JP5795454B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
リソグラフィ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5795454B2 JP5795454B2 JP2015510747A JP2015510747A JP5795454B2 JP 5795454 B2 JP5795454 B2 JP 5795454B2 JP 2015510747 A JP2015510747 A JP 2015510747A JP 2015510747 A JP2015510747 A JP 2015510747A JP 5795454 B2 JP5795454 B2 JP 5795454B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- coil
- lithographic apparatus
- substrate
- heater device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
[0001] 本出願は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、2012年5月9日出願の米国仮特許出願第61/644,860号の利益を主張する。
[0002] 本発明は、リソグラフィ装置に関する。
1.ステップモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」を基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」を同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」に対する基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」を基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTすなわち「基板サポート」を動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (10)
- 熱源を備えた第1本体と、
第2本体と、
ヒータデバイスと、を備え、
前記第2本体は、前記第1本体と前記第2本体との間のギャップを介して前記第1本体に対向する対向面を有し、前記熱源は、前記ギャップを介して前記第2本体へと熱流束を提供し、前記ヒータデバイスは前記対向面に取り付けられ、前記ヒータデバイスは、前記第2本体にさらなる熱流束を提供する、
リソグラフィ装置。 - 前記第2本体は、光学コンポーネントを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- ムーバおよびコイルを有するアクチュエータを備え、前記コイルは前記ムーバを前記コイルに対して移動し、前記コイルは前記熱源を備え、前記第2本体は前記ムーバを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1本体は、前記コイルを支持するコア要素(CE)を備え、前記コア要素は、前記熱源から前記ギャップへと前記熱流束を伝達するように配置される、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コア要素(CE)は前記コイルを包囲する、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コア要素(CE)は、前記ギャップを介して前記対向面に対向する表面を有する、請求項4又は5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2本体の温度に基づき信号を送信する温度センサを備え、前記ヒータデバイスは前記信号に基づいて前記さらなる熱流束を提供し、前記対向面は対向面部分を有し、前記対向面部分は前記表面に対向しており、前記温度センサは、前記対向面上にあり、かつ、前記ヒータデバイスよりも、前記対向面部分により近い、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影する投影システムと、
前記基板を保持する基板テーブルと、を備え、
前記第2本体は前記基板テーブルを備え、前記アクチュエータは、前記投影システムに対して前記基板テーブルを移動させる、
請求項3〜7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータはリラクタンスモータである、請求項3〜8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ヒータデバイスはヒータ膜を備える、請求項1〜9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261644860P | 2012-05-09 | 2012-05-09 | |
US61/644,860 | 2012-05-09 | ||
PCT/EP2013/059157 WO2013167463A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-05-02 | Lithographic apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015517732A JP2015517732A (ja) | 2015-06-22 |
JP5795454B2 true JP5795454B2 (ja) | 2015-10-14 |
Family
ID=48430701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015510747A Active JP5795454B2 (ja) | 2012-05-09 | 2013-05-02 | リソグラフィ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9696640B2 (ja) |
JP (1) | JP5795454B2 (ja) |
NL (1) | NL2010747A (ja) |
WO (1) | WO2013167463A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2022210A (en) * | 2018-01-19 | 2019-07-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, an operating method and device manufacturing method |
DE102018130290A1 (de) * | 2018-11-29 | 2020-06-04 | Asml Netherlands B.V. | Aktuatoreinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage |
US10444624B1 (en) | 2018-11-30 | 2019-10-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Active metrology frame and thermal frame temperature control in imprint lithography |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2809917B2 (ja) | 1992-01-13 | 1998-10-15 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム露光方法および装置 |
JP2760213B2 (ja) * | 1992-05-29 | 1998-05-28 | 富士通株式会社 | 電子ビーム露光方法及び装置 |
JP3870002B2 (ja) * | 2000-04-07 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP2003009503A (ja) * | 2001-06-15 | 2003-01-10 | Canon Inc | リニアモータ及びそれを用いたxy駆動テーブル |
US7105836B2 (en) * | 2002-10-18 | 2006-09-12 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for cooling a reticle during lithographic exposure |
JP2005026288A (ja) | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Nikon Corp | 電磁アクチュエータ、ステージ装置、並びに露光装置 |
US7355308B2 (en) * | 2003-08-21 | 2008-04-08 | Nikon Corporation | Mover combination with two circulation flows |
JP2006024050A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Nsk Ltd | 微小位置決め装置 |
US7019308B2 (en) | 2004-09-01 | 2006-03-28 | Leica Microsystems Lithography Ltd. | Thermal compensation in magnetic field influencing of an electron beam |
JP2006287014A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Canon Inc | 位置決め装置およびリニアモータ |
US10054754B2 (en) * | 2009-02-04 | 2018-08-21 | Nikon Corporation | Thermal regulation of vibration-sensitive objects with conduit circuit having liquid metal, pump, and heat exchanger |
NL2004847A (en) * | 2009-06-30 | 2011-01-04 | Asml Holding Nv | Method for controlling the position of a movable object, a control system for controlling a positioning device, and a lithographic apparatus. |
US9081307B2 (en) * | 2010-07-09 | 2015-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Variable reluctance device, stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2013012718A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置 |
-
2013
- 2013-05-02 JP JP2015510747A patent/JP5795454B2/ja active Active
- 2013-05-02 WO PCT/EP2013/059157 patent/WO2013167463A1/en active Application Filing
- 2013-05-02 NL NL2010747A patent/NL2010747A/en not_active Application Discontinuation
- 2013-05-02 US US14/399,870 patent/US9696640B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015517732A (ja) | 2015-06-22 |
US20150098067A1 (en) | 2015-04-09 |
US9696640B2 (en) | 2017-07-04 |
NL2010747A (en) | 2013-11-12 |
WO2013167463A1 (en) | 2013-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4718536B2 (ja) | 基板支持体およびリソグラフィ装置 | |
JP4686527B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US7359029B2 (en) | Lithographic apparatus and method of reducing thermal distortion | |
JP4495046B2 (ja) | リソグラフィ装置、照明システムを有する装置、投影システムを有する装置、リソグラフィ装置の光学要素およびデバイス製造方法 | |
JP5539251B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2010068003A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6140191B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4783829B2 (ja) | 冷却のための装置 | |
JP2008277822A (ja) | リソグラフィ装置 | |
KR101676741B1 (ko) | 리소그래피 방법 및 장치 | |
JP4879844B2 (ja) | リソグラフィ装置、冷却デバイス、およびデバイス製造方法 | |
JP5795454B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP4668248B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2008227489A (ja) | リソグラフィ装置および方法 | |
JP2017526952A (ja) | 調節システム及び調節システムを備えるリソグラフィ装置 | |
JP4498340B2 (ja) | 電磁アクチュエータ、電磁アクチュエータの一部を製造する方法、電磁アクチュエータを備えたリソグラフィ装置 | |
KR101303677B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP6387421B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2019509521A (ja) | パターニングデバイス冷却システム及びパターニングデバイスを熱調節する方法 | |
JP2007318120A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150723 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150812 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5795454 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |