JP4513361B2 - 半導体装置、半導体装置の製造方法、電気光学装置 - Google Patents
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Description
また、遮光層をエッチングする際に、該遮光層よりも下層の基板へのオーバーエッチングを防止するとともに、上記カバレージの改善についても実現できる構成を提供することを目的としている。
また、上記のようにカバレージの改善に伴って、半導体層を結晶化する際の結晶の異常成長やアブレーションの不良等を低減可能な構成を提供することを目的としている。
また、本発明は上記のような半導体装置の好適な製造方法を提供することを目的としている。
さらに、上記半導体装置を備えた電気光学装置を提供することを目的としている。
なお、ここではTFT素子(半導体装置)30としてnチャネル型の多結晶シリコンTFTを製造する場合を例として説明する。図6〜図7はいずれも、本実施形態の液晶装置の製造工程の一部について、特にTFT素子(半導体装置)の製造方法を工程順に示す概略断面図である。なお、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
このように第1遮光層11bと第2遮光層11aとの積層により遮光層11を形成すると、該遮光層11の形成時において、第1遮光層11bと第2遮光層11aとを積層した後、これらを一括してドライエッチングすることで、上述した複数段階の傾斜角を有する傾斜面を容易に形成することができるようになる。つまり、第1遮光層11bと第2遮光層11aとが異なる材料であるため、ドライエッチング時の反応性に違いが生じ、これにより上記段階的な傾斜面を好適に形成することができるようになる。特に、第2遮光層11aを第1遮光層11bよりもエッチング耐性の高い材料にて形成しているため、段階的な傾斜面を備えた遮光層11を好適に形成することができるようになっている。
Claims (11)
- 基板上に所定パターンにて形成された遮光層と、該遮光層上を覆う形にて形成された絶縁層と、該絶縁層上であって、少なくとも前記遮光層と平面的に重なる位置に配設された半導体層とを備える半導体装置であって、
前記遮光層が、前記基板側に裾広がりとなる形の島状に形成されているとともに、前記基板側から少なくとも第1遮光層と第2遮光層とを含む積層体からなり、
前記第1遮光層と第2遮光層とが互いに異なる材料にて構成されており、
前記第1遮光層と前記第2遮光層とが前記基板面に対して非垂直な傾斜面を有しており、前記第2遮光層が有する傾斜面の傾斜角が、前記第1遮光層が有する傾斜面の傾斜角よりも小さいことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1遮光層がチタンからなり、かつ前記第2遮光層が窒化チタンからなることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記積層体が、前記第1遮光層よりも基板側に形成された第3遮光層を含み、該第3遮光層が有する傾斜面の傾斜角が、前記第1遮光層が有する傾斜面の傾斜角よりも小さいことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記基板と前記遮光層との間に、前記基板を保護するための保護用絶縁層を具備してなり、該保護用絶縁層にも傾斜面が具備されてなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記保護用絶縁層が有する傾斜面の傾斜角が、前記第1遮光層が有する傾斜面の傾斜角よりも小さいことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 基板上に所定パターンの遮光層を形成する工程と、
該遮光層を覆う形にて絶縁層を形成する工程と、
該絶縁層上であって、少なくとも前記遮光層と平面的に重なる位置に半導体層を形成する工程とを含み、
前記遮光層を形成する工程において、該遮光層を、前記基板側に裾広がりとなる形の島状であって、前記基板面に対し複数段階の傾斜角を有した傾斜面を有する形にて形成し、
前記遮光層を形成する工程が、第1遮光層を形成する工程と、該第1遮光層上に第1遮光層とは異なる材料からなる第2遮光層を形成する工程とを含み、
前記第1遮光層と前記第2遮光層とが前記基板面に対して非垂直な傾斜面を有し、前記第2遮光層が有する傾斜面の傾斜角が、前記第1遮光層が有する傾斜面の傾斜角よりも小さくなるように、前記第1遮光層と前記第2遮光層とを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第2遮光層を前記第1遮光層よりもエッチング耐性の高い材料にて形成することを特徴とする請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1遮光層がチタンからなり、かつ前記第2遮光層が窒化チタンからなることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板上に、該基板を保護するための保護用絶縁層を形成した後、その保護用絶縁層上に所定パターンの遮光層を形成するものとし、
前記遮光層は、マスクを用いたエッチングによりパターニングする一方、該エッチングの際に前記保護用絶縁層の表層をオーバーエッチングにより一部除去することを特徴とする請求項6ないし8のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記保護用絶縁層が有する傾斜面の傾斜角が、前記第1遮光層が有する傾斜面の傾斜角よりも小さくなるように、前記保護用絶縁層を形成することを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の半導体装置を備えることを特徴とする電気光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004064435A JP4513361B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 半導体装置、半導体装置の製造方法、電気光学装置 |
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JP2005252188A JP2005252188A (ja) | 2005-09-15 |
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JP2004064435A Expired - Fee Related JP4513361B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 半導体装置、半導体装置の製造方法、電気光学装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4513361B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102409362B1 (ko) * | 2018-04-04 | 2022-06-17 | 한국전자통신연구원 | 차광구조를 구비한 박막 트랜지스터 |
CN110729327B (zh) * | 2019-09-11 | 2022-07-08 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种显示面板及其制备方法 |
CN114023792A (zh) * | 2021-10-25 | 2022-02-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07211697A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-11 | Fujitsu Ltd | 金属配線形成方法及び半導体装置の製造方法 |
JPH1187726A (ja) * | 1997-09-11 | 1999-03-30 | Seiko Epson Corp | 液晶表示パネルの製造方法 |
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2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07211697A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-11 | Fujitsu Ltd | 金属配線形成方法及び半導体装置の製造方法 |
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JP2005252188A (ja) | 2005-09-15 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
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|
A521 | Written amendment |
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