JP4511933B2 - 石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 - Google Patents
石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4511933B2 JP4511933B2 JP2004535084A JP2004535084A JP4511933B2 JP 4511933 B2 JP4511933 B2 JP 4511933B2 JP 2004535084 A JP2004535084 A JP 2004535084A JP 2004535084 A JP2004535084 A JP 2004535084A JP 4511933 B2 JP4511933 B2 JP 4511933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sio
- surface element
- temperature
- smoke
- soot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
- C03B19/1423—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/46—Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
R+S+A+T=1
が成立する。
2 煤煙体
3 長手方向軸線
4 バーナベンチ
5 析出バーナ
6 ブロック矢印
10 煤煙体表面
13 中空鏡
14 フォーカスライン
17 ブロック矢印
18 バーナ火炎
30 析出室
31 中空鏡
33 内湾曲面
34,35 フォーカスライン
36 排出ギャップ
37 透し開口
38 矢印
Claims (15)
- 石英ガラス素材を製造する方法であって、一連の析出バーナを用いてSiO2粒子を発生させ、自体の長手方向軸線を中心として回転する保持体の円筒形の外套面の上に円筒形の多孔質のSiO2煤煙体を析出する方法ステップを有し、形成される煤煙体の表面温度が温度調節体を用いてコントロールされる方式の方法において、温度調節体としてSiO2煤煙体(2)の主要な部分に沿って延在する面エレメント(13;31)を使用し、該面エレメント(13;31)が熱放射による均質なレフレクタとして温度を上昇させてSiO2煤煙体表面(10)に作用し、かつ80%と100%との間でIR光線のための反射度を有することを特徴とする、石英ガラス素材を製造する方法。
- SiO2煤煙体(2)を取囲むケーシング(30)の内壁により形成されている面エレメント(31)を使用する、請求項1記載の方法。
- 前記面エレメント(31)を用いて析出バーナ(5)の熱がSiO2煤煙体(2)に向かって反射される、請求項1記載の方法。
- 前記面エレメント(13)によって、形成されるSiO2煤煙体(2)の熱がSiO2煤煙体表面(10)に向かって反射される、請求項1記載の方法。
- 前記面エレメントがSiO2煤煙体(2)に沿って動かされる、請求項1又は4記載の方法。
- 前記面エレメント(13)と形成されるSiO2煤煙体(2)の表面との間の間隔が一定に保たれる、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 前記面エレメント(13;31)がSiO2煤煙体(2)の全有効長さに亘って延在している、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 請求項1から7までのいずれか1項記載の方法を実施するための装置であって、SiO2粒子を発生させる一連の析出バーナと、自体の長手方向軸線を中心として回転可能で、円筒形外套面の上に、発生したSiO2粒子が円筒形の多孔質のSiO2煤煙体を形成して析出される保持体と、形成されるSiO2煤煙体の領域に配置された、形成されたSiO2煤煙体の表面温度に、軸方向の密度経過に影響を及ぼすために作用する温度調節体とを有している形式のものにおいて、前記温度調節体が均質なレフレクタとして作用する面エレメント(13;31)を有し、この面エレメント(13;31)がSiO2煤煙体(2)の主要な部分に沿って延在しかつIR光線に対し80%と100%との間の反射度を有していることを特徴とする、石英ガラス素材を製造する装置。
- 前記面エレメント(31)がSiO2煤煙体(2)を取囲むケーシング(30)の内壁により形成されている、請求項8記載の装置。
- 前記面エレメント(13;31)がコンカーブな湾曲面(7;33)を有している、請求項8記載の装置。
- 前記コンカーブな湾曲面(33)が前記一連の析出バーナ(5)の列の領域にある焦点(34)を有している、請求項10記載の装置。
- 前記コンカーブな湾曲面(7)が、形成されるSiO2煤煙体(2)の領域にある、請求項10記載の装置。
- 前記面エレメントが煤煙体に沿って可動に構成されている、請求項8から12までのいずれか1項記載の装置。
- 前記面エレメント(13)が保持体長手方向軸線(3)に対し垂直に移動可能に構成されている、請求項8から12までのいずれか1項記載の装置。
- 前記面エレメント(13;31)がSiO2煤煙体(2)の全有効長さに亘って延在している、請求項8から14までのいずれか1項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10240008A DE10240008B4 (de) | 2002-08-27 | 2002-08-27 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Quarzglas-Rohlings |
PCT/EP2003/008963 WO2004024641A1 (de) | 2002-08-27 | 2003-08-13 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines quarzglas-rohlings |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005537213A JP2005537213A (ja) | 2005-12-08 |
JP4511933B2 true JP4511933B2 (ja) | 2010-07-28 |
Family
ID=31724206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004535084A Expired - Fee Related JP4511933B2 (ja) | 2002-08-27 | 2003-08-13 | 石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050247080A1 (ja) |
JP (1) | JP4511933B2 (ja) |
AU (1) | AU2003258606A1 (ja) |
DE (1) | DE10240008B4 (ja) |
WO (1) | WO2004024641A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8230701B2 (en) * | 2008-05-28 | 2012-07-31 | Corning Incorporated | Method for forming fused silica glass using multiple burners |
DE102010005954B4 (de) * | 2010-01-27 | 2020-11-19 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Poröses Kohlenstofferzeugnis |
JP5566929B2 (ja) * | 2011-03-16 | 2014-08-06 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法、および光ファイバ母材の製造装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4147040A (en) * | 1974-02-25 | 1979-04-03 | Gerald Altman | Radiation cooling devices and processes |
JPH0332500Y2 (ja) * | 1986-08-19 | 1991-07-10 | ||
US5211732A (en) * | 1990-09-20 | 1993-05-18 | Corning Incorporated | Method for forming a porous glass preform |
US5116400A (en) * | 1990-09-20 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Apparatus for forming a porous glass preform |
JPH04240126A (ja) * | 1991-01-18 | 1992-08-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英系多孔質ガラス層の形成装置 |
DE19628958C2 (de) * | 1996-07-18 | 2000-02-24 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörpern |
JPH11199238A (ja) * | 1997-12-30 | 1999-07-27 | Fujikura Ltd | ガラス微粒子堆積装置 |
DE19827945C1 (de) * | 1998-06-25 | 1999-06-24 | Heraeus Quarzglas | Verfahren und Vorrichtung für die Herstellung einer porösen SiO¶2¶-Vorform |
JP2001010823A (ja) * | 1999-06-22 | 2001-01-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材の製造装置及び製造方法 |
-
2002
- 2002-08-27 DE DE10240008A patent/DE10240008B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-08-13 JP JP2004535084A patent/JP4511933B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-13 WO PCT/EP2003/008963 patent/WO2004024641A1/de active Application Filing
- 2003-08-13 AU AU2003258606A patent/AU2003258606A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-13 US US10/525,887 patent/US20050247080A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10240008A1 (de) | 2004-03-18 |
US20050247080A1 (en) | 2005-11-10 |
WO2004024641A1 (de) | 2004-03-25 |
JP2005537213A (ja) | 2005-12-08 |
AU2003258606A1 (en) | 2004-04-30 |
DE10240008B4 (de) | 2004-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6707467B2 (ja) | レーザ駆動シールドビームランプ | |
JP3484603B2 (ja) | 脆い材料、特にガラス製の平坦な加工品を切断する方法及び装置 | |
EP2985781B1 (en) | Light source with laser pumping and method for generating radiation | |
US6876816B2 (en) | Heating device, heat treatment apparatus having the heating device and method for controlling heat treatment | |
TWI575635B (zh) | 用於快速熱處理的裝置及方法 | |
JP2003500844A (ja) | 基板を熱処理する装置及び方法 | |
EP1857145A1 (en) | Phototherapy device | |
KR20210023973A (ko) | 광학 장치 및 레이저 시스템 | |
KR100970013B1 (ko) | 열처리 장치 | |
JP4511933B2 (ja) | 石英ガラス素材を製造するための方法及び装置 | |
JP4738966B2 (ja) | 浮遊帯域溶融装置 | |
JP3531567B2 (ja) | 閃光照射加熱装置 | |
US4184065A (en) | Heating apparatus having ellipsoidal reflecting mirror | |
TW202021916A (zh) | 均勻化玻璃之方法 | |
US6568216B2 (en) | Method for manufacturing a discharge tube | |
JPS5925142B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP4436565B2 (ja) | 基板を熱処理するための装置 | |
JP4847046B2 (ja) | 熱処理装置 | |
KR20200049610A (ko) | 유리를 균질화하는 방법 및 디바이스 | |
US6595030B1 (en) | Device for generating an optically homogeneous, streak-free quartz glass body having a large diameter | |
JP2940893B2 (ja) | 引上装置 | |
JP2019537205A (ja) | 可変圧力シールドビームランプを操作するための装置及び方法 | |
CN114205929B (zh) | 一种加热悬浮纳米微粒的红外光学系统 | |
JP6779375B2 (ja) | 低放射率(low−e)ガラスアニール装置 | |
JPH0388790A (ja) | 赤外線加熱単結晶製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090527 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090827 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090903 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091009 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100107 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100115 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100209 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100217 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100305 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100408 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100507 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4511933 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |