JP4501486B2 - エッチング処理槽及び、エッチング処理槽を備えたエッチング処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、エッチング処理槽及び、エッチング処理槽を備えたエッチング処理装置に関する。

エッチング処理槽を備えたエッチング処理装置とは、エッチング処理槽に、エッチング処理対象物である、例えば水晶等のウエハを配し、エッチング液を流入させるとともにウエハを浸漬してエッチングし、ウエハにエッチング形成を行なうための装置である（例えば、特許文献１参照。）。

具体的に、このエッチング処理槽を備えたエッチング処理装置に、図５に示すような従来のエッチング処理槽を備えたエッチング処理装置がある。

このエッチング処理装置１は、ドラフト２内部に備えられたエッチング処理槽３と、エッチング処理槽３から流出したエッチング液を貯水するタンク４と、タンク４に貯水したエッチング液の温度をエッチング処理可能な温度に上昇させる温調部５と、温調部５によって温度調整されたエッチング液をエッチング処理槽３に圧送して流入させるポンプ６と、ポンプ６によってエッチング処理槽３に流入するエッチング液に含有する不純物を取り除くフィルタ７とが備えられている。

ドラフト２には、外気を取り入れるドラフト開口部２１と、このドラフト開口部２１から取り入れた外気を排気するシャッタ２２ａを有した排気口２２とが形成されている。これらドラフト開口部２１と排気口２２とは、図５に示すように、ドラフト２内部に備えられたエッチング処理槽３の上方に位置するドラフト２の側面２ａに対向して形成されている。また、タンク４と温調部５とポンプ６とフィルタ７とはドラフト２外部に設けられている。

エッチング処理槽３は、エッチング液を流入させるとともにウエハを浸漬してエッチングする内槽３１と、この内槽３１の側面３１ａ及び底面３１ｂを被覆した断熱材３３と、この断熱材３３の上方であって内槽３１の外方に設けられた外槽３２と、が備えられてなる。このエッチング処理槽３では、フィルタ７で不純物を取り除いたエッチング液を内槽３１に流入させ、内槽３１内のエッチング液をオーバーフローさせて外槽３２に流入させ、外槽３２からタンク４にエッチング液を流出する。

このエッチング処理装置１は、エッチング液をエッチング処理槽３の内槽３１からオーバーフローさせて外槽３２に流出し、外槽３２からタンク４を介して温調部５に流出しエッチング液の温度を上昇させ、ポンプ６とフィルタ７とを介して再び内槽３１に流入するという循環サイクルを採用している。

このエッチング処理装置１を用いたウエハのエッチング工程、例えば、音叉型水晶振動子の外形エッチング工程や、逆メサ構造を有するデバイスの周波数の合わせ込みエッチング工程において、エッチングのバラツキを低減させるためには、エッチング処理を行なうエッチング処理槽３の内槽３１には、投げ込みヒータや循環式温度槽などの温調部５を用いて温度調整を行なったエッチング液を流入する必要がある。
特開昭６２−２９４１８２号公報

しかし、このエッチング処理装置１において、温調部５を用いてエッチング液の温度調節を行なう場合、ドラフト開口部２１から取り入れられる外気などの環境温度や排気口２２のシャッタ２２ａ開閉による風速などが変動するため、内槽３１に流入させてオーバーフローさせるエッチング液が直接その影響を受け、エッチング液の温度を一定に保持することがない。しかも、内槽３１への流入口の位置によって内槽３１内部の熱分布に偏りが生じやすいといった問題点があった。また、上記内槽に、エッチング処理対象物を密封した状態で収納してなるカセットが設けられてものであれば、カセット内部でエッチング液の循環が起こりにくいために、カセット内部の熱分布に偏りがより一層生じやすいといった問題点があった。これらの理由により、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減することが困難であった。

なお、図５に示すエッチング処理装置１のように、内槽３１の周りに断熱材３３が設けられていても、外気が上記した変動にともなって変化するため、外部環境の影響を完全に排除することはできない。

