JP4487910B2 - 導電性ロール - Google Patents

Description

本発明は、導電性ロールに関するものである。

近年、電子写真方式を採用する複写機、プリンターなどの画像形成装置が多数使用されている。通常、この種の画像形成装置の内部には、感光ドラムが組み込まれており、その周囲には、帯電ロール、転写ロール、現像ロール、トナー供給ロールなどの各種の導電性ロールが配設されている。

この種の導電性ロールは、一般に、芯金の外周に１層以上の導電性の弾性層を有している。この弾性層材料としては、ベースゴム中に各種の充填剤を配合したゴム配合物が多く用いられている。

例えば、特許文献１には、芯金と表面層との間に導電性の弾性層を有する帯電ロールが開示されている。

そして、この特許文献１には、エピクロロヒドリンゴムなどのゴム中に、電子・イオン導電剤、酸化亜鉛などの金属酸化物、加硫促進剤、加硫剤などの各種充填剤を配合したゴム配合物を弾性層材料として用いる点、シリカフュームなどの無機微粒子と、ビニル系樹脂よりなる有機微粒子とを各種樹脂中に配合した樹脂配合物を表面層材料として用いる点が記載されている。

特開２００３−３１６１１２号公報

しかしながら、従来知られる導電性ロールは、次のような問題点を有していた。すなわち、上記の通り、導電性ロールにおける弾性層材料には、通常、各種の充填剤を配合したゴム配合物を用いることが多い。

この場合、ゴム配合物中における充填剤の分散性が悪いと、電気特性、硬度、表面性状などのロール特性が不安定になりやすい。そのため、本発明者らは、絶縁性粒子を配合することにより、充填剤の分散性を向上させることを試みた。

ところが、配合する絶縁性粒子の平均粒径が比較的小さいときには、ゴム配合物の製造時における粘度や硬度が上昇したり、ゴム練り加工性が低下したりして、ゴム配合物の生産性が低下するといった問題が発生することが判明した。

一方、配合する絶縁性粒子の平均粒径が比較的大きいときには、押出し成形した弾性層の表面が粗くなり、ロールの表面性状が悪くなるなどといった問題が発生することが判明した。

この種の問題は、充填剤を高分散させようとして絶縁性粒子を多量に配合した場合に顕著に発生する。

このように、充填剤の分散性向上と、ゴム配合物の生産性と、ロール特性とを適度にバランスさせることは従来困難であった。もちろん、上述した特許文献１などには、これら問題を解決するに足りる開示や示唆は全く記載されていない。

本発明は、上記問題点を鑑みてなされたもので、本発明が解決しようとする課題は、構成材料であるゴム配合物中に絶縁性粒子を配合しても、ゴム配合物の生産性を損なうことなく、ロール特性にも優れた導電性ロールを提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明に係る導電性ロールは、芯金と表面層との間に少なくとも１層以上の弾性層を有するものであって、前記弾性層のうち少なくとも１層は、充填剤と、平均粒径Ｄ５０が０．０５〜０．５μｍの範囲内にある絶縁性の無機球状粒子とを含んだゴム配合物よりなることを要旨とする。

この際、上記無機球状粒子の含有量は、上記ゴム配合物中のゴム成分１００重量部に対して、５〜９０重量部の範囲内にあると良い。

また、上記無機球状粒子は、シリカフュームが好ましい。

本発明に係る導電性ロールによれば、弾性層を構成するゴム配合物中に、充填剤のみならず、特定の平均粒径を有する無機球状粒子が配合されている。

そのため、弾性層を構成するゴム配合物の製造時に、ゴム練り時の力と、無機球状粒子のころがり作用とが相まってゴム配合物中の充填剤を分散させやすい。また、上記無機球状粒子は、比較的多量に配合しても、粘度や硬度、ゴム練り加工などに悪影響を及ぼしにくい。そのため、ゴム配合物中の分散性を高めつつ、ゴム配合物の生産性を向上させることができる。

さらに、上記無機球状粒子は、流動性が高いので、ゴム配合物中の他材料間に均一に行き渡り、他材料同士の凝集を抑止し、分散を補助する。したがって、電気特性、硬度、表面性状などのロール特性を安定化させることができる。

