JP4531385B2 - マスク保持機構 - Google Patents
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Description
本発明のマスク保持機構は、位置精度計測用と転写用とを兼ねたものである。そしてマスクを静電吸着力で保持するので、静電チャックと静電チャックへの電圧供給系を有するものである。図1は、静電吸着方式による本発明のマスク保持機構11の電圧供給系を含めた概略構成を示す図である。図2(a)は、静電チャック12を主体とするマスク保持機構11の上面図(電圧供給系は示してない)であり、図2(b)は図2(a)に示したマスク保持機構11のA−A線における断面図である。
図1において、マスク保持機構の静電チャック12の電圧が印加される電極は+と−で同じ面積になるように設計されている。電圧供給系は、+電極、−電極に単独の内部電源13から均一な電圧(1〜3kV)が印加されるように設計されている。また、外部電源からの印加も可能なように、外部電源端子14も備えている。
静電チャック12に用いる絶縁体23の材料としては、例えば、Al2 O3 、Si3 N4 、AlN、SiC等が用いられる。絶縁体で覆われる電極22の材料は、例えばアルミニウム合金等が用いられる。
図12の位置精度計測装置内でのマスク保持状態(向き)を図4に拡大して示す。マスク表面側(メンブレン32側)が吸着され、マスク表面は上(天)向きであり、マスク31はマスク保持機構11に吊り下げられた状態である。
図12に示す位置精度計測装置において、検査光41はマスク31表面により反射され、検出装置121に入射する。ステージ122がX−Y方向へ移動することで、検査光41はマスク表面を走査することになり、検査光41が図10に示すマーク101上を走査すると、反射信号に変化が生じるので、マーク101の位置を感知することができる。
図11の転写装置内でのマスク保持状態(向き)を拡大して図3に示す。マスク表面側(メンブレン32側)が吸着され、マスク表面は下(地)向きである。
EPLでは、マスクのメンブレン層は転写時に用いられる100kVに加速された電子を完全に遮蔽するものではなく、散乱透過させるものであるため、ストラットが下側だと該メンブレン透過時に散乱した電子がストラット壁に当たり、その結果生じた反射電子の一部が本パターンである貫通孔を通過する電子の軌道に入ってコントラストの低下を引き起こしたり、あるいは該散乱電子がストラット壁に吸収されて帯電したり、あるいは該散乱電子の運動エネルギーが熱に変わってマスクの熱変形を引き起こしたりする。このような事態を避けるため、EPLではマスク表面側(メンブレン32側)を下向きに装填する。
なお、計測時と転写時におけるマスクの向き(上下、天地)による変形は、その因子が重力によるものであるため再現性があり、その変形による位置ズレは計算により補正可能である。
また、一度転写装置から取り出した後、再度転写のために使用する場合も、本機構においてはマスクを解放せず、マスク保持機構11に吸着状態のままマスクを保持し続けるため、再度の位置精度計測が不要であり、最初に測定した結果をそのまま利用できるという利点がある。
12 静電チャック
13 内部電源
14 外部電源端子
21 支持体
22 電極
23 絶縁体
31、51、70 EPLマスク
32、52、72 メンブレン
33、53、73 ストラット
34、54 電子ビーム
41、61 検査光
55、65 マスク保持機構
71 パターン領域
81 電子ビーム
101 位置計測用マーク
111 電子銃
112a 照明光学系
112b 投影光学系
113 コンデンサレンズ
114 マスクステージ
115 ウェハ
116、128 定盤
117 真空ポンプ
118 レーザ干渉計
121 検出器
122 X−Yステージ
123 落射光源
124 スプリッターミラー
125 対物レンズ
126 レーザ干渉計
127 空気軸受
129 防振器
Claims (2)
- 荷電粒子線を用いる転写技術における位置精度計測用と転写用とを兼ねるマスク保持機構であって、
前記マスク保持機構は、マスクを静電吸着力で保持する静電チャックと、前記静電チャックへの電圧供給系を有し、
前記電圧供給系は、少なくとも、内部電源を備えており、
前記内部電源から静電吸着力を維持するための電圧供給を行うことにより、
マスクに対して吸着力を保持したまま、位置精度計測装置および転写装置に装填され、または両装置間を搬送されることを特徴とするマスク保持機構。 - 前記電圧供給系は、外部電源端子を備えており、
位置精度計測装置あるいは転写装置に装填中は、前記各装置から静電吸着力を維持するための電圧供給を受け、前記装置外に保管時は、外部電源から静電吸着力を維持するための電圧供給を受けることを特徴とする請求項1に記載のマスク保持機構。
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JP2003425198A JP4531385B2 (ja) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | マスク保持機構 |
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JP2003425198A JP4531385B2 (ja) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | マスク保持機構 |
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JP2005183815A JP2005183815A (ja) | 2005-07-07 |
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2003
- 2003-12-22 JP JP2003425198A patent/JP4531385B2/ja not_active Expired - Fee Related
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