JP2003209962A - リニアモータ及びステージ装置 - Google Patents
リニアモータ及びステージ装置Info
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Abstract
すことによって、制御性の高いリニアモータを提供す
る。 【解決手段】磁石(11)と、ハウジング(23)に覆
われたコイル(21)とを有するリニアモータであっ
て、ハウジング(23)が第1流路(20a)と、この
第1流路(20a)とは独立した第2流路(20b)と有
し、第1流路(20a)を流れる第1冷媒の方向と、第
2流路(20b)を流れる第2冷媒の方向とを異ならせ
る制御装置(100)を備えている。
Description
それを用いたステージ装置に関するものである。
微細化が求められることによって、半導体製造装置、例
えば、前記パターンをウエハ上に露光するための露光装
置等においては、精度に関する要求が一層厳しいものと
なっている。このような露光装置に搭載されるステージ
装置には、nmオーダーの位置決め精度が必要とされ
る。
ニアモータは、気体軸受(例えば空気軸受)と共にステ
ージ移動での摩擦を大幅に排除できることで、位置決め
精度の向上に貢献してきた。しかし、複数のコイルから
なるリニアモータの電機子は、発熱体として周囲に与え
る温度影響があるため、位置決め精度を確保するに冷媒
を用いて強制冷却をしていた。この冷媒を用いた冷却
は、複数のコイルをハウジングで覆って電機子を構成
し、ハウジング内部に冷媒を流すことにより複数のコイ
ルを冷却して電機子の温度上昇を抑えるものである。
度と共に高いスループットが求められており、この半導
体露光装置に搭載されるステージ装置には高制御性、高
加速度、高速度、長いストロークなどが求められてき
た。従って、半導体露光装置のステージ装置の駆動に用
いられるリニアモータにも同様の性能が必要とされてい
る。特に高加速度を必要とされる場合には、可動部の質
量を小さくすると共に、リニアモータの推力を大きくす
ることが重要となる。推力を大きくするためには、磁束
密度の高い永久磁石を使う、コイルの巻数を多くする、
コイルへ通す電流を大きくするなどの方法がある。しか
しながら、永久磁石においてはコスト、減磁などの観点
から選べる磁石が限定され、また、コイルへの電流値も
アンプなどの制御装置から限定される。したがって、一
般的にはコイルの巻数を増やすことで対処される。この
ようなリニアモータでは、コイルからの発熱量が増大す
るために冷媒の流量を増やすことになるが、内部の圧力
が大きくなってハウジングが変形し、永久磁石と接触し
てしまうという問題が発生する。また、予め変形を考慮
して永久磁石とハウジングとの空隙を大きくするとモー
タ効率が下がってしまい、大きな推力を出すためには大
電流が必要となるという問題が発生する。
ウジング形状としては、円筒形状のものがあり、特開2
001−218443号公報には、電機子のハウジング
形状が円筒形であるリニアモータが開示されている。特
開2001−218443号公報に開示されているリニ
アモータは、円柱形の永久磁石を丸管の中に多数配置し
て両端をブロックにより封じ込めて固定子を構成し、こ
の丸管の一部分を囲む円筒形ハウジングに円筒コイルを
多数内包して可動子を構成している。以下、この型のリ
ニアモータをシャフト型リニアモータと称する。
を丸管の中に多数配置して両端をブロックにより封じ込
めて固定子を構成し、この丸管の一部分を囲む円筒形ハ
ウジングに円筒形の永久磁石を多数内包して可動子を構
成するものもある。
ト型リニアモータの構造を示す斜視図であり、円筒形の
永久磁石からなる固定子10と、複数の円筒コイルから
なる可動子20とから構成されている。
複数の円筒コイルを覆うハウジングとの間に冷却用の流
路が設けられている。可動子20の両端には冷媒の導入
口20aと排出口20bとが設けられている。
対応するには、円筒コイルの周方向に巻数を増やすこと
は永久磁石から離れる方向になるので得策ではなく、円
筒コイルを永久磁石の配列方向に増やすことになる。こ
のことは可動子20の全長が長くなることを意味する。
型リニアモータの場合、可動子20が長くなることによ
って製造が難しくなり、形状精度や組立精度が下がって
しまう。コイル・アセンブリの真直度や同心度、ハウジ
ングの真直度や同心度、そして、コイル・アセンブリと
ハウジングとの位置決め精度などである。これらの精度
の悪化は、冷媒流路の不均一をもたらす。したがって、
円筒コイルの冷却でバラツキが生じるため、ハウジング
表面の温度は一様にならず、場所による温度ムラを生み
出す。
ニアモータのみならず、可動子20の周囲に良からぬ影
響を与える。特に、部分的な温度ムラがあると空気の揺
らぎが発生するため、ステージの移動距離を計測する光
干渉式測長計においては光路変化による計測誤差を生じ
てしまう。前述のようにnmオーダーの位置決め精度を
要求されるステージ装置においては無視できない計測誤