この際、上記無機球状粒子の含有量が特定の範囲内にある場合、上記無機球状粒子がシリカフュームである場合には、上記作用効果に優れる。

以下、本実施形態に係る導電性ロール（以下、「本導電性ロール」ということがある。）について詳細に説明する。

１．本導電性ロール
本導電性ロールは、例えば、帯電ロール、転写ロール、現像ロール、トナー供給ロールなどとして好適に用いることが可能なものである。本導電性ロールは、基本的には、芯金と表面層との間に少なくとも１層以上の弾性層を有している。

本導電性ロールにおいて、芯金は、電圧を印加することができれば、何れのものであっても使用することができる。芯金材料としては、具体的には、例えば、鉄、ステンレス、アルミニウムなどの金属またはこれら金属を１種または２種以上含む合金などを例示することができる。また、芯金の形態は、特に限定されるものでなく、中実体、中空体の何れであっても良い。

本導電性ロールにおいて、表面層は、主に、保護層などとして機能するものである。表面層材料としては、具体的には、例えば、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、これらを変性した樹脂などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。

本導電性ロールにおいて、弾性層は、基本的に導電性を有している。この弾性層は、主にベース層、電気抵抗調整層などとして機能するものである。

上記弾性層は、１層であっても良いし、複数層であっても良い。適宜用途などを考慮して選択することができる。

本導電性ロールにおいて、上記弾性層のうち少なくとも１層は、充填剤と特定の絶縁性粒子とを含んだゴム配合物（以下、これを「特定のゴム配合物」ということがある。なお、この特定のゴム配合物に対して、通常知られるゴム配合物を「通常のゴム配合物」ということがある。）よりなっている。

すなわち、本導電性ロールは、特定のゴム配合物よりなる弾性層を、１層有していても良いし、複数層有していても良い。

また、全ての弾性層が、特定のゴム配合物よりなる弾性層でない場合には、本発明の目的を損なわない範囲内で、通常のゴム配合物よりなる弾性層を有していても良い。

また、特定のゴム配合物よりなる弾性層は、何れの層にあっても良く、特に限定されるものではない。

また、本導電性ロールにおいて、特定のゴム配合物よりなる弾性層を複数有している場合、各弾性層における特定のゴム配合物の配合内容、配合割合などは同じであっても良いし、異なっていても良い。各弾性層に要求される機能を発現できるように適宜調節すれば良い。

また、上記弾性層の層厚は、特に限定されるものではない。要求される導電性の大きさ、画像形成装置の寸法、ロール製品の硬さ、ロール回転速度などを考慮して種々調節することができる。

ここで、上記特定のゴム配合物において、ベースとなるゴムは、本導電性ロールの用途、各弾性層に要求される機能などを考慮して適宜選択することができる。ゴム材料としては、具体的には、例えば、ＮＢＲ、エピクロロヒドリンゴム、シリコーンゴム、ＳＢＲ、ＢＲ、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、ＥＰＤＭ、アクリルゴムなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。

また、上記充填剤とは、上記特定の絶縁性粒子を除いて、ゴム配合物中に充填されるもの全てを指す。上記充填剤としては、具体的には、例えば、電子導電剤、イオン導電剤、増量剤、補強剤、活性剤、加工助剤、加硫促進剤、加硫剤、酸化防止剤、可塑剤、着色剤、紫外線吸収剤などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。

上記充填剤の割合としては、各種の充填剤がその目的を達することができるように、従来知られる配合割合を適宜採用することができる。

一方、本導電性ロールにおいて、上記特定の絶縁性粒子とは、その平均粒径Ｄ５０が０．０５〜０．５μｍの範囲内にある絶縁性の無機球状粒子をいう。

また、上記平均粒径Ｄ５０とは、ふるい上分布曲線の５０％に対応する粒径をいう。

なお、上記平均粒径Ｄ５０は、例えば、上市されているシスメックス（株）製、「マスターサイザー２０００」などの粒径分布測定装置などにより測定することができる。

上記平均粒径Ｄ５０の上限値としては、０．５μｍ以外に、０．４、０．３μｍなどを例示することができる。一方、これら上限値と組み合わせ可能な平均粒径Ｄ５０の下限値としては、０．０５μｍ以外に、０．１μｍなどを例示することができる。

上記特定の絶縁性粒子としては、具体的には、例えば、シリカフュームなどを好適なものとして例示することができる。小粒径・均一な粒径を有しており、その表面に活性基が比較的少ないので、本発明による作用効果を奏しやすい利点があるからである。なお、特定の絶縁性粒子は、平均粒径Ｄ５０が異なる範囲にあるものを１種または２種以上混合して使用しても良い。

また、ゴム配合物中に含まれる特定の絶縁性粒子の割合は、上記充填剤の配合量などを考慮して適宜選択すれば良い。

特定の絶縁性粒子の割合としては、具体的には、例えば、その好ましい上限値として、ゴム成分１００重量部に対して、９０重量部、８０重量部、７０重量部、６０重量部、５０重量部などを例示することができる。一方、これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、ゴム成分１００重量部に対して、５重量部、１０重量部、２０重量部などを例示することができる。

２．本導電性ロールの製造方法
本導電性ロールの製造方法としては、例えば、次のような方法を例示することができる。

すなわち、次に、用意した芯金の外周に接着剤を塗布した後、この表面に、予め所定の配合割合に調製したゴム配合物を、押出機などを用いて押出成形し、金型内で必要に応じて同時架橋、発泡などを行う。これにより、芯金の外周に弾性層を形成する。

この際、弾性層を複数形成する場合には、所望のゴム配合物を共押出成形して他の弾性層を同時に形成したり、既に形成した弾性層上に、所望のゴム配合物を押出成形して、他の弾性層を順次形成したりすれば良い。

なお、上記において、弾性層を１層とする場合には、ゴム配合物として、特定のゴム配合物を使用し、弾性層を複数層とする場合には、特定のゴム配合物のみ、あるいは、特定のゴム配合物と通常のゴム配合物とを適宜使用する。

次いで、芯金の外周に弾性層が１層以上形成されたロールの最表面上に、表面層材料をロールコーティング法などにより塗布し、乾燥させた後、必要に応じて加熱架橋などを行う。

これにより、芯金と表面層との間に少なくとも１層以上の弾性層を有する本導電性ロールが得られる。

なお、ゴム配合物は、所定の配合割合となるように秤量した各配合材料を、通常のゴム練り条件にてゴム練り加工するなどして適宜調製すれば良い。

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する

以下に説明する実施例は、本発明に係る導電性ロールを、芯金と表面層としての保護層との間に、弾性層としてのベース層、電気抵抗調整層を順に積層した構成を有する帯電ロールに適用した場合について例示したものである。

そして上記電気抵抗調整層を構成するゴム配合物としては、２つの異なるゴム配合系（第１ゴム配合物＝電子導電タイプ、第２ゴム配合物＝イオン導電タイプ）を用いており、配合する絶縁性粒子の種類ないし平均粒径Ｄ５０、配合割合を変化させている。

＜第１ゴム配合系＞
（実施例１）
初めに、電気抵抗調整層に用いる第１ゴム配合物を調製した。すなわち、ゴム成分として、ニトリルゴム（ＮＢＲ）（日本ゼオン（株）製、「ニポールＤＮ３３３５」）１００重量部、充填剤として、カーボンブラック（電子導電剤）（三菱化学（株）製、「ダイアブラックＥ」）４５重量部、シリカ（補強剤）（日本シリカ工業（株）製、「Ｎｉｐｓｉｌ ＥＲ」）５０重量部、酸化亜鉛（活性剤）（堺化学工業（株）製）５重量部、ステアリン酸（加工助剤）（花王（株）製、「ルナックＳ３０」）１重量部、ジベンゾチアゾールジスルフィド（加硫促進剤）（三新化学工業（株）製、「ＳＡＮＣＥＬＥＲ ＤＭ」）１重量部、テトラメチルチウラムモノサルファイド（加硫促進剤）（三新化学工業（株）製、「ＳＡＮＣＥＬＥＲ ＴＴ」）１重量部、硫黄（加硫剤）１重量部、絶縁性粒子として、平均粒径Ｄ５０が０．１５μｍのシリカフューム（Ｅｌｋｅｍ（株）製、「ＳＩＤＩＳＴＡＲ」）５重量部を用いて、通常のゴム練り条件にてゴム練りすることにより、第１ゴム配合物を調製した。

なお、上記絶縁性粒子の平均粒径Ｄ５０は、シスメックス（株）製、「マスターサイザー２０００」により測定した値である。また、後述する他の実施例、比較例においても同様である。