そこで、上記課題を解決するために本発明は、内槽内のエッチング液の温度を保持して熱分布の偏りをなくし、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させるとともに、外部環境の影響を完全に排除するエッチング処理槽及びエッチング処理槽を備えたエッチング処理装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため本発明にかかるエッチング処理槽は、エッチング処理対象物を配する内槽と、この内槽の内部にエッチング液とエッチング処理対象物とを密封した状態で収納してなるカセットと、カセットを保持する保持台と、前記内槽に沿ってその外方に設けられた外槽とが備えられ、前記カセット内でエッチング対象物をエッチング液に浸漬してエッチングするエッチング処理槽において、外部から前記内槽に液体としての水を流入し、前記内槽内に流入した液体としての水をオーバーフローさせて前記外槽に流入し、前記外槽に流入した液体としての水を外部に流出するよう、前記内槽と前記外槽とが関連付けられ、前記内槽からオーバーフローして前記外槽に流入した液体としての水によって、前記内槽内のエッチング液の温度を予め設定した所定温度に保持する温度保持手段が設けられ、前記カセットの内部に配置された磁性材料からなる攪拌手段と、当該攪拌手段をカセット外部から磁力により回転させる回転手段が設けられ、前記回転手段は、前記循環する液体の流れを動力源として回転してなり、循環する液体の流れを制御する保持台に一体的に形成されてなることを特徴とする。

この発明によれば、温度保持手段が設けられているので、外槽に流れる液体により内槽のカセット内のエッチング液の温度を保持することが可能となる。上記内槽のカセットの内部に配置された磁性材料からなる攪拌体と、当該攪拌体をカセット外部から磁力により動作させる駆動手段が設けられているので、内槽のカセット内部のエッチング液が攪拌され液温の不均一をなくす。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させ、中心周波数の合わせ込みも容易に行なうことが可能となる。

このエッチング処理槽によれば、エッチング液は、実際にウエハを浸漬するのはカセット内部のみで使用するため、無駄にエッチング液を用いる必要がない。また、ウエハの枚数を監視することができるとともに、エッチング液の管理も容易に行なうことができる。例えば、カセット内部のエッチング液でのエッチング作用は、ウエハ３０枚に対して有効とした場合、それ以上の枚数のウエハをエッチングする場合、カセット内部のエッチング液を入れかえる必要があるが、これらのウエハ枚数の監視を監視することでエッチング液の管理が容易になる。なお、ここでいうウエハ３０枚という限定は、カセットの容量やエッチング液の濃度によって可変するものであり、例えば、ウエハ１００枚に対して有効になるようカセットの容量やエッチング液の濃度を変更してもよい。

また、上記駆動手段を循環する液体の流れを動力源として回転しており、熱の発生源となるモーターなどの駆動系が存在していないので、上記液体やエッチング液の温度に悪影響を与えることがなく、駆動手段を動作させる電源も不要となり、駆動手段の小型化と省エネルギー化が同時に実現できる。また、上記温度保持手段としての循環する液体の流れに連動して駆動手段が動作するので、スイッチなどの機構を設けることなく、より効率的にエッチング液の攪拌が行なえる。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキをより一層低減させるとともに、小型化で省エネルギー化されたエッチング処理槽が提供できる。

具体的に、上記構成において、上記温度保持手段は、上記内槽の内部または上記カセットの外部に沿って流れるとともに上記内槽からオーバーフローされる上記液体を外部に流出させるための流通路により構成され、かつ上記外槽に形成されていてもよい。

この場合、内槽内のエッチング液の温度を保持するための断熱材などの保持材を別途用いる必要がないため、コストの削減も可能となる。

上記構成において、上記流通路は、上記内槽に沿ってその外方に向かって連続的に積層された状態で形成され、上記内槽からオーバーフローさせた上記液体を、上記内槽側の流通路からその外方に向けて順々に最外方に位置する流通路に流して、この最外方に位置する流通路から外部に流出させてもよい。

この場合、流通路が上記内槽に沿ってその外方に向かって連続的に積層された状態で形成されているので、形成される流通路が内槽に沿った単層の流通路の場合と比較して、内槽に沿ってその外方に向かって連続的に形成された流通路の分だけ断熱層として利用する流通路を厚くすることが可能となり、内槽内のエッチング液の温度を保持するのに好ましい。すなわち、流通路の厚さが増えるにともなって隣り合った流通路間での温度差を小さくすることが可能となる。その結果、外部環境の影響をさらに受けにくくすることが可能となる。また、液体の予め設定した所定温度が維持し易い。

