JP4500938B2 - 真空吸引システム - Google Patents
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- B65G47/91—Devices for picking-up and depositing articles or materials incorporating pneumatic, e.g. suction, grippers
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- Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
Description
(1)レベル1(初期設定真空圧:装填率0%時の圧力であってワーク1個でも搬送中に落下が無い最低真空圧) :エア噴射ゼロ
(2)レベル1〜レベル2(装填率が低い状態の真空圧) :エア噴射ゼロ
(3)レベル2〜レベル3(装填率が中位の状態の真空圧) :大気圧によるエア供給
(4)レベル3〜レベル4(装填率が高い状態の真空圧) :大気圧+圧縮エア噴射
(5)レベル4以上 :圧縮エア噴射
2 搬送テーブル
3 テーブルベース
4 ベース
5 ワーク収納孔
6 微小断面吸引溝
7 真空吸引溝
8 真空吸引孔
9 真空配管
10 負圧センサ
10a 制御部
10b ワーク装填率測定部
10c 負圧センサ
11 噴射ノズル
12 圧縮エア配管
16 絞り弁
17 真空発生源
18 電磁弁
19 絞り弁
20 圧縮エア発生源
21 電磁弁
22 大気開放部
23 マニホルド部
26 サーボバルブ
W ワーク
Claims (10)
- 真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続して真空状態に維持される真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構と、
真空配管に接続された負圧センサとを備え、
真空度調整機構は真空配管に第1調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、真空配管に第2調整部を介して接続された大気開放部と、これら第1調整部および第2調整部を制御する制御部とを有し、
制御部は負圧センサにより検知された真空配管内の真空度をもとに定められた真空度レベルに応じて第1調整部と第2調整部を制御して、圧縮エア発生源による圧縮エア噴射と、大気開放部による大気供給とを組み合わせて、真空発生源により生じる真空配管内の真空度を調整することを特徴とする真空吸引システム。 - 制御部は負圧センサからの信号に基づいて真空度を定め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第1調整部および第2調整部のいずれも閉とする段階、第1調整部を閉としかつ第2調整部を開とする段階、第1調整部および第2調整部のいずれも開とする段階、第1調整部を開としかつ第2調整部を閉とする段階となるよう第1調整部と第2調整部を制御することを特徴とする請求項1記載の真空吸引システム。
- 真空漏れ発生部は、ワークを収納するワーク収納孔を有する搬送テーブルを備えていることを特徴とする請求項1記載の真空吸引システム。
- 真空漏れ発生部は、搬送テーブルの真空吸引機構側に設けられ、ワーク収納孔と連通する環状の真空吸引溝を有するテーブルベースを更に備えていることを特徴とする請求項3記載の真空吸引システム。
- 搬送テーブルのテーブルベース側の面に、ワーク収納孔と真空吸引溝との間に位置する微小断面吸引溝を設けたことを特徴とする請求項4記載の真空吸引システム。
- 搬送テーブルのワーク収納孔内に収納されたワークのワーク装填率を求めるワーク装填率測定部を更に備え、
制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて、第1調整部と第2調整部を制御することを特徴とする請求項3記載の真空吸引システム。 - 制御部はワーク装填率測定部からの信号に基づいて真空度を求め、真空度が低いレベルから高いレベルに向って順に、第1調整部および第2調整部のいずれも閉とする段階、第1調整部を閉としかつ第2調整部を開とする段階、第1調整部および第2調整部のいずれも開とする段階、第1調整部を開としかつ第2調整部を閉とする段階となるよう第1調整部と第2調整部を制御することを特徴とする請求項6記載の真空吸引システム。
- 第1調整部と第2調整部は、その開度が可変となっていることを特徴とする請求項1記載の真空吸引システム。
- 第1調整部及び又は第2調整部は、サーボバルブ及び/又はモータ駆動バルブからなることを特徴とする請求項8記載の真空吸引システム。
- 真空漏れ発生部と、
真空発生源と、この真空発生源と真空漏れ発生部とを接続して真空状態に維持される真空配管とを有する真空吸引機構と、
この真空吸引機構の真空配管に接続され、真空配管における真空度を調整する真空度調整機構と、
真空配管に接続された負圧センサとを備え、
真空度調整機構は真空配管に第1調整部を介して接続された圧縮エア発生源と、第1調整部を制御する制御部とを有し、制御部は負圧センサにより検知された真空配管内の真空度をもとに定められた真空度レベルに応じて第1調整部を制御して、圧縮エア発生源による圧縮エア噴射により、真空発生源により生じる真空配管内の真空度を調整することを特徴とする真空吸引システム。
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