次いで、ＥＰＤＭ（三井化学（株）製、「ＥＰＴ４０４５」）１００重量部と、カーボンブラック（ケッチェンブラックＥＣ）２０重量部と、酸化亜鉛５重量部と、ステアリン酸１重量部と、プロセスオイル（出光化学（株）製、「ダイアナプロセスＰＷ３８０」）３０重量部と、ジニトロソペンタメチレンテトラミン（発泡剤）１５重量部と、硫黄１重量部と、ジベンゾチアゾールジスルフィド（架橋促進剤）２重量部と、テトラメチルチウラムモノサルファイド（架橋促進剤）１重量部とを配合し、これをロールにて混練することにより、ベース層に用いるゴム配合物を調製した。

次いで、フッ素変性アクリレート樹脂（大日本インキ（株）製、「ディフェンサＴＲ２３０Ｋ」）５０重量部と、フッ素化オレフィン系樹脂（アトフィナジャパン（株）製、「カイナーＳＬ」）５０重量部と、導電性酸化チタン（石原テクノ（株）製、「タイペークＥＴ−３００Ｗ」）１００重量部とを、ＭＥＫ２００重量部に溶解し、これらをサンドミルを用いて分散することにより、保護層に用いる樹脂配合物を調製した。

次に、直径６ｍｍの金属製シャフトからなる芯金を用意し、この外周に接着剤を塗布した後、この表面に、上記ベース層用のゴム配合物および上記電気抵抗調整層用の第１ゴム配合物とを、押出機を用いて共押出成形した。そして、これを金型内で同時架橋、発泡させた。これにより、芯金の外周にベース層（厚み２．５ｍｍ）が形成されるとともに、このベース層の外周に電気抵抗調整層（厚み０．５ｍｍ）が形成されたロールを作製した。

次いで、このロールにおける電気抵抗調整層の表面上に、上記保護層に用いる樹脂配合物をロールコーティング法により塗布し、乾燥させた後、１５０℃×６０分の条件で加熱架橋を行った。

これにより、芯金と保護層との間に、ベース層、電気抵抗調整層とを有する実施例１に係る帯電ロールを作製した。

（実施例２）
上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、シリカフューム１０重量部とした以外は同様にして、実施例２に係る帯電ロールを得た。

（実施例３）
上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、シリカフューム５０重量部とした以外は同様にして、実施例３に係る帯電ロールを得た。

（実施例４）
上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、シリカフューム９０重量部とした以外は同様にして、実施例４に係る帯電ロールを得た。

（比較例１）
上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、絶縁性粒子として、シリカフュームに代えて平均粒径Ｄ５０が０．０２５μｍの湿式シリカ（日本シリカ工業（株）製、「Ｎｉｐｓｉｌ ＥＲ」）５重量部を用いた以外は同様にして、比較例１に係る帯電ロールを得た。

（比較例２）
上記比較例１に係る帯電ロールの作製において、上記湿式シリカ１０重量部とした以外は同様にして、比較例２に係る帯電ロールを得た。

（比較例３）
上記比較例１に係る帯電ロールの作製において、上記湿式シリカ２０重量部とした以外は同様にして、比較例３に係る帯電ロールを得た。

（比較例４）
上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、絶縁性粒子として、シリカフュームに代えて平均粒径Ｄ５０が１μｍの軽微性炭カル（白石工業（株）製、「軽炭シルバーＷ」）５重量部を用いた以外は同様にして、比較例４に係る帯電ロールを得た。

（比較例５）
上記比較例４に係る帯電ロールの作製において、上記軽微性炭カル１０重量部とした以外は同様にして、比較例５に係る帯電ロールを得た。

（比較例６）
上記比較例４に係る帯電ロールの作製において、上記軽微性炭カル２０重量部とした以外は同様にして、比較例６に係る帯電ロールを得た。

＜第２ゴム配合系＞
（実施例５）
先ず、ゴム成分として、エピクロロヒドリンゴム（ＥＣＯ）（ダイソー（株）製、「エピクロマーＣＧ１０２」）１００重量部、充填剤として、シリカ（補強剤）５０重量部、酸化亜鉛（活性剤）５重量部、ステアリン酸（加工助剤）１重量部、ジベンゾチアゾールジスルフィド（加硫促進剤）、テトラメチルチウラムモノサルファイド（加硫促進剤）１重量部、硫黄（加硫剤）１重量部、絶縁性粒子として、平均粒径Ｄ５０が０．１５μｍのシリカフューム（Ｅｌｋｅｍ（株）製、「ＳＩＤＩＳＴＡＲ」）５重量部を用いて、通常のゴム練り条件にてゴム練りすることにより、第２ゴム配合物を調製した。

次いで、上記実施例１に係る帯電ロールの作製において、第１ゴム配合物に代えて、上記調製した第２ゴム配合物を用いた以外は同様にして、実施例５に係る帯電ロールを得た。

（実施例６）
上記実施例５に係る帯電ロールの作製において、上記シリカフューム１０重量部とした以外は同様にして、実施例６に係る帯電ロールを得た。

（実施例７）
上記実施例５に係る帯電ロールの作製において、上記シリカフューム５０重量部とした以外は同様にして、実施例７に係る帯電ロールを得た。

（実施例８）
上記実施例５に係る帯電ロールの作製において、上記シリカフューム９０重量部とした以外は同様にして、実施例８に係る帯電ロールを得た。

（比較例７）
上記実施例５に係る帯電ロールの作製において、絶縁性粒子として、シリカヒュームに代えて、平均粒径Ｄ５０が０．０２５μｍの湿式シリカ５重量部を用いた以外は同様にして、比較例７に係る帯電ロールを得た。

（比較例８）
上記比較例７に係る帯電ロールの作製において、上記湿式シリカ１０重量部とした以外は同様にして、比較例８に係る帯電ロールを得た。

（比較例９）
上記比較例７に係る帯電ロールの作製において、上記湿式シリカ２０重量部とした以外は同様にして、比較例９に係る帯電ロールを得た。

（比較例１０）
上記実施例５に係る帯電ロールの作製において、絶縁性粒子として、シリカヒュームに代えて、平均粒径Ｄ５０が１μｍの軽微性炭カル５重量部を用いた以外は同様にして、比較例１０に係る帯電ロールを得た。

（比較例１１）
上記比較例１０に係る帯電ロールの作製において、上記軽微性炭カル１０重量部とした以外は同様にして、比較例１１に係る帯電ロールを得た。

（比較例１２）
上記比較例１０に係る帯電ロールの作製において、上記軽微性炭カル２０重量部とした以外は同様にして、比較例１２に係る帯電ロールを得た。

＜生産性評価＞
上記作製した実施例、比較例に係る導電性ロールにおいて、電気抵抗調整層を構成する第１、第２ゴム配合物の生産性を、ムーニー粘度、硬度、練り画工性、押出し加工性の観点から評価した。

ここで、上記ムーニー粘度は、架橋する前のゴム配合物について、ＪＩＳ Ｋ６３００に準拠して測定した値である。なお、測定時の温度は１２０℃である。

この評価では、ムーニー粘度が７５（Ｍ）以下の場合を合格とした。一方、ムーニー粘度が７５（Ｍ）より高い場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したもののうち、ムーニー粘度が６７（Ｍ）以上〜７５（Ｍ）以下の範囲内にあったものを良好として丸印しで示し、６７（Ｍ）未満であったものを非常に良好として二重丸印で示している。また、不合格であったものはバツ印で示している。

また、上記硬度は、ゴム硬度計（高分子計器（株）、「アスカーＣ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ７３１２に準拠して測定したアスカーＣ硬度である。

この評価では、硬度が８３（°）以下の場合を合格とした。一方、硬度が８３（°）を越える場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したもののうち、硬度が８１（°）以上〜８３（°）以下の範囲内にあったものを良好として丸印で示し、８１（°）未満であったものを非常に良好として二重丸印で示している。一方、不合格であったものはバツ印で示している。

また、上記練り加工性については、練り加工性に問題がない場合を合格とした。一方、トルクが高くて練り加工が困難であった場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したもののうち、練り加工時のトルクが適度であったものを非常に良好として二重丸印で示し、ややトルクが高めであったものを良好として丸印で示している。一方、不合格であったものはバツ印で示している。