上記構成において、上記外槽の外周面が、断熱材によって被覆されてもよい。

この場合、外槽の外周面が断熱材によって被覆されているので、さらに内槽内のエッチング液の温度を保持するのに好ましい。

また、上記目的を達成するため本発明にかかるエッチング処理装置は、上記したエッチング処理槽と、上記液体を循環させるためのポンプと、上記外槽から排出した上記液体の温度を予め設定した所定温度に制御する温調部と、が備えられ、上記外槽から流出した上記液体を上記ポンプと上記温調部とを介して再び上記内槽に流入させることにより、上記液体を循環させることを特徴とする。

この発明によれば、上記したエッチング処理槽が備えられているので、外槽に流れる液体により内槽内のエッチング液の温度を保持することが可能となる。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させ、中心周波数の合わせ込みも容易に行なうことが可能となる。また、温調部で設定した所定温度を維持し易い。

以上、説明したように、本発明にかかるエッチング処理槽及びエッチング処理槽を備えたエッチング処理装置によれば、内槽内あるいはカセット内のエッチング液の温度を保持して熱分布の偏りをなくし、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させるとともに、外部環境の影響を完全に排除することができる。

すなわち、本発明にかかるエッチング処理槽によれば、温度保持手段が設けられているので、外槽に流れる液体により内槽内のエッチング液の温度を保持することができる。上記内槽の内部、あるいはカセットの内部に配置された磁性材料からなる攪拌体と、当該攪拌体を内槽外部あるいはカセット外部から磁力により動作させる駆動手段が設けられているので、内槽内部あるいはカセット内部のエッチング液が攪拌され液温の不均一をなくす。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させ、中心周波数の合わせ込みも容易に行なうことができる。

また、本発明にかかるエッチング処理装置によれば、上記したエッチング処理槽が備えられているので、外槽に流れる液体により内槽内あるいはカセット内のエッチング液の温度を保持することができる。上記内槽の内部、あるいはカセットの内部に配置された磁性材料からなる攪拌体と、当該攪拌体を内槽外部あるいはカセット外部から磁力により動作させる駆動手段が設けられているので、内槽内部あるいはカセット内部のエッチング液が攪拌され液温の不均一をなくす。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させ、中心周波数の合わせ込みも容易に行なうことができる。また、温調部で設定した所定温度を維持し易い。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下に示す本実施の形態では、エッチング対象物として水晶等のウエハに本発明を適用した場合を示す。なお、従来の実施形態と同様の部分については同番号を付している。

このエッチング処理装置１は、図１に示すように、ドラフト２内部に備えられた、複数枚のウエハ（図示省略）を配しエッチングを行なうエッチング処理槽３と、エッチング処理槽３から流出したエッチング液（図示省略）を貯水するタンク４と、タンク４に貯水したエッチング液の温度を予め設定したエッチング処理可能な温度に上昇させるよう制御する温調部５と、温調部５によって温度調整されたエッチング液をエッチング処理槽３に圧送して流入させるポンプ６と、ポンプ６によってエッチング処理槽３に流入させるエッチング液に含有する不純物を取り除くフィルタ７とが備えられている。

ドラフト２には、外気を取り入れるドラフト開口部２１と、このドラフト開口部２１から取り入れた外気を排気するシャッタ２２ａを有した排気口２２とが形成されている。これらドラフト開口部２１と排気口２２とは、図１に示すように、ドラフト２内部に備えられたエッチング処理槽３の上方に位置するドラフト２の側面２ａに対向して形成されている。また、タンク４と温調部５とポンプ６とフィルタ７とはドラフト２外部に設けられている。

エッチング処理槽３は、円筒状の形状からなり、フィルタ７からエッチング液を流入させるとともにこのエッチング液に複数枚のウエハを浸漬してエッチングする内槽３１と、この内槽３１の側面３１ａ及び底面３１ｂに沿ってその外方に設けられた外槽３２と、この外槽３２の側面３２ａ及び底面３２ｂを被覆した断熱材３３とが備えられてなる。このエッチング処理槽３では、フィルタ７で不純物を取り除いたエッチング液を内槽３１に流入させ、内槽３１に流入させたエッチング液をオーバーフローさせて外槽３２に流入させ、外槽に流入させたエッチング液を外槽３２からタンク４に流出させている。また、前記外槽の開口端部は、前記内槽からの流入部分を除いて当該内槽の開口端部より高い位置に配置されているので、エッチング液が外部にオーバーフローさせることなく、循環させることができる。

また、このエッチング処理槽３には、内槽３１からオーバーフローさせて外槽３２に流入させたエッチング液によって、内槽３１内のエッチング液の温度を予め設定したエッチング処理可能な所定温度に保持する温度保持手段が設けられている。

この温度保持手段は、内槽３１からオーバーフローさせたエッチング液を内槽３１に沿って流すとともにタンク４に流出させるための流通路３４（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）が、外槽３２に形成されてなる。

流通路３４は、内槽３１に沿ってその外方に向かって連続的に形成され、内槽３１からオーバーフローさせたエッチング液を、内槽側の流通路３４ａからその外方に向けて連続的に形成された流通路３４ｂ、３４ｃを順々に介し最外方に位置する流通路３４ｃに流して、この最外方に位置する流通路３４ｃからタンク４に流出させている。また、流通路３４は、外槽３２に仕切板３５が設けられて形成されている。

上記内槽の底面には、フッ素樹脂などにより被覆された磁気回転子（磁性材料からなる攪拌体）８を設定し、上記内槽側の流通路３４ａの底面側には、当該磁気回転子８を磁力により動作させる駆動手段９が設けられている。この駆動手段９は、上部にフッ素樹脂などにより被覆された磁気回転子９１と下部の回転羽根９２が回転軸９３により一体形成されている。このとき、前記磁気回転子８と磁気回転子９１のいずれか一方、または両方を磁石で構成するとよい。なお、磁気回転子８は、回転軸を設けてもよく、例えばプロペラ形状など攪拌効率を高める形状としてもよい。

エッチング処理槽３の上部には例えば断熱材などからなる蓋１０が取り付けられている。

次に、このエッチング処理装置におけるエッチング工程を、図１を用いて以下に説明する。なお、このエッチング処理装置１におけるエッチング液の流れを、図１に矢印を用いて示している。

まず、複数枚のウエハを内槽３１内に配し、蓋１０によって内槽３１を密封し、タンク４にエッチング液を供給する。供給したエッチング液は温調部に流出し、熱交換温調によってエッチング液の温度を予め設定したウエハをエッチングするのに最適な温度（エッチング処理可能な温度）に上昇させるよう制御する。温度制御したエッチング液をポンプ６に流出し、ポンプによって内槽３１に圧送する。この時、フィルタ７によって、内槽３１に圧送するエッチング液に含有する不純物を取り除く。

次に、ポンプ６によって内槽３１に流入させたエッチング液により、ウエハを浸漬してエッチングする。そして、内槽３１に流入させたエッチング液はオーバーフローして外槽３２に流出する。外槽３２に流入させたエッチング液は、流通路３４ａ、３４ｂ、３４ｃを順々に流れて最外層の流通路３４ｃからタンク４に流出する。

そして、タンク４に流入させたエッチング液は、再び温調部５に流出してエッチング液の温度を予め設定したエッチング処理可能な所定温度に上昇させ、ポンプ６とフィルタ７とを介して再び内槽に流入する。以下、同様にしてエッチング液を循環させる。

このとき、循環したエッチング液により、上記回転羽根９２と磁気回転子９１が回転し、磁気回転子９１の磁力につられて、内槽の底面に配置された磁気回転子８も回転する。

上記したエッチング処理槽３を備えたエッチング処理装置１によれば、温度保持手段が設けられているので、外槽３２に流れるエッチング液により内槽３１内のエッチング液の温度を保持することができる。また、上記内槽の底面に配置された磁気回転子８と、当該磁気回転子８を内槽外部から磁力により動作させる駆動手段９が設けられているので、内槽内部のエッチング液が攪拌され液温の不均一をなくす。その結果、エッチング上がりのウエハの周波数のバラツキを低減させ、中心周波数の合わせ込みも容易に行なうことができる。

また、流通路３４は、内槽３１に沿ってその外方に向かって連続的に形成されているので、内槽３１内のエッチング液の温度を保持するための断熱材などの保持材を別途用いる必要がないため、コストの削減もできる。

また、流通路３４が内槽３１に沿ってその外方に積層して形成されているので、形成される流通路が内槽に沿った単層の流通路の場合と比較して、内槽３１に沿ってその外方に向かって連続的に形成された流通路３４の分だけ断熱層として利用する流通路を厚くすることができ、内槽３１内のエッチング液の温度を保持するのに好ましい。すなわち、流通路３４の厚さが増えるにともなって隣り合った流通路間（３４ａ、３４ｂ、３４ｃ）での温度差を小さくすることができる。その結果、外部環境の影響をさらに受けにくくすることができる。また、温調部５で設定したエッチング液の所定温度を内槽３１内で維持し易い。

