JP2013012718A - 近接露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Wを保持するワークステージ2をステップ駆動するワーク駆動部は、第1固定子、及び第1固定子に対向配置された第1可動子を備える第1リニアモータ30と、第2固定子、及び第2固定子に対向配置された第2可動子を備える第2リニアモータ40とで構成される。第1及び第2可動子に沿って配設された冷媒循環路と、冷媒を循環供給する第1及び第2可動子側冷媒供給装置と、冷媒循環路の入口付近及び出口付近に配設されて、冷媒の温度を検出する温度センサとを備え、温度センサによって検出された冷媒の温度に基づいて、リニアモータ30、40から基板Wに伝達される熱量が一定となるように温度管理される。
【選択図】図1
Description
(1) 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、
前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、
を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記ワーク駆動部は、固定子と、前記固定子に対向配置された可動子と、を備えるリニアモータであり、
前記可動子に沿って配設された可動子側冷媒循環路と、
前記可動子側冷媒循環路に冷媒を循環供給する可動子側冷媒供給装置と、
前記可動子側冷媒循環路の入口及び出口に配設されて、前記可動子側冷媒循環路の入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度を検出する温度センサと、
をさらに備え、
前記リニアモータの温度管理は、前記リニアモータから前記ワークに伝達される熱量が一定となるように、前記可動子側冷媒循環路への入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度に基づいて行われることを特徴とする近接露光装置。
(2) 前記リニアモータは、
基台に固定されたベースに配設された第1固定子、及び前記ベースに対して水平面内の所定の方向に移動可能な第1ステージに配設され、前記第1固定子に対向配置された第1可動子、を有する第1リニアモータと、
前記第1ステージに配設された第2固定子、及び前記第1ステージに対して前記所定の方向と直交する直交方向に移動可能な第2ステージに配設され、前記第2固定子に対向配置された第2可動子、を有する第2リニアモータと、
から構成され、
前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第1可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第2可動子側冷媒循環路と、
を備えることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第3可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第4可動子側冷媒循環路と、
をさらに備えることを特徴とする(2)に記載の近接露光装置。
(4) 前記可動子側冷媒供給装置は、
前記第1可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第1可動子側冷媒供給装置と、
前記第1可動子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第2可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第2可動子側冷媒供給装置と、
を備えることを特徴とする(2)に記載の近接露光装置。
(5) 前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第3可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第4可動子側冷媒循環路と、
をさらに備え、
前記可動子側冷媒供給装置は、
前記第3可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第3可動子側冷媒供給装置と、
前記第3可動子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第4可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第4可動子側冷媒供給装置と、
をさらに備えることを特徴とする(4)に記載の近接露光装置。
(6) 前記可動子側冷媒供給装置は、前記近接露光装置から隔離して配置されることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(7) 前記固定子に沿って配設された固定子側冷媒循環路と、
前記固定子側冷媒循環路に冷媒を循環供給する固定子側冷媒供給装置と、
前記固定子側冷媒循環路の入口及び出口に配設されて、前記固定子側冷媒循環路の入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度を検出する温度センサと、
をさらに備え、
前記リニアモータの温度管理は、前記リニアモータから前記ワークに伝達される熱量が一定となるように、前記固定子側冷媒循環路への入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度に基づいて行われることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(8) 前記リニアモータは、
基台に固定されたベースに配設された第1固定子、及び前記ベースに対して水平面内の所定の方向に移動可能な第1ステージに配設され、前記第1固定子に対向配置された第1可動子、を有する第1リニアモータと、
前記第1ステージに配設された第2固定子、及び前記第1ステージに対して前記所定の方向と直交する直交方向に移動可能な第2ステージに配設され、前記第2固定子に対向配置された第2可動子、を有する第2リニアモータと、
から構成され、
前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第1固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第2固定子側冷媒循環路と、
を備えることを特徴とする(7)に記載の近接露光装置。
