JP4505709B2 - 重合性液晶組成物及び光学異方体 - Google Patents
重合性液晶組成物及び光学異方体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4505709B2 JP4505709B2 JP2003121765A JP2003121765A JP4505709B2 JP 4505709 B2 JP4505709 B2 JP 4505709B2 JP 2003121765 A JP2003121765 A JP 2003121765A JP 2003121765 A JP2003121765 A JP 2003121765A JP 4505709 B2 JP4505709 B2 JP 4505709B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oco
- compound represented
- liquid crystal
- formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 Cc1cc(*c(cc2)ccc2-c(cc2)ccc2OC)cc(OC)c1OC Chemical compound Cc1cc(*c(cc2)ccc2-c(cc2)ccc2OC)cc(OC)c1OC 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は重合性液晶組成物、及び、該重合性液晶組成物中を重合して得られる光学異方体に関する。
【0002】
【従来の技術】
重合性液晶化合物、又は、液晶化合物と混合して、ネマチック相、スメクチック相、コレステリック相等の液晶相を示す重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を、液晶相を保持した状態で重合させると、液晶分子の配向状態を固定化した重合体を作製することができる。この重合体は、屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率等の物理的性質の異方性を有していることから、特に光学異方体として応用が検討されている。
【0003】
液晶分子の配向状態を固定化させるための重合方法の1つとして光重合がある。光重合においては、液晶分子の配向に対して外乱要因となる熱を加えることなしに重合反応が進行するので、液晶分子の配向状態を乱すことなく固定化することができる。しかしながら、液晶相を示す温度が高い場合、液晶相を保持させるために該重合性液晶組成物を加熱する必要があるが、この加熱によって、光重合を開始する前に部分的な熱重合がおこり、配向乱れの原因となることがある。従って、重合性液晶組成物は、できるだけ低い温度で、例えば25℃〜40℃の温度範囲で液晶相を示すようにその組成を調整する。
【0004】
液晶分子の配向状態を固定化した重合体を光学異方体に応用する場合には、該重合体には、透明性に優れることが求められている。
例えば、C−N転移温度が94℃の式Aで表されるスワローテイル型の重合性液晶化合物に、式Bで表される重合性液晶化合物及び式Cで表される重合性液晶化合物を混合することによって、25℃でネマチック相を示す重合性液晶組成物を調製し、これを25℃以下で重合すると、局所的な熱重合が起こらないので、透明性に優れる光学異方体が得られることが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
【0005】
【化5】
式A
【0006】
【化6】
式B
【0007】
【化7】
式C
【0008】
【特許文献1】
特開2000−327632号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、式Aで表される化合物と、式Bで表される化合物、及び式Cで表される化合物を混合した場合、いったん均一に混合したように見えても、短時間内に相分離を起こすといった問題があった。これは、式Aで表される化合物は分子末端にシアノ基を有しており双極子モーメントが大きく、式Bで表される化合物や式Cで表される化合物のような、電子吸引基を持たない双極子モーメントの小さい重合性化合物とは一般に相溶性が低いことや、式Aで表される化合物と、式Bで表される化合物や式Cで表される化合物とでは、液晶骨格が大きく異なるため相溶性が低いことが、原因として考えられる。
式Bで表される化合物及び式Cで表される化合物の配合量を多くした場合には、相溶性は幾分向上する反面、系全体のスワローテイル型化合物の濃度が下がってしまうために、これを重合して得られる光学異方体の透明性が低下するといった問題があった。
【0010】
本発明が解決しようとする課題は、双極子モーメントの小さい液晶化合物と、それとの相溶性に優れるスワローテイル型の重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することにあり、且つ、該重合性液晶組成物が液晶相を示す温度範囲内で、該重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させて得られる、透明性に優れた光学異方体を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
分子末端にシアノ基を有するスワローテイル型重合性化合物は双極子モーメントが大きいため、双極子モーメントの小さい液晶化合物と相溶性が低い。本発明者らは、一般式(1)、(2)、及び(3)で表されるスワローテイル型重合性化合物を併用すると、双極子モーメントの小さく骨格構造が異なる液晶化合物との相溶性に優れ、長期間安定な重合性液晶組成物が得られることを見出し、上記課題を解決した。また、重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方体が、透明性に優れることも見出した。
【0012】
即ち、本発明は、一般式(1)で表される重合性化合物、一般式(2)で表される重合性化合物、一般式(3)で表される重合性化合物、及び一般式(4)で表される重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。
【0013】
【化8】
(1)
【0014】
【化9】
(2)
【0015】
【化10】
(3)
【0016】
【化11】
(4)
【0017】
(式中、A1〜A12は各々独立してベンゼン環、シクロヘキサン環又はシクロヘキセン環を表し、Y1〜Y8は、各々独立して、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−OCH2−、−CO−O−、−OCO−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−、−(CH2)4−、−CH2CH2CH2O−、−OCH2CH2CH2−、−CH=CH−CH2CH2−、−CH2CH2−CH=CH−、−CH=CH−CO−O−及び−OCO−CH=CH−からなる群から選ばれる連結基を表わし、Y9は、単結合、−O−、−CO−O−又は−OCO−を表す。X1〜X8は、各々独立して単結合、−O−、−CO−O−、又は−OCO−を表し、S1〜S8は、各々独立して−CpH2p−、又は−(CpH2p−O)q−Cp 'H2p '−を表わし、p及びp’は各々独立して1〜20の整数を表し、qは1〜10の整数を表す。L1〜L6は、各々独立して水素原子又はメチル基を表す。
【0018】
Z1及びZ2は、各々独立して、−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clを表すが、Z1が−OCO−CH2−CH2−Clの時、Z2は−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2であり、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2の時、Z2は−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clであり、Z2が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2の時、Z1は−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clである。Z3は、水素原子又はCH3−CO−O−を表し、Z4は、水素原子、シアノ基、又はCl−(CH2)a−O−を表し、aは1〜20の整数を表し、Z5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数2〜20のアルケニル基を表し、bは0又は1の整数を表す。)
【0019】
【発明の実施の形態】
前記一般式(1)〜(3)において、A1〜A9は、炭素原子数1〜7のアルキル基、炭素原子数1〜7のアルコキシ基、炭素原子数1〜7のアルカノイル基、又はハロゲン原子等の置換基を有していても良い。前記A1〜A9に、液晶分子の長軸方向に共役するようなベンゼン環を選択すれば、複屈折率の大きな重合性化合物を得ることができ、液晶分子の長軸方向に共役しないシクロヘキサン環を選択すれば、複屈折率の小さな重合性化合物を得ることができる。
【0020】
前記一般式(1)〜(3)において、Y1〜Y6は、単結合、−CO−O−、−OCO−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−等の、液晶分子の長軸方向に共役するような構造を選択すれば、複屈折率の大きな重合性化合物を得ることができ、−CH2CH2−、−CH2O−、−OCH2−、−(CH2)4−、−CH2CH2CH2O−、−OCH2CH2CH2−等の、液晶分子の長軸方向に共役しない構造を選択すれば、複屈折率の小さな重合性化合物を得ることができる。
【0021】
前記一般式(1)〜(3)において、S1〜S8は、液晶骨格と(メタ)アクリロイルオキシ基とを隔てるスペーサーとしての役割を持つ。具体的には、例えば、メチレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、あるいはこれらの基がエーテル結合によって連結された基があげられる。中でも、p及びp’が各々独立して2〜15であることが好ましく、3〜11であることが特に好ましい。
【0022】
前記一般式(1)〜(3)において、L1〜L5は、水素原子であると重合反応性が高く好ましい。
【0023】
前記一般式(1)において、Z1とZ2との組み合わせとしては、例えば、
Z1が−OCO−CH2−Clで、Z2が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2の場合や、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2で、Z2が−OHの場合や、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2で、Z2が−OCO−CH2CH2OHの場合や、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2で、Z2が−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2の場合や、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2で、Z2が−OCO−CH=CH2の場合があげられる。
【0024】
前記一般式(1)で表される化合物、一般式(2)で表される化合物、及び一般式(3)で表される化合物は、前記一般式(1)におけるA1−Y1−A2−Y2−A3、前記一般式(2)におけるA4−Y3−A5−Y4−A6、前記一般式(3)におけるA7−Y5−A8−Y6−A9で表される液晶骨格が同一であると、得られる組成物の保存安定性が増し、双極子モーメントの小さい化合物とより安定に相溶させることができる。中でも、A1〜A9が全てベンゼン環であり、Y1、Y3及びY5は単結合、−CO−O−、又は−OCO−で表される同一の連結鎖であり、Y2、Y4及びY6は単結合、−CO−O−、又は−OCO−で表される同一の連結鎖である液晶骨格が好ましい。このような液晶骨格の例を以下に示す。
【0025】
【化12】
【0026】
【化13】
【0027】
【化14】
【0028】
前記一般式(1)で表される重合性化合物としては、例えば下記式(1−1)〜(1−10)の化合物が挙げられる。これらの化合物は2種以上を併用してもよい。
【0029】
【化15】
(1−1)
【0030】
【化16】
(1−2)
【0031】
【化17】
(1−3)
【0032】
【化18】
(1−4)
【0033】
【化19】
(1−5)
【0034】
【化20】
(1−6)
【0035】
【化21】
(1−7)
【0036】
【化22】
(1−8)
【0037】
【化23】
(1−9)
【0038】
【化24】
(1−10)
【0039】
また、前記一般式(2)で表される重合性化合物としては、例えば下記式(2−1)〜(2−3)の化合物が挙げられる。これらの化合物は2種以上を併用してもよい。
【0040】
【化25】
(2−1)
【0041】
【化26】
(2−2)
【化27】
(2−3)
【0042】
(一般式(1−1)〜(1−10)及び一般式(2−1)〜(2−3)においてm及びnは各々独立して1〜20の整数を表す。)
【0043】
また、前記一般式(3)で表される重合性化合物としては、例えば下記式(3−1)〜(3−5)の化合物が挙げられる。これらの化合物は2種以上を併用してもよい。本発明の重合性液晶組成物は、シアノ基等を有するような極性の高い重合性化合物を配合していても、他の液晶化合物との相溶性に優れる。
【0044】
【化28】
(3−1)
【0045】
【化29】
(3−2)
【0046】
【化30】
(3−3)
【0047】
【化31】
(3−4)
【0048】
【化32】
(3−5)
【0049】
(式(3−1)〜(3−5)において、r、s及びtは各々独立して1〜20の整数を表し、Lは水素原子又はメチル基を表す。)。
【0050】
前記一般式(1−1)〜(1−10)、一般式(2−1)〜(2−3)、及び一般式(3−1)〜(3−5)で表される重合性化合物は、公知の合成方法によって合成することができる。具体的な合成例は、「ハンドブックオブリキッドクリスタルズ」、ワイリー社、第1巻の第4章や、第2巻の第3〜5章に記載されている。
【0051】
例えば、一般式(1−1)で表される化合物は、次のようにして合成することができる。3,4−ジヒドロキシ安息香酸をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、3−クロロプロピオニルクロリドを反応させ、式(a)で表される化合物を得る(以下、一般式(a)〜(o)において、m及びnは各々独立して1〜20の整数を表す。)。
【0052】
【化33】
(a)
【0053】
式(a)で表される化合物を、炭酸カリウムの存在下、脱塩化水素反応させ、式(b)又は式(c)で表される化合物を得る。
【0054】
【化34】
(b)
【0055】
【化35】
(c)
【0056】
前記式(c)で表される化合物と、4,4’−ビフェノールをハロゲン化アルコールでエーテル化した後アクリル酸を脱水縮合反応させることによって得た式(d)で表される化合物とを、脱水縮合反応させて、一般式(1−1)で表される化合物が得られる。
【0057】
【化36】
(d)
【0058】
一般式(1−2)で表される化合物は、次のようにして合成することができる。1−ヨード−3,4−ジメトキシベンゼンとフェニルグリニアール試薬とを反応させてビフェニル誘導体を得、これに塩化アセチルを反応させる。得られた化合物をアルカリで加水分解後、メトキシ基のメチル基を臭化水素酸で切断して式(e)で表される化合物を得る。
【0059】
【化37】
(e)
【0060】
式(e)で表される化合物をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、3−クロロプロピオニルクロリドを反応させて、式(f)で表される化合物を得る。これを、炭酸カリウム存在下で脱塩化水素反応を行うことによって、式(g)又は式(h)で表される化合物を得る。
【0061】
【化38】
(f)
【0062】
【化39】
(g)
【0063】
【化40】
(h)
【0064】
前記式(h)で表される化合物と、ヒドロキノンをハロゲン化アルコールでエーテル化した後アクリル酸を脱水縮合反応させて得た式(i)で表される化合物とを脱水縮合反応させて、式(1−2)で表される化合物が得られる。
【0065】
【化41】
(i)
【0066】
式(1−3)で表される化合物は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、アクリル酸を1:1のモル比で脱水縮合反応させて、式(j)で表される化合物を得る。これに、前記一般式(d)で表される化合物を脱水縮合反応させて得られる。
【0067】
【化42】
(j)
【0068】
式(1−4)で表される化合物は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、3−ブロモプロピオニルクロリドを反応させ、これをアルカリ処理して、式(k)で表される化合物を得る。これに、前記一般式(d)で表される化合物を脱水縮合反応させて得られる。
【0069】
【化43】
(k)
【0070】
また、式(1−6)で表される化合物は、6−ブロモ−1−ヘキサノール等のハロゲン化アルコールとアクリル酸メチルとをエステル交換反応させて、ハロゲン化アルキルアクリレートを合成し、これとブロモ−1−ヘキセン等のハロゲン化アルケンとを1:1のモル比で混合し、3,4−ジヒドロキシ安息香酸と反応させて、式(l)で表される化合物を得る。これに、前記一般式(d)で表される化合物を脱水縮合反応させて得られる。
【0071】
【化44】
(l)
【0072】
式(1−8)で表される化合物は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、3−ブロモプロピオニルクロリドを反応させ、これをアルカリ処理した後、アクリル酸クロリドやメタクリル酸クロリドを反応させて、式(m)で表される化合物を得る。これに、前記一般式(d)で表される化合物を脱水縮合反応させて得られる。
【0073】
【化45】
(m)
【0074】
式(2−1)で表される化合物は、4,4’−ビフェノールをハロゲン化アルコールでエーテル化した後、無水酢酸や塩化アセチルを反応させて、式(n)で表される化合物を得る。
【0075】
【化46】
(n)
【0076】
これに、3,4−ジヒドロキシ安息香酸をハロゲン化アルコールでエーテル化した後、アクリル酸又はメタクリル酸を反応させた、式(o)で表される化合物を脱水縮合反応させて得られる。
【0077】
【化47】
(o)
【0078】
また、式(3−1)で表される化合物は、以下のようにして合成することができる。6-クロロ−1−(p−トルエンスルホニルオキシ)−アルカンと、4−フェニルフェノールとを塩基の存在下に室温で反応させて、式(p)で表される化合物を得る。
【0079】
【化48】
(p)
【0080】
式(p)で表される化合物を、塩化アルミニウムと塩化アセチルを使用してフリーデルクラフツ反応させた後、これを過ギ酸で酸化し、アルカリ加水分解させて得られた式(q)で表される化合物と、化合物(o)とをエステル化反応させて、式(2−2)で表される化合物を得る。
【0081】
【化49】
(q)
【0082】
前記一般式(1)で表される化合物、一般式(2)で表される化合物及び一般式(2)で表される化合物のうち、液晶骨格が同じ化合物は、数種類を1つの反応容器で同時に合成することもできる。例えば、前記式(a)で表される化合物を炭酸カリウムの存在下で脱塩化水素反応させると、前記式(b)で表される化合物と前記式(c)で表される化合物の他に前記式(o)で表される化合物も同時に合成することができる。式(b)で表される化合物、式(c)で表される化合物、及び式(o)で表される化合物の比率は、反応条件等を変えることによって制御できる。
【0083】
また、前記式(a)で表される化合物を、少量の水分を添加した上で炭酸カリウムの存在下で脱塩化水素反応させると、前記式(b)で表される化合物と前記式(c)で表される化合物と前記式(o)で表される化合物の他に、前記式(j)で表される化合物と前記式(k)で表される化合物とを同時に合成することができる。この反応生成物に、前記式(d)で表される化合物を反応させれば、一般式(1−1)で表される化合物、(1−2)で表される化合物、及び(1−3)で表される化合物を含有する液晶組成物が簡単に得られる。
【0084】
一般式(1)、(2)及び(3)で表されるスワローテイル型重合性化合物からなる組成物と、一般式(4)で表される重合性化合物と併用することで、25℃でネマチック相を示す本発明の重合性液晶組成物が得られる。本発明の重合性液晶組成物は、一般式(4)で表されるような双極子モーメントの小さい重合性化合物を配合していても長時間相分離することがない。一般式(1)、(2)及び(3)で表されるスワローテイル型重合性化合物からなる組成物と、一般式(4)で表される重合性化合物とは、配合比にして60:40〜20:80となるように配合するのが好ましく、70:30〜30:70となるように配合するのが最も好ましい。具体的には、一般式(1)で表される重合性化合物が12〜17質量%、一般式(2)で表される重合性化合物が8〜3質量%、一般式(3)で表される重合性化合物が5〜15質量%、一般式(4)で表される重合性化合物が70〜80質量%となるように併用すると、特に好ましい。
【0085】
【化50】
(4)
【0086】
前記一般式(4)において、L6は水素原子又はメチル基を表す。A10〜A12は各々独立してベンゼン環、シクロヘキサン環又はシクロヘキセン環を表す。Y7及びY8は、各々独立して結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−OCH2−、−CO−O−、−OCO−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−、−(CH2)4−、−CH2CH2CH2O−、−OCH2CH2CH2−、−CH=CH−CH2CH2−、−CH2CH2−CH=CH−、−CH=CH−CO−O−及び−OCO−CH=CH−からなる群から選ばれる連結基を表わす。Y9は、単結合、−O−、−CO−O−又は−OCO−を表し、Z5は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数2〜20のアルケニル基を表し、bは0又は1の整数を表す。
【0087】
前記一般式(4)で表される重合性液晶化合物としては、具体的には、式(4−1)〜(4−4)で表される化合物があげられる。中でも、式(4−1)で表される化合物と式(4−2)で表される化合物を併用することが好ましく、式(4−1)で表される化合物と式(4−2)で表される化合物との比が、75:25〜25:75であるとなお好ましい。中でも、式(4−1)で表される化合物と式(4−2)で表される化合物との比が、40:60〜60:40であることが好ましい。この範囲において、25℃でネマチック相を示し、長時間相分離することのない重合性液晶組成物が得られる。