また、流通路３４は、外槽３２に仕切板３５が設けられて形成されているので、容易に流通路３４を形成することができる。また、仕切板３５を脱着可能な状態で設けられた場合、組み立て分解が容易であり、その結果、メンテナンスを容易に行なうことができる。

また、外槽３２の側面３２ａ及び底面３２ｂが断熱材３３によって被覆されているので、さらに内槽３１内のエッチング液の温度を保持するのに好ましい。

なお、本実施の形態では、複数枚のウェハを同時にエッチングしているが、これに限定されるものではなく、その枚数は１枚であってもよい。

また、本実施の形態では、エッチング処理対象物として水晶ウェハを用いたがこれに限定されるものではなく、複数の水晶片を収納したものでもよく、他の圧電材料や半導体材料、金属材料のエッチングなど他のものであってもよい。

また、本実施の形態では、内槽３１の側面３１ａ及び底面３１ｂに沿って流通路３４が形成されているが、これに限定されるものではなく、例えば、蓋１０に流通路が形成されていてもよい。

また、本実施の形態では、図１に示すような形状の仕切板３５が設けられているが、これに限定されるものではなく、例えばＯリング等であってもよい。

また、本実施の形態では、内槽３１内のエッチング液の温度保持状態を良好な状態にするためにエッチング処理槽３に断熱材３３が設けられているが、これに限定されるものではなく、図２に示すように、断熱材が設けられていなくても本発明の作用効果を有する。

また、温度保持手段により、内槽内のエッチング液の温度を予め設定した所定温度に保持することが可能であれば、その温度の冷温は問わない。

また、本実施の形態では、流通路３４が内槽３１に沿ってその外方に積層して形成されているが、これに限定されるものではなく、図３に示すように、内槽３１に沿って形成されていれば１層からなる流通路３６が形成されていてもよい。図３では、流通路３６が内槽３１に沿ってらせん状に形成されているが、内槽３１に沿って形成されていれば、その流通路３６の形状は限定されるものではない。さらに、図３では、上記磁気回転子８を動作させる駆動手段として、循環した液体の流れを動力源とすることなく、モーターなどの駆動系が備わったマグネットスターラー１１によって磁気回転子８を動作させる機構となっている。

また、本実施の形態では、エッチング液を循環させているが、これに限定されるものではなく、図４に示すように、ウェハを配するカセット７を内槽３１内に設け、このカセット７内にのみエッチング液Ｅを供給して、他の内槽３１内に温水を流入させて循環させてもよい。また、図４に示す符号１２は、パンチングメタル等からなる保持台を示し、このパンチングメタル８は、内槽３１内に流入する水、例えば温水の流れを制御するとともに、カセット７を保持するものである。この形態では、上記カセットの底面に、フッ素樹脂などにより被覆された磁気回転子（磁性材料からなる攪拌体）８を設定し、上記内槽底面の液体の流入口に、当該磁気回転子８を磁力により動作させる駆動手段９が設けられている。この駆動手段９は、上部にフッ素樹脂などにより被覆された磁気回転子９１と下部の回転羽根９２と回転軸９３とを具備し、上記保持台１２に一体的に形成されている。このとき、循環した温水により、上記回転羽根９２と磁気回転子９１が回転し、磁気回転子９の磁力につられて、カセットの底面に配置された磁気回転子８も回転する。

この図４に示すエッチング処理槽３によれば、エッチングされる領域が内槽の内部にあるカセットで実施されるので、内槽で実施する場合と比較して、内槽の分だけ断熱層として利用する流通路をさらに厚くすることができ、カセット内のエッチング液の温度を保持するのにより好ましい。しかも、上記カセットの底面に配置された磁気回転子８と、当該磁気回転子８をカセット外部から磁力により動作させる駆動手段９が設けられ、内槽より狭いカセット内部で攪拌体としての磁気回転子８が回転（動作）することができる。このため、より効率的な攪拌がなされ液温の不均一をなくし、カセット内のエッチング液の組成も均一にすることができる。その結果、エッチング上がりのウェハの周波数のバラツキをより低減させ、中心周波数の合わせ込みもより一層容易に行なうことができだけでなく、ウェハ表面をエッチング処理した場合の、表面粗さも小さくできる。

また、エッチング液は、実際にウェハを浸漬するところでのみ使用するため、無駄にエッチング液を用いる必要がない。ウェハの枚数を監視することができるとともに、エッチング液の管理も容易に行なうことができる。例えば、カセット内部のエッチング液Ｅでのエッチング作用は、ウェハ３０枚に対して有効とした場合、それ以上の枚数のウェハをエッチングする場合、カセット内部のエッチング液Ｅを入れかえる必要があるが、これらのウェハ枚数の監視することでエッチング液の管理が容易になる。なお、ここでいうウェハ３０枚という限定は、カセットの容量やエッチング液の濃度によって可変するものであり、例えば、ウェハ１００枚に対して有効になるようカセットの容量やエッチング液Ｅの濃度を変更してもよい。

さらに、エッチング液を循環させるエッチング処理装置であれば、流通路や配管等に耐ふっ酸性のある材料を選択する必要があり、上記ポンプや温調部等の機構に与える負荷も大きいが、図４に示すエッチング処理槽３によれば、純水を循環水として使用できる為、流通路や配管等に耐ふっ酸性のある材料を選択する必要がなく、上記ポンプや温調部等の機構に与える負荷も小さくできる。

なお、本発明の技術内容から逸脱しない範囲であれば、本発明に例示したものに限らず、様々な実施形態が可能である。

本発明の第１の実施形態にかかるエッチング処理装置の概略構成図である。 本発明の第２の実施形態にかかる、内槽に沿った流通路のみが形成されたエッチング処理槽の概略構成図である。 本発明の第３の実施形態にかかる、断熱材を除いた状態のエッチング処理槽の概略構成図である。 本発明の第４の実施形態にかかる、ウェハを配するカセットを内槽内に設けたエッチング処理槽の概略構成図である。 従来のエッチング処理装置の概略構成図である。

１ エッチング処理装置
３ エッチング処理槽
３１ 内槽
３２ 外槽
３３ 断熱材
３４ 流通路
３４ａ 内槽側の流通路
３４ｃ 最外方に位置する流通路
３５ 仕切板
５ 温調部
６ ポンプ
７ カセット
８ 磁気回転子
９ 駆動手段
１０ 蓋
１１ マグネットスターラー
１２ 保持台

Claims (5)

1. エッチング処理対象物を配する内槽と、この内槽の内部にエッチング液とエッチング処理対象物とを密封した状態で収納してなるカセットと、カセットを保持する保持台と、前記内槽に沿ってその外方に設けられた外槽とが備えられ、前記カセット内でエッチング対象物をエッチング液に浸漬してエッチングするエッチング処理槽において、
   外部から前記内槽に液体としての水を流入し、前記内槽内に流入した液体としての水をオーバーフローさせて前記外槽に流入し、前記外槽に流入した液体としての水を外部に流出するよう、前記内槽と前記外槽とが関連付けられ、前記内槽からオーバーフローして前記外槽に流入した液体としての水によって、前記内槽内のエッチング液の温度を予め設定した所定温度に保持する温度保持手段が設けられ、
   前記カセットの内部に配置された磁性材料からなる攪拌手段と、当該攪拌手段をカセット外部から磁力により回転させる回転手段が設けられ、
   前記回転手段は、前記循環する液体の流れを動力源として回転してなり、循環する液体の流れを制御する保持台に一体的に形成されてなることを特徴とするエッチング処理槽。
2. 前記温度保持手段は、前記内槽の内部または前記カセットの外部に沿って流れるとともに前記内槽からオーバーフローされる前記液体を外部に流出させるための流通路が、前記外槽に形成されてなることを特徴とする請求項１記載のエッチング処理槽。
3. 前記流通路は、前記内槽に沿ってその外方に向かって連続的に形成され、
   前記内槽からオーバーフローさせた前記液体を、前記内槽側の流通路からその外方に向けて連続的に形成された流通路を順々に介し最外方に位置する流通路に流して、この最外方に位置する流通路から外部に流出させることを特徴とする請求項２に記載のエッチング処理槽。
4. 前記外槽の外周面が、断熱材によって被覆されたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載のエッチング処理槽。
5. 請求項１乃至４のいずれか１つに記載のエッチング処理槽と、前記液体を循環させるためのポンプと、前記外槽から排出した前記液体の温度を予め設定した所定温度に制御する熱交換温調材と、が備えられ、
   前記外槽から流出した前記液体を前記ポンプと前記熱交換温調材とを介して再び前記内槽に流入させることにより、前記液体を循環させることを特徴とするエッチング処理装置。

Images