JP4502986B2 - 半導体製造装置、トラップ装置、および半導体製造装置のガス排気方法 - Google Patents
半導体製造装置、トラップ装置、および半導体製造装置のガス排気方法 Download PDFInfo
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Description
(1)ガストラップ装置は、形状がまっすぐで、且つスパイラルチューブと内側パイプの内径との隙間が小さいため、スパイラルチューブの上流側で反応生成物等が析出しやすく、詰まりやすい。したがって、メンテナンスの周期が短くなり、半導体製造装置の稼働率が低下していた。
3SiH2Cl2+4NH3→Si3N4+6HCl+6H2
NH3+HCl→NH4Cl
6 ガス排気管
18 カートリッジ
26 ガストラップ装置
22 同一直線軸
Claims (4)
- 反応室からガス排気管を通して排気される排気ガスに含まれる生成物を、前記ガス排気管の途中に直線的に接続したトラップ装置で分離除去する半導体製造装置において、
前記トラップ装置は、
前記排気ガスの流れによどみを形成する曲がり部を下流側に有し、前記ガス排気管の途中の上流側に直線的に接続するための上流側接続管と、
曲がり部を上流側に有し、前記ガス排気管の途中の下流側に直線的に接続するための下流側接続管と、
前記上流側接続管と前記下流側接続管との間に、前記直線的な接続方向に対して斜めになるように取り付けられたトラップ部と
から構成され、
前記トラップ装置を前記上流側接続管と前記下流側接続管とにより前記排気管の途中に直線的に接続してなることを特徴とする半導体製造装置。 - 請求項1に記載の半導体製造装置において、
前記両曲がり部は、前記上流側接続管および前記下流側接続管の直線軸上に対して折り曲げられていることを特徴とする半導体製造装置。 - 反応室からガス排気管を通して排気される排気ガスに含まれる生成物を分離除去するトラップ装置であって、
前記排気ガスの流れによどみを形成する曲がり部を下流側に有し、ガス排気管の途中の上流側に直線的に接続するための上流側接続管と、
曲がり部を上流側に有し、前記ガス排気管の途中の下流側に直線的に接続するための下流側接続管と、
前記上流側接続管と前記下流側接続管との間に、前記直線的な接続方向に対して斜めになるように取り付けられたトラップ部と
から構成されることを特徴とするトラップ装置。 - 反応室からガス排気管を通して排気される排気ガスに含まれる生成物を、前記ガス排気管の途中に接続したトラップ装置で分離除去する半導体製造装置のガス排気方法であって
、
前記ガス排気管を通して排気される排気ガスを、前記トラップ装置に設けられた前記ガス排気管の途中の上流側と接続される上流側接続管から前記トラップ装置に導入する工程と、
前記上流側接続管から前記トラップ装置に導入された前記排気ガスの進路を、前記上流側接続管の下流側に形成した前記排気ガスの流れによどみを形成する曲がり部に沿って曲げる工程と、
前記進路を曲げられた排気ガスを、前記トラップ装置の内部空間に配置されて、前記排気ガスに含まれる生成物を分離除去するカートリッジの中間部にぶつける工程と、
前記カートリッジにぶつけた前記排気ガスを、前記トラップ装置の内部空間に満たす工程と、
前記内部空間を満たした前記排気ガスを、前記トラップ装置に設けられた前記ガス排気管の途中の下流側と接続される下流側接続管から前記ガス排気管に導出する工程と
を含む半導体製造装置のガス排気方法。
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---|---|---|---|---|
JPH08107070A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-23 | Mitsumi Electric Co Ltd | 熱cvdにおける副生成物トラップ装置 |
JPH09202972A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-08-05 | Kokusai Electric Co Ltd | 水冷式ガストラップ装置 |
-
2006
- 2006-08-07 JP JP2006214064A patent/JP4502986B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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JPH09202972A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-08-05 | Kokusai Electric Co Ltd | 水冷式ガストラップ装置 |
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