【0088】
【化51】
(4−1)
【0089】
【化52】
(4−2)
【0090】
【化53】
(4−3)
【0091】
【化54】
(4−4)
【0092】
その他、本発明の重合性液晶組成物に配合することのできる、公知慣用の重合性化合物としては、下記構造の化合物が挙げられる。
【0093】
【化55】
【0094】
【化56】
【0095】
【化57】
【0096】
(式中、Lは水素原子又はメチル基を、n及びmは各々独立して1〜20の整数を表す。)
【0097】
本発明の重合性液晶組成物には、重合性官能基を有していない低分子液晶化合物を必要に応じて添加してもよい。このとき、添加量が多すぎると、得られる重合体の耐熱性に劣る傾向があるので、添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して30質量%以下とすることが好ましく、20質量%以下がさらに好ましく、10質量%以下が特に好ましい。
【0098】
一方、重合性官能基を有していない高分子液晶化合物は、目的に応じて添加量を変えればよい。例えば、得られる光学異方体に可とう性を付与したい場合は、重合性官能基を有していない高分子の液晶化合物を、本発明の重合性液晶組成物に対して30質量%以下、好ましくは20質量%以下添加すればよい。また、組成物の主成分が重合性官能基を有していない高分子液晶組成物の場合で、光学異方体の耐熱性を向上させたい時は、本発明の重合性液晶組成物を少量添加して重合させると効果的である。この場合、本発明の重合性液晶組成物を、組成物全量に対して5質量%以上となるように配合するとよい。
【0099】
本発明の重合性液晶組成物には、重合性官能基を有する液晶性骨格を持たない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して、5質量%以下であることが好ましく、3質量%以下が更に好ましい。
【0100】
本発明の重合性液晶組成物には、光学活性を有する化合物、すなわちキラル化合物を添加してもよい。該キラル化合物は、それ自体が液晶相を示す必要は無く、また、重合性官能基を有していても、有していなくても良い。また、キラル化合物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することができる。
具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として2−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製の「CB−15」、「C−15」、メルク社製の「S−1082」、チッソ社製の「CM−19」、「CM−20」、「CM」、キラル基として1−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「S−811」、チッソ社製の「CM−21」、「CM−22」などを挙げることができる。
キラル化合物を添加する場合は、該重合性液晶組成物の用途によるが、得られる重合体の厚み(d)を重合体中での螺旋ピッチ(P)で除した値(d/P)が0.1〜100の範囲となる量を添加することが好ましく、0.1〜20の範囲となる量がさらに好ましい。
【0101】
本発明の重合性液晶組成物には、熱重合開始剤、光重合開始剤等の重合開始剤を添加することもできる。熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。また、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類等が挙げられる。添加する場合は、該重合性液晶組成物に対して、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下が特に好ましく、0.5〜1.5質量%の範囲が更に好ましい。
【0102】
本発明の重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類等が挙げられる。添加する場合は、該重合性液晶組成物に対して1質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下が特に好ましい。
【0103】
本発明の重合性液晶組成物を偏光フィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護膜等の用途に利用する場合には、その目的に応じて、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物などを添加してもよい。
【0104】
本発明の重合性液晶組成物が液晶相を示す温度範囲内で、該重合性液晶組成物を重合させると、本発明の光学異方体が得られる。具体的には、本発明の重合性液晶組成物を、配向機能を付与した基板上に塗布するか、又は二枚の基板間に挟持させた後、該重合性液晶組成物中の液晶分子をネマチック相を保持した状態で均一に配向させ、重合させることによって、本発明の光学異方体が得られる。
【0105】
前記基板は、有機、無機を問わず、公知慣用の材質の基板を使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート板、ポリカーボネート板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタクリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩化ビニル板、ポリテトラフルオロエチレン板、セルロース板、シリコン板、ガラス板、方解石板等が挙げられる。基板の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基板は、必要に応じて、電極層を有していてもよい。
【0106】
前記基板に配向機能を付与する方法としては特に限定はなく、公知慣用の方法が挙げられる。具体的には、布等で基板表面をラビング処理する方法、ポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビング処理する方法、基板にSiO2を斜方蒸着して配向膜を形成する方法、分子内に光二量化反応する官能基を有する有機薄膜や光で異性化する官能基を有する有機薄膜に、偏光を照射する方法等が挙げられる。特に、通常のツイステッド・ネマチック素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック素子で使用されているプレチルト角を与えるポリイミド薄膜を使用すると、液晶分子の配向状態の制御を容易にすることができ、特に好ましい。
【0107】
本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布する場合は、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法を利用すればよい。このとき、塗工性を高めるために、該重合性液晶組成物に公知慣用の有機溶媒を添加しても良い。この場合は、該重合性液晶組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去する。本発明の重合性液晶組成物を基板間に挟持させる場合は、毛細管現象あるいは真空注入法を利用した注入法等を利用すればよい。
【0108】
本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線強度は、0.1mW/cm2〜2W/cm2の範囲が好ましい。紫外線強度が0.1mW/cm2未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかり、一方、2W/cm2を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にある。照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り25℃以下とすることが好ましい。尚、液晶組成物は、通常、昇温過程において、C−N転移温度から、N(ネマチック相)−I(等方性液体相)転移温度(以下、N−I転移温度と略す。)範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、C−N転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。
また、本発明の重合性液晶組成物を二枚の基板間に挟持させた状態で重合させる場合は、光照射面側の基板として、透明性を有する基板を使用する。
【0109】
マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることもできる。
【0110】
本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる重合体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。剥離した場合は、それらを積層することも、他の基板に貼り合わせて使用することもできる。
【0111】
本発明の重合性液晶組成物は、双極子モーメントの小さい液晶化合物を添加して25℃でネマチック相を示すように調製してあるので、加温せずに重合させることができる。双極子モーメントの小さい液晶化合物の配合量を増やさなくとも、25℃で長時間安定にネマチック相を示すので、重合性液晶組成物中のスワローテイル骨格の濃度は下がらない。従って、得られた光学異方体は透明性に優れる。
本発明の光学異方体は、光学補償板、光学的ローパスフィルタ、又は偏光プリズム材料としては勿論のこと、位相差板、偏光板、光導波路、圧電素子、非線形光学素子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤等への応用が可能である。
【0112】
【実施例】
以下、実施例及び比較例によって、本発明を具体的に説明する。
【0113】
[評価項目]
重合性液晶組成物のC−N転移温度、N−I転移温度、結晶相−スメクチックC相転移温度、及びスメクチックC相−等方相転移温度は、偏光顕微鏡観察及び示差走査熱量測定により決定した。
相溶性は、相溶後の安定性で評価し、重合性液晶組成物を封入したサンプル瓶を25℃に放置し、相分離や結晶の析出が見られるか否かを目視にて観察し、その時間を測定した。
透明度は、JIS K−7136に準拠し、ヘーズ値で表した。ヘーズ値の小さいものほど透明度に優れることを表す。
リタデーション値は、ヘリウム−ネオンレーザー(He−Ne LASER)とフォトエラスティックモジュレーター(Photo Elastic Modulator)を使用した偏光解析装置により測定した。値が高いものほどリタデーションに優れることを表す。
【0114】
(合成例1)
4,4’−ビフェノール1200g、6−クロロ−1−ヘキサノール880g、炭酸カリウム800g、ヨウ化カリウム80g、ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略す。)4800mlからなる混合物を撹拌しながら、90℃で8時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却後、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。析出した結晶をガラスフィルターを用いて濾取した後、結晶を水20000mlで洗い、粗生成物900gを得た。この粗生成物を、メタノール9000mlで精製し、生成物Aを500g得た。高速液体クロマトグラフィー(以下、HPLCと略す)で分析した結果、生成物Aは、式(m1)で表される化合物が92%、式(m2)で表される化合物が5%、帰属不能な化合物が3%含まれていた。
【0115】
【化58】
(m1)
【0116】
【化59】
(m2)
【0117】
生成物Aを480g、アクリル酸480g、p−トルエンスルホン酸150g、ヒドロキノン25g、トルエン2000ml、シクロヘキサン2000mlからなる混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら4時間還流させた。反応液を室温まで冷却後、反応液に飽和食塩水10000ml、酢酸エチル7000mlを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物609g得た。得られた粗生成物をトルエン600mlとヘキサン1200mlの混合溶媒で洗い、酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶媒(容量比で酢酸エチル:トルエン=1:4)を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、生成物Bを190g得た。HPLCで分析した結果、生成物Bは、式(m3)で表される化合物が5%、式(m4)で表される化合物が91%、式(m5)で表される化合物が2%、帰属不可能な化合物が2%含まれていた。
【0118】
【化60】
(m3)
【0119】
【化61】
(m4)
【0120】
【化62】
(m5)
【0121】
3,4−ジヒドロキシ安息香酸100g、6−クロロ−1−ヘキサノール194g、水酸化ナトリウム82g、ヨウ化カリウム10g、エタノール450ml、水450mlからなる混合物を撹拌しながら、80℃で32時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却後、反応液に飽和食塩水5000mlを加え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。この反応溶液に酢酸エチル3000mlを加えて抽出した。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して生成物Cを232g得た。生成物CをHPLCで分析した結果、式(m6)で表される化合物が48%、帰属不明な化合物が52%含まれていた。
【0122】
【化63】
(m6)
【0123】
生成物Cを232g、アクリル酸300g、p−トルエンスルホン酸50g、ヒドロキノン10g、トルエン1000ml、シクロヘキサン800ml、テトラヒドロフラン200mlからなる混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら4時間還流させた。反応液を室温まで冷却後、反応液に飽和食塩水5000ml、酢酸エチル3000mlを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留去し、ヘキサン1000mlとトルエン200mlの混合物で洗った後、酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶媒(容量比で酢酸エチル:トルエン=1:3)を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、生成物Dを165g得た。生成物DをHPLCで分析した結果、式(m7)で表される化合物が55%、式(m8)で表される化合物が7%、式(m9)で表される化合物が7%、式(m10)で表される化合物が5%、式(m11)で表される化合物が5%及び式(m12)で表される化合物が4%、帰属不明な化合物が17%含まれていた。