また、上記押出し加工性については、押出し時の圧力が７０（ＭＰａ）未満であった場合を合格とした。一方、押出し時の圧力が７０（ＭＰａ）以上の場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したもののうち、押出し時の圧力が６０（ＭＰａ）以上〜７０（ＭＰａ）未満の範囲内にあったものを良好として丸印で示し、６０（ＭＰａ）未満であったものを非常に良好として二重丸印で示している。一方、不合格であったものはバツ印で示している。

＜ロール特性評価＞
上記作製した実施例、比較例に係る導電性ロールについて、各ロール特性を評価した。すなわち、実施例１〜４および比較例１〜６については、押出し表面性状、画像滲みレベルの観点から、実施例５〜８および比較例７〜１２については、押出し表面性状の観点からロール特性を評価した。この際、実施例１〜４および比較例１〜６については、参考値として電気抵抗も測定した。

ここで、上記押出表面性状は、押出し成形した後の電気抵抗調整層の表面粗さを測定、評価することにより行った。

上記表面粗さは、表面粗さ測定装置（東京精密（株）、「ＳＵＲＦＣＯＭ１４００Ｄ」）を用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準拠して測定した十点平均粗さＲｚの値である。

この際、上記表面粗さが７（μｍ）以下であった場合を合格とした。一方、表面粗さが７（μｍ）を越える場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したものうち、表面粗さが４（μｍ）以上〜７（μｍ）以下の範囲内にあったものを良好として丸印で示し、４（μｍ）未満であったものを非常に良好として二重丸印で示している。一方、不合格であったものはバツ印で示している。

また、上記画像滲みレベルは、次のように測定した。すなわち、先ず、各帯電ロールを、市販のレーザービームプリンタ（ヒューレットパッカード（株）製、「レーザージェット４Ｌ」）に取り付け、感光ドラム表面上に針などで直径０．２ｍｍのピンホールを設けた。

次に、温度１５℃、相対湿度１０％ＲＨの環境下にて、白画像を出力し、上記感光ドラム上のピンホールにて形成される画像上の滲み直径の、ピンホールに対する比率を求めた。

この際、上記ピンホールリーク直径に対する滲み直径の比率が２．２倍未満であった場合を合格とした。一方、上記比率が２．２倍以上であった場合を不合格とした。なお、後述の表では、合格したもののうち、上記比率が１．８以上〜２．２未満の範囲内にあったものを良好として丸印で示し、１．４以上〜１．８未満の範囲内にあったものを非常に良好として二重丸印で示している。一方、不合格であったものはバツ印で示している。

以上の実施例、比較例に係る導電性ロールについて、まとめたものを表１〜表４に示す。

表１〜４によれば、比較例に係る導電性ロールは、電気抵抗調整層を構成するゴム配合物中に、絶縁性粒子として、特定の平均粒径を有する無機球状微粒子を、各種充填剤と併用して配合していない。

そのため、各種充填剤を分散させにくい上、ゴム配合物の生産性とロール特性との両立ができていないことが分かる。

また、各種充填剤と併用してシリカを用いた場合、シリカであれば何でも良いというわけではなく、選択的に、特定の平均粒径を有するシリカ粒子を用いる必要があることが分かる。

これら比較例に係る導電性ロールに対し、実施例に係る導電性ロールは、電気抵抗調整層を構成するゴム配合物中に、絶縁性粒子として、特定の平均粒径を有する無機球状微粒子を、各種充填剤と併用して配合している。

そのため、各種充填剤を分散させやすい上、ゴム配合物の生産性とロール特性とのバランスに優れていることが分かる。

また、上記特定の平均粒径を有する無機球状微粒子を比較的多量に配合した場合でも、ゴム配合物の生産性、ロール特性に影響を及ぼしにくいことが分かる。そのため、各種充填剤を高分散させやすいといえる。

以上、本発明の実施形態、実施例について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。

Claims (2)

1. 芯金と表面層との間に少なくとも１層以上の弾性層を有する導電性ロールであって、
   前記弾性層のうち少なくとも１層は、
   充填剤と、平均粒径Ｄ５０が０．０５〜０．５μｍの範囲内にある絶縁性の無機球状粒子とを含んだゴム配合物よりなり、
   前記絶縁性の無機球状粒子は、シリカフュームであることを特徴とする導電性ロール。
2. 前記絶縁性の無機球状粒子の含有量は、前記ゴム配合物中のゴム成分１００重量部に対して、５〜９０重量部の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の導電性ロール。