差となってしまう。特に、可動子20が長く、移動距離
も長い場合においてはなおさらである。このため、この
ようなリニアモータを用いたステージ装置においては、
温度ムラに起因して位置決め精度が劣化してしまうとい
う問題点があった。
ラを無くすことによって、制御性の高いリニアモータを
提供することと、並びにこのリニアモータを用いること
により、大推力を必要とされる高加速度の移動であって
も、位置決め精度の高いステージ装置を提供することを
目的とする。
施例を表す図に対応つけて説明すると、請求項1記載の
リニアモータは、磁石(11)と、ハウジング(23)
に覆われたコイル(21)とを有するリニアモータであ
って、ハウジング(23)が第1流路(20a)と、こ
の第1流路(20a)とは独立した第2流路(20b)と
有し、第1流路(20a)を流れる第1冷媒の方向と、
第2流路(20b)を流れる第2冷媒の方向とを異なら
せる制御装置(100)を備えている。
(100)が、第1冷媒の圧力と、第2冷媒との圧力と
を異ならせている。請求項3記載のリニアモータは、第
1冷媒と第2冷媒とが異なる冷媒である。
グ(23)の外側に第1流路(20b)と第2流路(2
0b)とは異なる第3流路(37)を設けている。請求
項5記載のリニアモータは、ハウジング(23)内部
に、磁石(11)を冷却する磁石冷却部(13、20
c、20d)を備えている。
部(13、20c、20d)が2つの独立した流路(20
c、20d)を有している。請求項7記載のリニアモータ
は、磁石(11)が円筒形状の磁石であり、磁石冷却部
(13、20c、20d)が円筒形状の磁石(11)の円
筒部に設けられた非磁性体(13)を有している。
(20a)と第2流路(20b)とのいずれか一方が磁石
(11)に連通する連通部(20h)を備えている。請
求項9記載のステージ装置は、試料を保持して移動する
ステージ(4)を備えたステージ装置であって、請求項
1から8のいずれか1項記載のリニアモータを用いてス
テージ(4)を駆動している。
用いて説明する。図1は、ステージ装置1の構造を示す
斜視図である。このステージ装置1は、1軸移動の装置
で、石定盤もしくはセラミックなどからなるベース3
と、試料(例えばパタ−ンを有したマスク)を保持して
ベース3上を移動可能なテーブル4(ステージ)とを有
している。テーブル4は、気体軸受けである空気軸受5
を用いて、ベース3に形成された案内6に沿って移動す
るものであり、このテーブルの移動には、ベースに設け
られた固定子10と、テーブル4に固定された移動子2
0とを有する2組のシャフト型リニアモータが用いられ
ている。なお、制御装置100は、ステージ装置1全体
を制御するものであり、本実施例においては、特に固定
子10の冷却を制御している(詳細は後述)。
るシャフト型リニアモータの断面を表す図であり、以
下、この図2に沿ってシャフト型リニアモータの構成を
更に説明する。
管)12に多数の永久磁石11を内包して不図示の両端
のブロックを用いて多数の永久磁石11を封じ込めてい
る。永久磁石11は、円柱形をしており、同極同士が向
き合う形で円筒状部材12内に配置される。また、図示
していないが、同極の磁石の間にポールピースとして円
柱形の磁性体を挟むことにより、組込時の磁石同士の反
発力を和らげることができる。磁石と磁石、あるいは磁
石とポールピースとは接着剤によって固着され、円筒状
部材12の両端をそれぞれ非磁性のブロック(不図示)
に固定することにより、磁石列を保持している。
21と、コイル支持体22と、コイル組立体21を取り
囲むハウジング23とから構成される。コイル組立体2
1は、円筒形状であり、円筒状部材12と略同心状の円
筒管に複数の円筒コイルを有した円筒コイル21cと、
円筒コイル21cを一体的に固定している非磁性且つ非
導電体製の外皮21sとからなる。円筒コイル21cを
構成するコイル単体は、絶縁被膜電線(エナメル線)に
よって構成され、円周方向と長さ方向に多段多列に巻回
された円筒形状をしている。この絶縁被膜電線は丸線で
あっても角線であってもよい。一本の電線で多段多列に
形成する必要はなく、複数の線で構成して結線し、多段
多列に形成してもよい。このコイル単体の長さは、複数
の永久磁石11によって形成される磁極ピッチによって
決まる。コイル単体の長さが決まっている場合、リニア
モータの推力を大きくするために巻数を多くしようとす
れば電線の線径を細くすることになるが、抵抗値が大き
くなって好ましくない。線径と巻数とは磁気設計と電気
設計との最適値によって決定される。コイル数は必要と
されるリニアモータの推力により決定される。このた
め、大きな推力が必要であれば多くのコイル単体を必要
とする。円筒コイル21cは、コイル単体の内周部分を
揃えて端面部分を密着し、非磁性且つ非導電体製の外皮
21sによって一体化されている。その際、各コイル間
を電気的に結線しておく必要がある。最終的には、コイ
ル組立体21の端面側若しくは両端面側からコネクター
(不図示)に接続される線のみが出ている。