(9) 前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第3固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第4固定子側冷媒循環路と、
をさらに備えることを特徴とする(8)に記載の近接露光装置。
(10) 前記固定子側冷媒供給装置は、
前記第1固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第1固定子側冷媒供給装置と、
前記第1固定子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第2固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第2固定子側冷媒供給装置と、
を備えることを特徴とする(8)に記載の近接露光装置。
(11) 前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第3固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第4固定子側冷媒循環路と、
をさらに備え、
前記固定子側冷媒供給装置は、
前記第3固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第3固定子側冷媒供給装置と、
前記第3固定子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第4固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第4固定子側冷媒供給装置と、
をさらに備えることを特徴とする(10)に記載の近接露光装置。
(12) 前記固定子側冷媒供給装置は、前記近接露光装置から隔離して配置されることを特徴とする(7)に記載の近接露光装置。
以下、本発明に係る近接露光装置の第1実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明の第1実施形態に係るステップ式近接露光装置の部分破断正面図であり、ステップ式近接露光装置PEは、図1に示すように、被露光材としての基板Wより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ1で保持すると共に、基板Wをワークステージ2で保持し、マスクMと基板Wとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照射手段3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンを基板W上に露光転写する。また、ワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
次に、第2実施形態の近接露光装置について、図6及び図7を参照して説明する。第1実施形態では、可動子に沿って冷媒循環路が配設される構成について説明したが、本実施形態では、固定子に沿って冷媒循環路が配設される構成を含む。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
2 ワークステージ(ワーク保持部)
3 照射手段
4 ベース
5a X軸送り台(第1ステージ)
6a Y軸送り台(第2ステージ)
26 フランジ(マスク保持部)
30 第1リニアモータ(ワーク駆動部)
31 第1固定子
32 第1可動子
35 第1可動子側冷媒循環路(可動子側冷媒循環路)
36a、36b、46a、46b、51a、51b、61a、61b、71a、71b、75a、75b、81a、81b、85a、85b 温度センサ
37 第1可動子側冷媒供給装置(可動子側冷媒供給装置)
40 第2リニアモータ(ワーク駆動部)
41 第2固定子
42 第2可動子
45 第2可動子側冷媒循環路(可動子側冷媒循環路)
47 第2可動子側冷媒供給装置(可動子側冷媒供給装置)
50 第3可動子側冷媒循環路(可動子側冷媒循環路)
60 第4可動子側冷媒循環路(可動子側冷媒循環路)
70 第1固定子側冷媒循環路(固定子側冷媒循環路)
73 第1固定子側冷媒供給装置(固定子側冷媒供給装置)
74 第3固定子側冷媒循環路(固定子側冷媒循環路)
80 第2固定子側冷媒循環路(固定子側冷媒循環路)
83 第2固定子側冷媒供給装置(固定子側冷媒供給装置)
84 第4固定子側冷媒循環路(固定子側冷媒循環路)
M マスク
PE 近接露光装置
W 基板(ワーク、被露光材)
Claims (12)
- 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、
前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、
を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記ワーク駆動部は、固定子と、前記固定子に対向配置された可動子と、を備えるリニアモータであり、
前記可動子に沿って配設された可動子側冷媒循環路と、
前記可動子側冷媒循環路に冷媒を循環供給する可動子側冷媒供給装置と、
前記可動子側冷媒循環路の入口及び出口に配設されて、前記可動子側冷媒循環路の入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度を検出する温度センサと、
をさらに備え、
前記リニアモータの温度管理は、前記リニアモータから前記ワークに伝達される熱量が一定となるように、前記可動子側冷媒循環路への入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度に基づいて行われることを特徴とする近接露光装置。 - 前記リニアモータは、
基台に固定されたベースに配設された第1固定子、及び前記ベースに対して水平面内の所定の方向に移動可能な第1ステージに配設され、前記第1固定子に対向配置された第1可動子、を有する第1リニアモータと、
前記第1ステージに配設された第2固定子、及び前記第1ステージに対して前記所定の方向と直交する直交方向に移動可能な第2ステージに配設され、前記第2固定子に対向配置された第2可動子、を有する第2リニアモータと、
から構成され、
前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第1可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第2可動子側冷媒循環路と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。 - 前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第3可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第4可動子側冷媒循環路と、
をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の近接露光装置。 - 前記可動子側冷媒供給装置は、
前記第1可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第1可動子側冷媒供給装置と、
前記第1可動子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第2可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第2可動子側冷媒供給装置と、
を備えることを特徴とする請求項2に記載の近接露光装置。 - 前記可動子側冷媒循環路は、
前記第1可動子に沿って前記第1ステージに配設された第3可動子側冷媒循環路と、
前記第2可動子に沿って前記第2ステージに配設された第4可動子側冷媒循環路と、
をさらに備え、
前記可動子側冷媒供給装置は、
前記第3可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第3可動子側冷媒供給装置と、
前記第3可動子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第4可動子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第4可動子側冷媒供給装置と、
をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の近接露光装置。 - 前記可動子側冷媒供給装置は、前記近接露光装置から隔離して配置されることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 前記固定子に沿って配設された固定子側冷媒循環路と、
前記固定子側冷媒循環路に冷媒を循環供給する固定子側冷媒供給装置と、
前記固定子側冷媒循環路の入口及び出口に配設されて、前記固定子側冷媒循環路の入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度を検出する温度センサと、
をさらに備え、
前記リニアモータの温度管理は、前記リニアモータから前記ワークに伝達される熱量が一定となるように、前記固定子側冷媒循環路への入口付近及び出口付近での前記冷媒の温度に基づいて行われることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。 - 前記リニアモータは、
基台に固定されたベースに配設された第1固定子、及び前記ベースに対して水平面内の所定の方向に移動可能な第1ステージに配設され、前記第1固定子に対向配置された第1可動子、を有する第1リニアモータと、
前記第1ステージに配設された第2固定子、及び前記第1ステージに対して前記所定の方向と直交する直交方向に移動可能な第2ステージに配設され、前記第2固定子に対向配置された第2可動子、を有する第2リニアモータと、
から構成され、
前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第1固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第2固定子側冷媒循環路と、
を備えることを特徴とする請求項7に記載の近接露光装置。 - 前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第3固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第4固定子側冷媒循環路と、
をさらに備えることを特徴とする請求項8に記載の近接露光装置。 - 前記固定子側冷媒供給装置は、
前記第1固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第1固定子側冷媒供給装置と、
前記第1固定子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第2固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第2固定子側冷媒供給装置と、
を備えることを特徴とする請求項8に記載の近接露光装置。 - 前記固定子側冷媒循環路は、
前記第1固定子に沿って前記ベースに配設された第3固定子側冷媒循環路と、
前記第2固定子に沿って前記第1ステージに配設された第4固定子側冷媒循環路と、
をさらに備え、
前記固定子側冷媒供給装置は、
前記第3固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第3固定子側冷媒供給装置と、
前記第3固定子側冷媒供給装置から独立して配置され、前記第4固定子側冷媒循環路に前記冷媒を循環供給する第4固定子側冷媒供給装置と、
をさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の近接露光装置。 - 前記固定子側冷媒供給装置は、前記近接露光装置から隔離して配置されることを特徴とする請求項7に記載の近接露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012107457A JP2013012718A (ja) | 2011-05-27 | 2012-05-09 | 近接露光装置 |
CN201210169115.4A CN102854752B (zh) | 2011-05-27 | 2012-05-28 | 接近式曝光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011119485 | 2011-05-27 | ||
JP2011119485 | 2011-05-27 | ||
JP2012107457A JP2013012718A (ja) | 2011-05-27 | 2012-05-09 | 近接露光装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=47686313
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A02 | Decision of refusal |
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