【0124】
【化64】
【0125】
【化65】
(m8)
【0126】
【化66】
(m9)
【0127】
【化67】
(m10)
【0128】
【化68】
(m11)
【0129】
【化69】
(m12)
【0130】
生成物Bを55gと、生成物Dを65gを塩化メチレン1000mlに溶解させた。これを5℃に冷却し、ジメチルアミノピリジン6gと1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(以下WSCと略す。)50gを加えて攪拌した。2時間後室温に戻し、さらに36時間攪拌を続けた。反応終了後、反応液を1N塩酸で洗浄してから水で中性になるまで洗浄し、この有機相に無水硫酸ナトリウムを入れて乾燥した。乾燥後に溶媒を減圧除去して粗生成物を得た。この粗生成物をヘキサン:酢酸エチル=10:1の混合溶媒を移動相とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、組成物(I)を得た。HPLC及びGC/MS(MSは質量分析を表す。)で分析した結果、式(m13)で表される化合物が69%、式(m14)で表される化合物が9%、式(m15)で表される化合物が4%、式(m16)で表される化合物が2%、式(m17)で表される化合物、式(m18)で表される化合物、式(m19)で表される化合物、式(m20)で表される化合物、式(m21)で表される化合物がそれぞれ1%、式(m22)で表される化合物が2%、式(m23)で表される化合物が1%、帰属不明な化合物が8%含まれていた。
【0131】
【化70】
(m13)
【0132】
【化71】
(m14)
【0133】
【化72】
(m15)
【0134】
【化73】
(m16)
【0135】
【化74】
(m17)
【0136】
【化75】
(m18)
【0137】
【化76】
(m19)
【0138】
【化77】
(m20)
【化78】
(m21)
【0139】
【化79】
(m22)
【0140】
【化80】
(m23)
【0141】
【化81】
式(D)
【0142】
(実施例1)
組成物(I)20質量部、式(D)で表される化合物10質量部、式(B)で表される化合物35質量部、及び式(C)で表される化合物35質量部からなる組成物(J)を調製した。組成物(J)は、25℃でネマチック液晶相を呈した。C−N転移温度は−30℃であり、N−I転移温度は46℃であった。組成物(J)は25℃で1ヶ月以上保っても、安定的にネマチック相を呈することがわかった。
【0143】
【化82】
式(B)
【0144】
【化83】
式(C)
【0145】
(実施例2)
組成物(J)99質量部に、チバガイギー社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」1質量部を添加したものを、室温で、セルギャップ50ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル(液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル)に注入した。注入後2分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られているのが確認できた。次に、目白プレシジョン製の超高圧水銀灯750Wを使用し、14W/m2の紫外線(波長366nm)を該ガラスセルに200秒間照射して、光学異方体を得た。得られた光学異方体の平行光透過率は88.1%で、ヘーズは1.3%であった。リタデーション値は3.0ミクロンであった。
【0146】
【化84】
式(E)
【0147】
(実施例3)
組成物(I)20質量部、式(D)8質量部、式(E)で表される化合物2質量部、式(B)で表される化合物35質量部、及び式(C)で表される化合物35質量部からなる組成物(K)を調製した。組成物(K)は、25℃でネマチック液晶相を呈した。C−N転移温度は10℃であり、N−I転移温度は46℃であった。組成物(K)は25℃で1ヶ月以上保っても、安定的にネマチック相を呈することがわかった。
【0148】
(実施例4)
組成物(K)99質量部に、チバガイギー社製の光重合開始剤「イルガキュアー651」1質量部を添加したものを、室温で、セルギャップ50ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル(液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル)に注入した。注入後2分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られているのが確認できた。次に、目白プレシジョン製の超高圧水銀灯750Wを使用し、14W/m2の紫外線(波長366nm)を該ガラスセルに200秒間照射して、光学異方体を得た。得られた光学異方体の平行光透過率は88.4%で、ヘーズは1.2%であった。リタデーション値は3.1ミクロンであった。
【0149】
(比較例1)
式(A)で表される化合物を30質量部、式(B)で表される化合物を35質量部、及び式(C)で表される化合物を35質量部使用した組成物(L)を調製した。組成物(L)のC−N転移温度は41℃であり、N−I転移温度は61℃であった。この組成物は冷却過程に於いて25℃で過冷却によるネマチック相を示したが、約2時間程度で相分離してしまった。
【0150】
(比較例2)
組成物(L)99質量部に「イルガキュアー651」1質量部を添加したものを使用して、実施例4と同様にして光学異方体を得た。得られた光学異方体の平行光透過率は82.9%で、ヘーズは5.0%であった。リタデーション値は2.7ミクロンであった。
【0151】
【発明の効果】
双極子モーメントの小さい液晶化合物とスワローテイル型の重合性化合物を含有する重合性液晶組成物は、長期間安定な液晶相を示す。また、25℃でネマチック相を示すように調製してあるので、加温せずに重合させることができ、透明性に優れた光学異方体が得られる。
Claims (4)
- 一般式(1)で表される重合性化合物、一般式(2)で表される重合性化合物、一般式(3)で表される重合性化合物のうちZ4がシアノ基を表す重合性化合物、及び一般式(4)で表される重合性化合物を含有することを特徴とする重合性液晶組成物。
(式中、A1〜A12は各々独立してベンゼン環、シクロヘキサン環又はシクロヘキセン環を表し、Y1〜Y8は、各々独立して、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−OCH2−、−CO−O−、−OCO−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−、−(CH2)4−、−CH2CH2CH2O−、−OCH2CH2CH2−、−CH=CH−CH2CH2−、−CH2CH2−CH=CH−、−CH=CH−CO−O−及び−OCO−CH=CH−からなる群から選ばれる連結基を表わし、Y9は、単結合、−O−、−CO−O−又は−OCO−を表す。X1〜X8は、各々独立して単結合、−O−、−CO−O−、又は−OCO−を表し、S1〜S8は、各々独立して−CpH2p−、又は−(CpH2p−O)q−Cp’H2p’−を表わし、p及びp’は各々独立して1〜20の整数を表し、qは1〜10の整数を表す。L1〜L6は、各々独立して水素原子又はメチル基を表す。