しては、樹脂やセラミックが用いられる。成形用金型を
用いて、コイル集合体の周囲に直接外皮を形成する、あ
るいは、予め用意しておいた外皮にコイル集合体を接着
剤によって固定するなどの方法により一体化される。
位置決めしてハウジング23に固定するためのブロック
であり、コイル組立体21の両端面のそれぞれに配置さ
れている。コイル支持体22はコイル組立体21側にお
いては組立体端面の一部とこの端面近傍の内周面あるい
は外周面の一部とに当接して接着固定される。当接箇所
を一部にしているのは、後述の流体の通路(流路)を多
く確保するためである。なお、コイル支持体22は、非
磁性且つ非導電性の樹脂やセラミックが望ましいが、低
導電性且つ非磁性の金属材であっても構わない。
互いに同心円状に位置して径の異なる三つの丸管(以
下、内管23u,中管23n,外管23gという)と、
内管23uと中管23nと外管23gとの長手方向両端
を保持する少なくとも二つ以上のブロック(右蓋23r
と不図示の左蓋)とで構成される。不図示の左蓋は、不
図示であるが、構造としては右蓋23rと同じである。
これらハウジング23を構成する部材には、低導電性且
つ非磁性の金属材、非磁性且つ非導電性の樹脂やセラミ
ックを用いることができる。金属部材同士の結合には、
強度、密閉性から溶接が望ましいが、接着やカシメ、ネ
ジによる締結であっても構わない。金属以外の部材の結
合には接着やネジなどが用いられる。図2では、内管2
3uと外管23gは溶接で右蓋23rに固定されてお
り、中管23nはOリング24aに接しながら接着剤2
5aによって固定されている。
位置関係については上述の通りであり、以下、コイル支
持体22とハウジング23との位置関係について説明す
る。コイル支持体22はコイル組立体21の両端にそれ
ぞれ固定されている。コイル組立体21の内周あるいは
外周に当接しているコイル支持体22の裏側は、ハウジ
ング23の内管23uの外周あるいは中管23nの内周
に当接してラジアル方向の位置決めとなっている。ま
た、コイル組立体21の端面に当接しているコイル支持
体22の裏側は、ハウジング23の右蓋23r、左蓋に
それぞれ当接してスラスト方向の位置決めとなってい
る。
23rと不図示の左蓋との一方の蓋が既に付けられてい
る筒に、コイル支持体22が固定されているコイル組立
体21を挿入し、コネクターへの配線を行ってから、他
方の蓋をコイル支持体22に当接させて溶接あるいは接
着固定し、管に結合させて完成させる。
体を導入および排出するための配管口、さらにはコイル
へ電流を流すためのコネクターが配置される。図2に示
す右蓋23rには、二系統の通路20a,20b(以
下、第1の通路20a、第2の通路20bという)に対
応する配管口26a,26bが設けてある。なお、配管
口26a,26bは、Oリング24bによりシールされ
ている。
3n、右蓋23r、及び不図示の左蓋によって形成され
ている。一方、第2の通路20bは、中管23n、外管
23g、右蓋23r及び不図示の左蓋によって形成され
ている。この第1の通路20aと第2の通路20bとは
独立しており、ハウジング23内で交わることはない。
なお、第1の通路20aと第2の通路20bとに供給す
る冷媒としては、不活性冷媒が好ましく、液体でも気体
でもかまわない。また、第1の通路20aと第2の通路
20bとに同じ冷媒を流してもいいし、熱の吸収効率が
異なる冷媒を流してもかまわない。
アモータの固定子10の制御装置100による冷却動作
について以下説明する。制御装置100は、第1の通路
20aと第2の通路20bで冷媒の流れる方向を逆にす
ることにより、ハウジング23表面の温度ムラを抑える
(図1に矢印で示す流路を参照)。
0は、第1の通路20aにおいて不図示の左蓋に設けら
れた配管口より冷媒を流し込み、右蓋23rに設けられ
た配管口26aより冷媒を排出するように制御する。す
なわち第1の通路20aでの冷媒の流れは図2の左側か
ら右側になる。このため、冷媒は配管口26aに近づく
に連れて温度が高くなっており、内管23uと中管23
nの表面温度は図2の右側になるにつれ高くなる。
bにおいては右蓋23rに設けられた配管口26bより
冷媒を流し込み、不図示の左蓋に設けられた配管口より
冷媒を排出するように制御する。すなわち第2の通路2
0bでの冷媒の流れは図2の右側から左側にする。中管
23nの表面温度の高い方から冷媒を流すことによっ
て、ハウジング23内の温度勾配が小さくなり、外管2
3gの表面温度を均一にすることができる。
可動子10が長くても温度ムラが生じることがないの
で、周囲に与える熱的影響は小さく、且つ大きな推力を
発生できるので、テーブル4の高加速移動と精密な位置
決めが可能である。
bとで導入する流体の種類を変えるてみてもいい。第1
の通路20aには冷却効率の高い物質を流しこみ、第2
の通路には断熱性の高い物質20bを流し込む。あるい
は、第2の通路20bを真空にしても断熱性が得られる
のでそれでも構わない。第2の通路20bに通じる配管
口26bは、断熱性の物質を流し込んだ後、常時開いて
いる必要はない。このため、中管23nに温度勾配があ
っても、断熱性の高い物質により外管23g表面の温度
は均一に保たれる。
aに流す流体圧と、第2の通路20bに流す流体圧とを
同じ圧力に設定してもいいし、ハウジング23の変形を
小さくするために、第1の通路20aに流す流体の圧力
を第2の通路20bに流す流体の圧力よりも大きく設定
してもいい。
型リニアモータの第2実施例を示す断面図である。図3
において、図2と同様の部材には同じ符号をつけその説
明を省略する。
する面にも第2の通路20bが形成されるように、ハウ
ジング23に新たに丸管23iを設けている。さらに、
図2の第1実施例と異なる点は、第1実施例の右蓋23
rを右内蓋23r1と右外蓋23r2とに分けたことであ
る。、同様に不図示の左蓋も左内蓋(不図示)と左外蓋
(不図示)に分けている。
uと中管23nとからなる第1円筒管を左外蓋と右外蓋
33r2によって位置決めして保持している。このた
め、第1円筒管にコイル組立体31とコイル支持体32
を封じ込めた後に、外管23gと丸管23iとからなる
第2円筒管に第1の円筒管を封じ込めている。
0とのそれぞれを異なる方向から冷却して、ハウジング
23表面の温度を均一にしている。また、制御装置10
0は、第1の通路20aに流す流体圧を高くし(例えば
100MPa)、第2の通路20bに流す流体圧をそれよ
りも下げることにより(例えば80MPa)、ハウジング
23の変形を小さくすることができる。この結果とし
て、冷媒の流量を増やすことができるので、コイル組立
体21の発熱を更に抑えることができる。
する面の温度ムラもなくすことができる。図4は、シャ
フト型リニアモータの第3実施例を示す断面図である。
図4において、図3と同様の部材には同じ符号をつけそ
の説明を省略する。
ジング23の表面の一部にヒートパイプ37を配置して
いる。ヒートパイプ37内に冷媒を流すことにより、そ
の周囲を冷やすことができる。組立が完了した可動子1
0に電流を流すとともに冷媒を流してハウジング23の
温度計測を行う。通路の不均一などが原因でハウジング
23表面の一部に温度の高いところがあった場合に、ヒ
ートパイプ37を接着剤25aなどにより固定する。前
述したように、ヒートパイプ37内に冷媒を流すことに
よって、ハウジング23表面の温度ムラを無くすことが
でき、高い位置決め精度を有したステージ装置1を実現
することができる。
施例を示す断面図である。図5において、図3と同様の
部材には同じ符号をつけその説明を省略する。なお、図
5においては、第1の通路20aの配管口26aの代わ
りに電流導入のためのコネクター28の一部を示してい
る。第1の通路20aの配管口26aは不図示である
が、同一面の他の場所に存在する。
の永久磁石を用いており、この円筒の永久磁石11の空
洞部に非磁性のパイプ13を配置し、さらに円筒の永久
磁石11を非磁性の円筒状部材12に挿入して両端をそ
れぞれ非磁性のブロック(不図示)で固定している。さ
らに、不図示のブロックにそれぞれ配管口を設け、非磁
性のパイプ13の内部と配管口とを連通させることによ
り、固定子10の中心軸に流体用の通路(以下、第3の
通路20cという)を形成している。したがって、第3
の通路20cに冷媒を流すことにより、固定子10の温
度を均一にすることができる。このため、可動子20か
らの熱などによって固定子10内の円筒の永久磁石11
の温度が変わり、磁束密度に変化を生じてリニアモータ
の推力が変動するのを防ぐことができる。
施例を示す断面図であり、図5で説明した固定子10の
冷却に更に第4の通路20dを設けた場合の構成を示す
断面図である。
のブロックに溶接された円筒状部材12を、C字形状に
曲げられた長尺の非磁性薄板で覆い、継ぎ目を溶接して
丸管30として第4の通路20dを形成している。第3
の通路20c用の配管口36aがブロック35rにねじ
込んであり、その配管口36aの外周のネジを使って第
4の通路用の配管口36bが固定されている。24C,2
4dはOリングである。
質を流すことにより、可動子20からの熱的影響を受け
ないようにすることができる。なお、第3の通路20c
と第4の通路20dとは独立しており、互いが交わるこ
とはない。また、制御装置100は、第3の通路20c
に冷媒を流す方向に対して第4の通路20dに冷媒を流
す方向を逆方向に設定している。
テージ装置2を示す図であり、図1と同様の構成には同
じ符号を付している。この変形例においては、固定子1
0に案内機構を持たせるとともに、可動子20に空気軸
受けを設けることにより、図1の空気軸受5と案内6を
省略した構成となっている。以下、図8を用いて詳細を
説明する。なお、図8において、図3と同様の部材には
同じ符号をつけその説明を省略する。
20bに貫通する孔20h(連通部)を設けている。そ
して、右外蓋23R2の配管口26bと不図示の左外蓋
の配管口とから空気を導入し、数ヶ所の孔20hから空
気を吹き出すことにより、固定子10に対する空気軸受
を構成している。このため、数ヶ所の孔20hは、可動
子20の冷却のみならず、固定子10と連通し空気軸受
を構成することができ、ひいてはステージ装置2の構造
を簡単にすることができる。
アモータを例にして説明したが、リニアモータ全般にお
いて本実施の形態ができることはいうまでもない。ま
た、本実施の形態はムービングコイルタイプに限定され
るものではなく、ムービングマグネットタイプにも適用
できる。さらに、ステージ装置1,2を2次元に移動す
るものとしてもよく、この場合にはウエハステージとし
て用いることもできる。
ニアモータは、制御装置が第1冷媒の流れる方向と第2
冷媒の流れる方向とを異ならせているので、ハウジング
に温度ムラが生じることがない。このため、コイル数が
多く、大推力であっても制御性の高いリニアモータを実
現することができる。
力に起因したハウジングの変形を抑制することができ
る。請求項3記載のリニアモータは、第1冷媒と第2冷
媒との選択の自由度を広げることができる。
グの一部に温度ムラが生じても、第3流路を用いてハウ
ジングの当該部分を冷却することができる。請求項5か
ら7記載のリニアモータは、磁石を冷却しているので、
ハウジングの温度ムラを一段と抑制することができる。
有しているので、リニアモータを駆動源とする装置(例
えばステージ装置)の構成を簡単にすることができる。
請求項9記載ステージ装置は、高加速度での移動と高い
精度の位置決めが可能となり、このステージを半導体製
造装置や検査装置で用いれば、当該装置の精度やスルー
プイットが改良する。
る。
面図である。
面図である。
面図である。
面図である。
である。
る。
Claims (9)
- 【請求項1】 磁石と、ハウジングに覆われたコイルと
を有するリニアモータにおいて、 前記ハウジングは、第1流路と、該第1流路とは独立し
た第2流路と有し、 前記第1流路を流れる第1冷媒の方向と、第2流路を流
れる第2冷媒の方向とを異ならせる制御装置を備えたこ
とを特徴とするリニアモータ。 - 【請求項2】 前記制御装置は、前記第1冷媒の圧力
と、前記第2冷媒との圧力とを異ならせることを特徴と
する請求項1記載のリニアモータ。 - 【請求項3】 前記第1冷媒と前記第2冷媒とは異なる
冷媒であることを特徴とする請求項1または請求項2記
載のリニアモータ。 - 【請求項4】 前記ハウジングの外側に前記第1流路と
前記第2流路とは異なる第3流路を設けたことを特徴と
する請求項1〜3のいずれか1項に記載のリニアモー
タ。 - 【請求項5】 前記ハウジング内部に、前記磁石を冷却
する磁石冷却部を備えたことを特徴とする請求項1〜4
のいずれか1項に記載のリニアモータ。 - 【請求項6】 前記磁石冷却部は、2つの独立した流路
を有していることを特徴とする請求項5記載のリニアモ
ータ。 - 【請求項7】 前記磁石は円筒形状の磁石であり、 前記磁石冷却部は、前記円筒形状の磁石の円筒部に設け
られた非磁性体を有していることを特徴とする請求項5
または6記載のリニアモータ。 - 【請求項8】 前記第1流路と前記第2流路とのいずれ
か一方は、前記磁石に連通する連通部を備えていること
を特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のリニ
アモータ。 - 【請求項9】 試料を保持して移動するステージを備え
たステージ装置において、 請求項1から8のいずれか1項記載のリニアモータを用
いて、前記ステージを駆動することを特徴とするステー
ジ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002007227A JP4134560B2 (ja) | 2002-01-16 | 2002-01-16 | リニアモータ及びステージ装置 |
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---|---|---|---|
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005124981A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータ及びリニアモータの製造方法 |
WO2005124979A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータ及びリニアモータの製造方法 |
WO2005124980A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータの製造方法 |
JP2006325351A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Yaskawa Electric Corp | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
EP1780877A1 (en) * | 2004-07-25 | 2007-05-02 | Tsheatronics Co. Ltd. | Linear or curved mobile motor and its radiator |
JP2007185042A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | リニアモータ及びその製造方法及びこのリニアモータを用いたステージ装置 |
JP2008048565A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Murata Mach Ltd | リニアモータおよびそれを搭載した工作機械 |
JPWO2005122242A1 (ja) * | 2004-06-07 | 2008-04-10 | 株式会社ニコン | ステージ装置、露光装置及び露光方法 |
WO2008066103A1 (fr) * | 2006-11-29 | 2008-06-05 | Tokyo Electron Limited | Appareil de traitement de substrat |
JP2008193760A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-21 | Tsubakimoto Chain Co | リニアモータ |
WO2009041185A1 (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-02 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | 円筒形リニアモータとその固定子製造方法 |
JP2011508974A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | ラム リサーチ コーポレーション | ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法 |
JP2012039840A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | シャフト型リニアモータ |
JP2012186936A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Gmc Hilston:Kk | リニアモーター |
JP2013012718A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置 |
US20170250587A1 (en) * | 2014-08-22 | 2017-08-31 | Anca Pty Ltd | Linear motor |
-
2002
- 2002-01-16 JP JP2002007227A patent/JP4134560B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8325326B2 (en) | 2004-06-07 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Stage unit, exposure apparatus, and exposure method |
JP4655039B2 (ja) * | 2004-06-07 | 2011-03-23 | 株式会社ニコン | ステージ装置、露光装置及び露光方法 |
JP2011077528A (ja) * | 2004-06-07 | 2011-04-14 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置及び露光方法 |
JPWO2005122242A1 (ja) * | 2004-06-07 | 2008-04-10 | 株式会社ニコン | ステージ装置、露光装置及び露光方法 |
WO2005124979A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータ及びリニアモータの製造方法 |
WO2005124980A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータの製造方法 |
WO2005124981A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2005-12-29 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | リニアモータ及びリニアモータの製造方法 |
JPWO2005124981A1 (ja) * | 2004-06-21 | 2008-04-17 | コニカミノルタエムジー株式会社 | リニアモータ及びリニアモータの製造方法 |
EP1780877A1 (en) * | 2004-07-25 | 2007-05-02 | Tsheatronics Co. Ltd. | Linear or curved mobile motor and its radiator |
EP1780877A4 (en) * | 2004-07-25 | 2012-12-26 | Mizutani Electric Ind Co Ltd | LINEAR OR CURVED MOBILE MOTOR AND ITS RADIATOR |
JP2006325351A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Yaskawa Electric Corp | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
JP4656306B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2011-03-23 | 株式会社安川電機 | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
JP2007185042A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | リニアモータ及びその製造方法及びこのリニアモータを用いたステージ装置 |
JP2008048565A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Murata Mach Ltd | リニアモータおよびそれを搭載した工作機械 |
KR101206959B1 (ko) * | 2006-11-29 | 2012-11-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 처리 장치 |
KR101316768B1 (ko) | 2006-11-29 | 2013-10-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 처리 장치 |
JPWO2008066103A1 (ja) * | 2006-11-29 | 2010-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理装置 |
WO2008066103A1 (fr) * | 2006-11-29 | 2008-06-05 | Tokyo Electron Limited | Appareil de traitement de substrat |
US8337621B2 (en) | 2006-11-29 | 2012-12-25 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
JP2008193760A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-21 | Tsubakimoto Chain Co | リニアモータ |
WO2009041185A1 (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-02 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | 円筒形リニアモータとその固定子製造方法 |
JPWO2009041185A1 (ja) * | 2007-09-25 | 2011-01-20 | 株式会社安川電機 | 円筒形リニアモータとその固定子製造方法 |
JP2011508974A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-17 | ラム リサーチ コーポレーション | ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法 |
CN102377287A (zh) * | 2010-08-06 | 2012-03-14 | 富士机械制造株式会社 | 轴型线性马达 |
JP2012039840A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | シャフト型リニアモータ |
JP2012186936A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Gmc Hilston:Kk | リニアモーター |
JP2013012718A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置 |
US20170250587A1 (en) * | 2014-08-22 | 2017-08-31 | Anca Pty Ltd | Linear motor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4134560B2 (ja) | 2008-08-20 |
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