JP4498340B2 - 電磁アクチュエータ、電磁アクチュエータの一部を製造する方法、電磁アクチュエータを備えたリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
本明細書において使われる「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように放射線ビームの断面にパターンを付けるために使うことができるあらゆるデバイスを指していると広く解釈されるべきである。なお、放射線ビームに付けたパターンは、たとえば、そのパターンが位相シフト特性(phase-shifting features)またはいわゆるアシスト特性(assist features)を含む場合、基板のターゲット部分内の任意のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射線ビームに付けたパターンは、集積回路などの、ターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。
例示の装置は、以下のモードの少なくとも1つで使うことができると考えられる。
本明細書で用いられる冠詞「a」または「an」は、1つまたは1つ以上と定義される。本明細書で用いられる「複数」という語は、2つまたは2つ以上と定義される。本明細書で用いられる「別の」という語は、少なくとも二番目以降と定義される。本明細書で用いられる「含む」および/または「有する」という語は、包含する(すなわちopen language)と定義される。「結合された」という語は、連結されたと定義されるが、必ずしも直接連結や、機械的連結でなくてもよい。
Claims (5)
- 互いに相対的に移動可能である第1部分と第2部分とを備え、前記第1部分は少なくとも1つのコイルを有し、前記第2部分は、前記少なくとも1つのコイルと相互作用する複数の永久磁石を有しており、前記第2部分には、前記永久磁石に隣接して配された冷却構造体が設けられており、
前記永久磁石は、互いに空間をあけてキャリアプレート上に取り付けられ、前記冷却構造体は、隣接する永久磁石と永久磁石との間に位置する、永久磁石の高さとほぼ同一またはこれよりも低い高さを有する冷却ダクトを含み、
前記冷却ダクトは、第2プレート上に配され、前記第2プレートは、前記永久磁石と前記少なくとも1つのコイルとの間に配される、電磁アクチュエータ。 - 互いに相対的に移動可能である第1部分と第2部分とを備え、前記第1部分は少なくとも1つのコイルを有し、前記第2部分は、前記少なくとも1つのコイルと相互作用する複数の永久磁石を有しており、前記第2部分には、前記永久磁石に隣接して配された冷却構造体が設けられており、
前記永久磁石は、その第1面にてキャリアプレート上に互いに空間をあけて取り付けられ、前記第1面の反対側である第2面にて第2プレート上に取り付けられ、これにより隣接する永久磁石と永久磁石との間に冷却ダクトが形成される、電磁アクチュエータ。 - 互いに相対的に移動可能である第1部分と第2部分とを備え、前記第1部分は少なくとも1つのコイルを有し、前記第2部分は、前記少なくとも1つのコイルと相互作用する多数の永久磁石を有しており、前記第2部分には、前記永久磁石に隣接して配された冷却構造体が設けられており、
前記永久磁石は、互いに空間をあけて第1ピッチでキャリアプレート上に取り付けられ、
前記冷却構造体は、前記第1ピッチと等しい第2ピッチで配された、前記多数の永久磁石を覆う多数の冷却ダクトを有し、
前記冷却ダクトは、前記永久磁石と前記少なくとも1つのコイルとの間に配される、電磁アクチュエータ。 - 電磁アクチュエータの一部を製造する方法であって、
キャリアプレートを設けること、
複数の永久磁石を、前記キャリアプレート上に、該永久磁石間にある幅を有する空間をあけたピッチで取り付けること、
第2プレートを設けること、
実質的に前記幅を有する複数の冷却ダクトを、前記第2プレート上に前記ピッチで取り付けること、および
各永久磁石が前記冷却ダクトの少なくとも1つに隣接して配されるように、前記永久磁石を有する前記キャリアプレートと、前記冷却ダクトを有する前記第2プレートとを組み立てること
を備える方法。 - パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニング支持体と、
基板を支持するように構成された基板支持体と
を備えており、
前記パターニング支持体と前記基板支持体のうち少なくとも一方が電磁アクチュエータによって動かされ、該アクチュエータは、互いに相対的に移動可能である第1部分と第2部分とを備えており、前記第1部分は少なくとも1つのコイルを有し、前記第2部分は前記少なくとも1つのコイルと相互作用する複数の永久磁石を有しており、前記第2部分には、前記永久磁石に隣接して配された冷却構造体が設けられており、
前記永久磁石は、互いに空間をあけてキャリアプレート上に取り付けられ、前記冷却構造体は、隣接する永久磁石と永久磁石との間に位置する、永久磁石の高さとほぼ同一またはこれよりも低い高さを有する冷却ダクトを含み、
前記冷却ダクトは、第2プレート上に配され、前記第2プレートは、前記永久磁石と前記少なくとも1つのコイルとの間に配される、リソグラフィ装置。
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