Z1及びZ2は、各々独立して、−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clを表すが、Z1が−OCO−CH2−CH2−Clの時、Z2は−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2であり、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2の時、Z2は−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clであり、Z2が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2の時、Z1は−OCO−CH2−CH2−Cl、−OCO−CH2CH2OH、−OH、−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2、−OCO−CH2CH2−OCO−C(CH3)=CH2、−CH=CH2、−OCO−CH=CH2、−OCO−C(CH3)=CH2、−CO−CH3、又は−CH2CH2Clである。Z3は、水素原子又はCH3−CO−O−を表し、Z4は、水素原子、シアノ基、又はCl−(CH2)a−O−を表し、aは1〜20の整数を表し、Z5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数2〜20のアルケニル基を表し、bは0又は1の整数を表す。) - 前記一般式(1)で表される化合物、一般式(2)で表される化合物、及び一般式(3)で表される化合物が、A1〜A9が全てベンゼン環を表し、Y1、Y3及びY5は単結合、−CO−O−、又は−OCO−で表される同一の連結鎖であり、Y2、Y4及びY6が単結合、−CO−O−、又は−OCO−で表される同一の連結鎖を表す化合物である、請求項1に記載の重合性液晶組成物。
- 前記一般式(1)で表される化合物が、A1〜A3が全てベンゼン環であり、Y1が単結合であり、Y2が−OCO−であり、Z1が−OCO−CH2−CH2−Clであり、Z2が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2である化合物と、A1〜A3が全てベンゼン環であり、Y1が単結合であり、Y2が−OCO−であり、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2であり、Z2が−OHである化合物と、A1〜A3が全てベンゼン環であり、Y1が単結合であり、Y2が−OCO−であり、Z1が−OCO−CH2CH2OHであり、Z2が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2である化合物と、A1〜A3が全てベンゼン環であり、Y1が単結合であり、Y2が−OCO−であり、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2であり、Z2が−OCO−CH2CH2−OCO−CH=CH2である化合物と、A1〜A3が全てベンゼン環であり、Y1が単結合であり、Y2が−OCO−であり、Z1が−OCO−CH=CH2又は−OCO−C(CH3)=CH2であり、Z2が−OCO−CH=CH2である化合物であり、前記一般式(2)で表される化合物が、A4〜A6が全てベンゼン環であり、Y3が単結合であり、Y4が−OCO−であり、Z3がCH3−CO−O−である化合物であり、前記一般式(3)で表される化合物が、A7〜A9が全てベンゼン環であり、Y5が単結合であり、Y6が−OCO−であり、Z4がCl−(CH2)a−O−である化合物であり、前記に示す化合物七つを全て含み、
更にA4〜A6がベンゼン環又はシクロヘキサン環であり、Y3が単結合であり、Y4が−OCO−であり、X4が単結合であり、S4が−CH2−であり、Z3が水素原子である前記一般式(2)で表される化合物及びA7〜A9がベンゼン環又はシクロヘキサン環であり、Y5が単結合であり、Y6が−OCO−であり、Z4がシアノ基である前記一般式(3)で表される化合物を含む、請求項1に記載の重合性液晶組成物。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を配向させた状態で重合させて得られることを特徴とする光学異方体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003121765A JP4505709B2 (ja) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003121765A JP4505709B2 (ja) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004323729A JP2004323729A (ja) | 2004-11-18 |
JP4505709B2 true JP4505709B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=33500217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003121765A Expired - Fee Related JP4505709B2 (ja) | 2003-04-25 | 2003-04-25 | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4505709B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7919648B2 (en) | 2005-12-08 | 2011-04-05 | Chisso Corporation | Lateral α-substituted acrylate compound and polymer thereof |
JP5040259B2 (ja) * | 2005-12-08 | 2012-10-03 | Jnc株式会社 | 側方α−置換アクリレート化合物およびその重合体 |
EP2918658B1 (de) * | 2014-03-10 | 2020-05-13 | Merck Patent GmbH | Flüssigkristalline Medien mit homöotroper Ausrichtung |
US10619099B2 (en) * | 2017-08-25 | 2020-04-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Dielectric devices and methods of fabrication |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000178233A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-06-27 | Japan Chemical Innovation Institute | 液晶性(メタ)アクリレ―ト化合物、該化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
JP2000327632A (ja) * | 1999-05-14 | 2000-11-28 | Japan Chemical Innovation Institute | 液晶性(メタ)アクリレート化合物、該化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
JP2003313250A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2003342238A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶化合物 |
JP2004043710A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2004059772A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2004277488A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP4292459B2 (ja) * | 2002-12-06 | 2009-07-08 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
-
2003
- 2003-04-25 JP JP2003121765A patent/JP4505709B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000178233A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-06-27 | Japan Chemical Innovation Institute | 液晶性(メタ)アクリレ―ト化合物、該化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
JP2000327632A (ja) * | 1999-05-14 | 2000-11-28 | Japan Chemical Innovation Institute | 液晶性(メタ)アクリレート化合物、該化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
JP2003313250A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2003342238A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶化合物 |
JP2004043710A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2004059772A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP4292459B2 (ja) * | 2002-12-06 | 2009-07-08 | Dic株式会社 | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
JP2004277488A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-10-07 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物及び光学異方体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004323729A (ja) | 2004-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4292459B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP3963035B2 (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物と組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP4175049B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4385997B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4200195B2 (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物、該化合物を含有する液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP4006608B2 (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物、該化合物を含有する組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP2002145830A (ja) | 重合性液晶化合物、該化合物を含有する重合性液晶組成物及びその重合体 | |
JP6308415B2 (ja) | 重合性化合物及びそれを用いた液晶組成物 | |
JP2011184417A (ja) | 重合性アセチレン化合物 | |
JP4929546B2 (ja) | 重合性液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP2002308831A (ja) | 重合性液晶化合物、該化合物を含有する重合性液晶組成物及びその重合体 | |
JP2009084178A (ja) | 重合性キラル化合物 | |
JP4506105B2 (ja) | 液晶配向促進剤、液晶組成物及び光学異方体 | |
JP5545516B2 (ja) | 重合性化合物 | |
JP4461692B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4506232B2 (ja) | 重合性液晶化合物、これを含有する液晶組成物、及びこれらの重合体 | |
JP4208058B2 (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する液晶組成物 | |
JP2002220421A (ja) | 液晶相を示す重合性組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP4505709B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4474826B2 (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4766291B2 (ja) | 重合性液晶化合物、組成物、及び光学異方体 | |
JP2003313250A (ja) | 重合性液晶組成物及び光学異方体 | |
JP4182452B2 (ja) | 液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JP3972430B2 (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物と該化合物を含有する組成物及びこれを用いた光学異方体 | |
JPH1121269A (ja) | 液晶性(メタ)アクリレート化合物と液晶組成物及びこれを用いた光学異方体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050824 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20090908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100310 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100401 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100414 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |