、前記絞りを搭載するための光路上
に設けた絞りステージと、前記ストッカーから絞りを取
り出して前記絞りステージ上にセットする絞り交換手段
とを備えたことを特徴とする露光装置を提供する。
【0010】この構成によれば、光路に隣接して複数の
絞りを収容したストッカーが設けられ、絞り交換手段に
よりこのストッカーから絞りを取り出して光路上の絞り
ステージ上にセットするため、光路部分を拡大して装置
を大型化することなくコンパクトな構成で多数種類の絞
りを交換してセットすることができる。
絞りを収容したストッカーが設けられ、絞り交換手段に
よりこのストッカーから絞りを取り出して光路上の絞り
ステージ上にセットするため、光路部分を拡大して装置
を大型化することなくコンパクトな構成で多数種類の絞
りを交換してセットすることができる。
【0011】好ましい構成例では、前記ストッカーは、
複数の絞りを上下に間隔を隔てて重ねて収容することを
特徴としている。
複数の絞りを上下に間隔を隔てて重ねて収容することを
特徴としている。
【0012】この構成によれば、複数の絞りが出し入れ
に必要な間隔を隔てて上下方向に重ねて収容されるた
め、小スペース内に多数の絞りを収容することができ
る。
に必要な間隔を隔てて上下方向に重ねて収容されるた
め、小スペース内に多数の絞りを収容することができ
る。
【0013】さらに好ましい構成例では、前記絞りはそ
の周縁部に位置合せ用の凹部を有し、この凹部が嵌合す
るアライメントバーを前記絞りステージ側に設けたこと
を特徴としている。
の周縁部に位置合せ用の凹部を有し、この凹部が嵌合す
るアライメントバーを前記絞りステージ側に設けたこと
を特徴としている。
【0014】この構成によれば、絞りステージ上にセッ
トされた絞りは、その周縁部の凹部に絞りステージ側の
アライメントバーが嵌合して位置決めされるため、所定
の位置に確実に固定保持される。
トされた絞りは、その周縁部の凹部に絞りステージ側の
アライメントバーが嵌合して位置決めされるため、所定
の位置に確実に固定保持される。
【0015】さらに好ましい構成例では、前記絞り交換
手段は、進退移動可能で且つ回転可能なアームからな
り、このアーム先端に絞り把持手段を備えたことを特徴
としている。
手段は、進退移動可能で且つ回転可能なアームからな
り、このアーム先端に絞り把持手段を備えたことを特徴
としている。
【0016】この構成によれば、ストッカー内に収容さ
れた絞りは、例えば伸縮してストッカー内に進入するア
ームにより取り出され、取り出し後アームが光路の絞り
ステージ方向に回転して取り出した絞りを絞りステージ
上に載置し、絞り交換が自動的に行われる。
れた絞りは、例えば伸縮してストッカー内に進入するア
ームにより取り出され、取り出し後アームが光路の絞り
ステージ方向に回転して取り出した絞りを絞りステージ
上に載置し、絞り交換が自動的に行われる。
【0017】さらに好ましい構成例では、前記絞り把持
手段は、真空チャックからなることを特徴としている。
手段は、真空チャックからなることを特徴としている。
【0018】この構成によれば、アーム先端に設けた真
空チャックにより、絞りが確実に吸着され保持される。
空チャックにより、絞りが確実に吸着され保持される。
【0019】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の
形態に係る露光装置の構成図である。
て、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の
形態に係る露光装置の構成図である。
【0020】この実施形態に係る露光装置は、光路上の
絞り部の構成が前述の図4の露光装置と異なるものであ
り、その他の部分は実質上図4の構成と同様である。す
なわち、水銀ランプ等からなる光源1からの光路2に沿
って、露光タイミングや露光時間を制御するシャッター
3と、絞りの径に応じて光を集中させたり広げたりする
インプットレンズ4と、照射する光を均一化するフライ
アイレンズ5と、投影レンズに対する光の入射角度に対
応した開口数を変化させる絞り部16と、フライアイレ
ンズにより発生した収差を補正するための第1リレーレ
ンズ7および第2リレーレンズ8と、露光転写すべきパ
ターン(図示しない)が形成されたレチクル9と、レチ
クル9のパターンを縮小してウェーハ11上に投影する
縮小投影レンズ10が順番に設けられる。
絞り部の構成が前述の図4の露光装置と異なるものであ
り、その他の部分は実質上図4の構成と同様である。す
なわち、水銀ランプ等からなる光源1からの光路2に沿
って、露光タイミングや露光時間を制御するシャッター
3と、絞りの径に応じて光を集中させたり広げたりする
インプットレンズ4と、照射する光を均一化するフライ
アイレンズ5と、投影レンズに対する光の入射角度に対
応した開口数を変化させる絞り部16と、フライアイレ
ンズにより発生した収差を補正するための第1リレーレ
ンズ7および第2リレーレンズ8と、露光転写すべきパ
ターン(図示しない)が形成されたレチクル9と、レチ
クル9のパターンを縮小してウェーハ11上に投影する
縮小投影レンズ10が順番に設けられる。
【0021】この露光装置の絞り部16においては、絞
り18が光路2上に設けた絞りステージ17上に搭載さ
れる。この絞りステージ17に隣接して、複数枚の種類
の異なる絞り19を収容したストッカー21およびこの
ストッカー21から絞りを出し入れして光路上の絞りス
テージ17に受け渡しするための絞り交換ロボット20
が設置される。
り18が光路2上に設けた絞りステージ17上に搭載さ
れる。この絞りステージ17に隣接して、複数枚の種類
の異なる絞り19を収容したストッカー21およびこの
ストッカー21から絞りを出し入れして光路上の絞りス
テージ17に受け渡しするための絞り交換ロボット20
が設置される。
【0022】図2は、上記絞り部16の構成を示す斜視
図である。ストッカー21内に、上下に複数段に出し入
れ操作のための間隔を隔てて、仕切板30上あるいは仕
切溝(図示しない)にスライド係入させて絞り19が収
容される。各絞り19は、開口数やコヒーレンス度ある
いは開口パターン形状等が異なり、多種類の絞り19が
ストッカー21内に上下方向に重ねて収容される。この
ように上下方向に重ねて収容することにより、狭いスペ
ース内に多数の絞り19を収容することができる。
図である。ストッカー21内に、上下に複数段に出し入
れ操作のための間隔を隔てて、仕切板30上あるいは仕
切溝(図示しない)にスライド係入させて絞り19が収
容される。各絞り19は、開口数やコヒーレンス度ある
いは開口パターン形状等が異なり、多種類の絞り19が
ストッカー21内に上下方向に重ねて収容される。この
ように上下方向に重ねて収容することにより、狭いスペ
ース内に多数の絞り19を収容することができる。
【0023】絞り交換ロボット20は、台26上に支柱
22を備え、この支柱22の上端にアーム23が設けら
れた構成である。台26は、ストッカー21方向に矢印
Bのように進退移動可能であり、かつ光路2上の絞りス
テージ17方向に矢印Dのように進退移動可能である。
これにより、アーム23が各方向に進退移動可能にな
る。台26を移動させる構成に代えて、又はこれととも
に、アーム23自体を伸縮可能な構成としてもよい。
22を備え、この支柱22の上端にアーム23が設けら
れた構成である。台26は、ストッカー21方向に矢印
Bのように進退移動可能であり、かつ光路2上の絞りス
テージ17方向に矢印Dのように進退移動可能である。
これにより、アーム23が各方向に進退移動可能にな
る。台26を移動させる構成に代えて、又はこれととも
に、アーム23自体を伸縮可能な構成としてもよい。
【0024】支柱22は上下方向に矢印Aのように伸縮
可能な構造である。また、アーム23はこの支柱22に
対し、矢印Cのように回転して方向変更可能な構造であ
る。アーム23の先端には、図示しない真空チャックが
備り、各絞り19の外縁に突出させて設けた柄部24を
吸着保持する。
可能な構造である。また、アーム23はこの支柱22に
対し、矢印Cのように回転して方向変更可能な構造であ
る。アーム23の先端には、図示しない真空チャックが
備り、各絞り19の外縁に突出させて設けた柄部24を
吸着保持する。
【0025】各絞り19の外縁には4箇所に位置合せ用
の凹部25が形成される。この絞り19の凹部25に対
応して、絞りステージ17側に位置決め用の溝28およ
びアライメントバー27が設けられる。このアライメン
トバー27は、後述の図3に示すように、溝28内を矢
印Eのように移動可能である。
の凹部25が形成される。この絞り19の凹部25に対
応して、絞りステージ17側に位置決め用の溝28およ
びアライメントバー27が設けられる。このアライメン
トバー27は、後述の図3に示すように、溝28内を矢
印Eのように移動可能である。
【0026】図3は、絞りステージ17上に絞り19が
位置決め固定された状態の平面図である。この絞り19
は、十字状のリブ29を有する開口パターン形状であ
る。このような開口パターン形状はこの例の十字状に限
らず、複数の打ち抜き円形状その他各種形状が可能であ
る。この絞り19の外縁の凹部25と絞りステージ17
の溝28がほぼ一致する位置に、前記絞り交換ロボット
20により絞り19が運ばれ絞りステージ17上に搭載
される。この状態で、アライメントバー27が溝28内
に進入して絞り19の凹部25に係入し、この絞り19
を固定する。
位置決め固定された状態の平面図である。この絞り19
は、十字状のリブ29を有する開口パターン形状であ
る。このような開口パターン形状はこの例の十字状に限
らず、複数の打ち抜き円形状その他各種形状が可能であ
る。この絞り19の外縁の凹部25と絞りステージ17
の溝28がほぼ一致する位置に、前記絞り交換ロボット
20により絞り19が運ばれ絞りステージ17上に搭載
される。この状態で、アライメントバー27が溝28内
に進入して絞り19の凹部25に係入し、この絞り19
を固定する。
【0027】上記構成の露光装置において、露光条件の
変更等に伴い、絞りを交換する場合には、まず絞り交換
ステージ17のアライメントバー27を後退させて絞り
19から離し、絞り交換ロボット20のアーム23の先
端の真空チャックにより絞りステージ17上の絞り19
の柄部24を吸着保持してこれを絞りステージ17上か
ら取り出す。続いて、アーム23が回転してストッカー
21方向に向くとともに、支柱22の高さをストッカー
の収納位置に合せ、アーム23がストッカー方向に移動
してその先端に保持している絞り19をストッカー21
内に挿入し真空吸着を解除してストッカー内に収納す
る。
変更等に伴い、絞りを交換する場合には、まず絞り交換
ステージ17のアライメントバー27を後退させて絞り
19から離し、絞り交換ロボット20のアーム23の先
端の真空チャックにより絞りステージ17上の絞り19
の柄部24を吸着保持してこれを絞りステージ17上か
ら取り出す。続いて、アーム23が回転してストッカー
21方向に向くとともに、支柱22の高さをストッカー
の収納位置に合せ、アーム23がストッカー方向に移動
してその先端に保持している絞り19をストッカー21
内に挿入し真空吸着を解除してストッカー内に収納す
る。
【0028】続いて、ストッカー21内の新たに使用す
る絞り19の柄部24をアーム23の先端の真空チャッ
クで吸着保持し、ストッカー21から取り出して、これ
を前述と逆の動作で絞りステージ17上に搬送し、真空
吸着を解除してこの新たな絞り19を絞りステージ17
上に乗せる。続いて、前述のように、アライメントバー
27が絞りステージ17の溝28内に進入して絞り19
の凹部25内に係入しこの絞り19を絞りステージ17
上に固定保持する。これにより絞り19の交換動作が終
了する。
る絞り19の柄部24をアーム23の先端の真空チャッ
クで吸着保持し、ストッカー21から取り出して、これ
を前述と逆の動作で絞りステージ17上に搬送し、真空
吸着を解除してこの新たな絞り19を絞りステージ17
上に乗せる。続いて、前述のように、アライメントバー
27が絞りステージ17の溝28内に進入して絞り19
の凹部25内に係入しこの絞り19を絞りステージ17
上に固定保持する。これにより絞り19の交換動作が終
了する。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、光路
に隣接して複数の絞りを収容したストッカーが設けら
れ、ロボット等の絞り交換手段によりこのストッカーか
ら絞りを取り出して光路上の絞りステージ上にセットす
るため、光路部分を拡大して装置を大型化することなく
コンパクトな構成で多数種類の絞りを自動的に交換して
セットすることができる。
に隣接して複数の絞りを収容したストッカーが設けら
れ、ロボット等の絞り交換手段によりこのストッカーか
ら絞りを取り出して光路上の絞りステージ上にセットす
るため、光路部分を拡大して装置を大型化することなく
コンパクトな構成で多数種類の絞りを自動的に交換して
セットすることができる。
【0030】また、前記ストッカーにより、複数の絞り
を上下に間隔を隔てて重ねて収容する構成とすれば、複
数の絞りが出し入れに必要な間隔を隔てて上下方向に重
ねて多数枚収容することができるため、小スペース内に
多数の絞りを収容して露光装置の小型化を図ることがで
きる。
を上下に間隔を隔てて重ねて収容する構成とすれば、複
数の絞りが出し入れに必要な間隔を隔てて上下方向に重
ねて多数枚収容することができるため、小スペース内に
多数の絞りを収容して露光装置の小型化を図ることがで
きる。
【0031】これにより、露光装置の光路部分を拡大す
ることなく、スペースを有効に利用して多数の絞りを選
択可能とし、微細で多様な露光パターンの投影露光処理
を効率よく行うことができる。
ることなく、スペースを有効に利用して多数の絞りを選
択可能とし、微細で多様な露光パターンの投影露光処理
を効率よく行うことができる。
【図1】 本発明の実施形態に係る露光装置の構成図。
【図2】 図1の露光装置の絞り交換機構部の構成図。
【図3】 本発明の絞りステージ上に絞りを搭載した状
態の平面図。
態の平面図。
【図4】 従来の露光装置の構成図。
1:光源、2:光路、3:シャッター、4:インプット
レンズ、5:フライアイレンズ、6:絞り部、7:第1
リレーレンズ、8:第2リレーレンズ、9:レチクル、
10:縮小投影レンズ、11:ウェーハ、16:絞り
部、17:絞りステージ、18,19:絞り、20:絞
り交換ロボット、21:ストッカー、22:支柱、2
3:アーム、24:柄部、25:凹部、26:台、2
7:アライメントバー、28:溝、29:リブ、30:
仕切板。
レンズ、5:フライアイレンズ、6:絞り部、7:第1
リレーレンズ、8:第2リレーレンズ、9:レチクル、
10:縮小投影レンズ、11:ウェーハ、16:絞り
部、17:絞りステージ、18,19:絞り、20:絞
り交換ロボット、21:ストッカー、22:支柱、2
3:アーム、24:柄部、25:凹部、26:台、2
7:アライメントバー、28:溝、29:リブ、30:
仕切板。
Claims (5)
- 【請求項1】光路上に絞りを備えた光学レンズ系を介し
てマスクに形成されたパターンをウェーハ上に投影露光
する露光装置において、 種類の異なる複数の絞りを収容したストッカーと、 前記絞りを搭載するための光路上に設けた絞りステージ
と、 前記ストッカーから絞りを取り出して前記絞りステージ
上にセットする絞り交換手段とを備えたことを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項2】前記ストッカーは、複数の絞りを上下に間
隔を隔てて重ねて収容することを特徴とする請求項1に
記載の露光装置。 - 【請求項3】前記絞りは、その周縁部に位置合せ用の凹
部を有し、 この凹部が嵌合するアライメントバーを前記絞りステー
ジ側に設けたことを特徴とする請求項1に記載の露光装
置。 - 【請求項4】前記絞り交換手段は、進退移動可能で且つ
回転可能なアームからなり、このアーム先端に絞り把持
手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の露光装
置。 - 【請求項5】前記絞り把持手段は、真空チャックからな
ることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10347159A JP2000173895A (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10347159A JP2000173895A (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000173895A true JP2000173895A (ja) | 2000-06-23 |
Family
ID=18388320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10347159A Pending JP2000173895A (ja) | 1998-12-07 | 1998-12-07 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000173895A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006148138A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2006148137A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
EP1678558A1 (en) * | 2003-10-29 | 2006-07-12 | Carl Zeiss SMT AG | Diaphragm changing device |
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1998
- 1998-12-07 JP JP10347159A patent/JP2000173895A/ja active Pending
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