JP4527567B2 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法 - Google Patents
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マスク投影技術は、マスクパターンを投影光学系により被加工面に投影することにより加工する技術である。テーパ加工技術例として、マスクのパターン径の異なる数種類のマスクを変えながら加工することにより、任意のテーパ加工を行うものである(例えば、特許文献1参照)。
単レンズ集光技術は、単レンズへの斜め入射光をレンズに対し垂直軸回転させることにより、テーパ加工を行うものである(例えば、特許文献2参照)。
マイクロレンズアレイ集光技術は、マイクロレンズアレイによりビームを多数に分岐・被加工面に集光し、多数点を一括穿孔するものである。穴径調整に関する技術としては、マイクロレンズアレイへの斜め入射光をレンズに対して垂直方向を軸に回転させることにより、穴径を大きくするものが知られている(例えば、特許文献3参照)。
密着マスクワーク揺動技術は、所定のパターンを形成した密着マスクをワークに密着させ、密着マスクとワークを一体としたアセンブリーを、レーザ照射中に入射光線に対し直交する2軸の周りに所定の角度だけ搖動させることにより、加工のテーパ角を制御するものである(例えば、特許文献4参照)。
反射光学系技術は、マスクパターンをワーク(被加工物)上に投影し加工を行う際に、反射鏡によりレーザビームのワークに対し斜めに入射させ、その入射角を制御することにより加工のテーパ角を制御するものである(例えば、特許文献5参照)。
本発明の他の目的は、多数点を一括加工が可能で、逆テーパの加工が可能なレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、多数点を一括加工が可能で、集光手段、例えばレンズによる集光による加工のためエネルギー効率が高く、少ないエネルギーによる加工が可能で、且つ加工時間短縮が可能なレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供することにある。
さらに、前記変更手段を、入射レーザ光を軸として回転運動させることにより、前記変更手段からの出射角により決定される一定の入射角で、集光手段に対してあらゆる方向から入射させることができる。
つまり、実際の運用上は、回転軸と、回転軸の中心を通った後、第二ミラーで反射されたレーザビームの交点が被加工物の表面近傍に位置する必要があるが、変更手段によって、出射角度を変えた場合には、ビーム回転照射手段における変更手段の回転軸からの距離、あるいは変更手段と被加工物との距離を調整し、回転軸と変更手段によって変更されて出射されたレーザビームの交点が被加工物の表面近傍に位置するようにできる。
一般に複数の集光手段としてのマイクロレンズに、レーザ光を垂直に入射させレーザ穿孔加工を行うと、図9に示すように開口径dがレーザ入射側から徐々に小さくなるテーパ状の形状が得られる。本発明では、特性を持つ集光手段(マイクロレンズ)を利用してレーザ加工装置を構成し、斜入射のレーザビームを用いて、被加工物Wに穿孔加工を行うものである。
このように、集光手段による加工のためエネルギー効率が高く、マスク投影技術に対して少ないエネルギーによる加工が可能である。また、多数点一括加工が可能であることから、単レンズ技術や反射光学系技術に比して多点加工パターン時の加工時間短縮が可能である。
このように、本例ではレーザビームの入射角により、被加工物Wのテーパ角、集光手段としてのマイクロレンズの回転(公転)半径により、被加工物Wの穴径を独立に調整することが可能なレーザ加工装置である。
また本例のステージ51には、被加工物Wを把持できるように、吸着ステージとしている。なおステージは加工時の貫通したビームでダメージを受けない材質使用している。
先ず、不図示のスイッチを投入しスタートすると、装置全体が通電し、予め、被加工物Wに対する加工径などのデータを制御部へ指示するが、この後で、シャッター16を閉めた状態で、レーザ源11が発振する(ステップS1)。次に、エネルギーモニタ15でエネルギーを測定する(ステップS2)。次に、ステップS2で測定したエネルギーに基づいて、被加工物Wの加工に適切なエネルギーとなるように、アッテネータ12の透過率を調整する(ステップS3)。ここで、一定時間内でエネルギー変動が少なく、発振が安定であることを確認する。
そして、次に複数の集光手段(マイクロレンズアレイ31)の公転手段により、上記ビーム回転照射手段20を回転と同期させて回転させる。
以上のようにして被加工物Wの加工を行なう。
11 レーザ光源
12 アッテネータ
13 スリット
14 部分反射ミラー
15 エネルギーモニタ
16 シャッター
17 ビーム形成光学系
18 ミラー
20 ビーム回転照射手段
21 中空モータ
22,23 ミラー(変更手段)
24 ベース
25 昇降装置
26 支持手段
25a,25b クロスローラガイド
30 公転手段
31 マイクロレンズアレイ
32 XYステージ(可動手段)
33 円弧補間付3軸コントローラ
35,36 ステッピングモータ
33a,33b,33c ドライバ
37 制御部
40 ガスフロー手段
41 ガスを流しだす手段
42 ガスを排出する手段
50 ワーク調整手段
51 加工位置変更用のXYステージ
C 回転軸
S レーザ加工装置
W 被加工物
Claims (6)
- 複数の集光手段と、該複数の集光手段へ任意のレーザビーム入射角を保ちつつ複数の集光手段の垂直方向を軸に軸回転するビーム回転照射手段と、該ビーム回転照射手段の軸回転に同期して複数の集光手段の集光面の向きを一定方向に保ちつつ所定半径で公転させる複数の集光手段の公転手段と、を備えてなるレーザ加工装置。
- 前記レーザ加工装置は、レーザ装置と、被加工物を配置する配置手段とを備え、前記レーザ装置からのレーザビームを、前記ビーム回転照射手段及び複数の集光手段の公転手段によって同期して公転する複数の集光手段を介して前記被加工物に集光照射する、ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記ビーム回転照射手段は、レーザビームの光路を変更する複数の変更手段を備え、少なくとも一つの変更手段には角度調整手段が設けられ、レーザビームを前記変更手段によって前記複数の集光手段方向に所定角度で出射することを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。
- 前記ビーム回転照射手段は、前記複数の集光手段又は前記被加工物を配置する配置手段に対する距離調整が可能な可動手段を備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一つに記載のレーザ加工装置。
- 前記公転手段は、前記ビーム回転照射手段の回転と同期させたモータにより可動するXY可動手段によりなされることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。
- レーザビームによるレーザ加工方法であって、
光源から出射された加工用レーザビームを任意の角度で且つ所定軸に対して回転させて出射するレーザビーム回転照射工程と、
該レーザビーム回転照射工程によって出射されたレーザビームを複数の集光手段の集光面の向きを一定方向に保ちつつ前記レーザビーム回転照射工程の回転に同期させて駆動する複数の集光手段に入射させる入射工程と、
該入射工程によって入射されたレーザビームを被加工物に集光照射する工程と、
を備えたことを特徴とするレーザ加工方法。
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