JP4480738B2 - 濃度測定装置 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば食塩水の塩分濃度を測定する濃度測定装置に係り、特に、測定精度を向上させる技術に関する。
液体の塩分濃度を測定するために用いられる塩分濃度測定装置として、2つの電極間に液体を配置して電圧を印加し、液体中を流れる電流の値に基づいて塩分濃度を測定するものが知られている。
例えば、特開2006−349450号公報(特許文献1)に記載されている塩分濃度測定装置では、2つの電極が設けられたサンプルステージに、塩分濃度を測定するサンプル液を注入し、2つの電極間に交流電圧を印加する。すると、サンプル液中に電流が流れ、この電流の値が電流計により測定される。そして、(測定電流)/(印加電圧)を演算することにより、サンプル液の電気伝導率が求められ、電気伝導率と塩分濃度との対応関係に基づいて、この電気伝導率に対応する塩分濃度が求められる。
特開2006−349450号公報
このような塩分濃度測定装置では、サンプルステージの下部にセラミック基板を配置し、このセラミック基板上に厚さ3〜8μmの金電極を厚膜印刷により形成していた。しかしながら、図15に示すように、セラミック基板31の表面には微細な凹凸があり、この凹凸が電極32の表面に表出するため(図16参照)、電極32とサンプル液との接触角が変化し、塩分濃度が精度良く測定できないという問題があった。塩分濃度を測定するための電気伝導率は、電極とサンプル液との接触面積に依存し、この接触面積は、電極とサンプル液との接触角に依存するからである。接触角は一般に、固体表面の凹凸に影響されるだけでなく、液体の表面張力や固体と液体の界面張力によっても変化する。従って、標準液を用いた校正を行っても、標準液とサンプル液とでは表面張力や電極(金)との界面張力が異なるので、電極表面の凹凸による影響を取り除くことはできない。
また、従来の塩分濃度測定装置では、図15に示すように、セラミック基板31の上面及び電極32の外縁上にオーバーコートガラス層33を形成していた。しかしながら、オーバーコートガラス層33は、一部の食品(例えば、しょうゆ、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれなど)に対して耐性が低く、それらの塩分濃度を測定する際に、サンプル液によって侵食され、電極32から剥離し易いという問題点があった。すなわち、オーバーコートガラス層の電極からの剥離により、1)電極とサンプル液との接触面積が変化するため、塩分濃度が精度良く測定できない、2)電極部分あるいは測定装置の耐用寿命が短い、という問題があった。
本発明は、このような従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、測定対象物の濃度を精度良く測定することができ、且つ耐用寿命の長い濃度測定装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本願発明による濃度測定装置は、液体が注入される領域を構成するグレーズド基板であって、セラミック基板と、セラミック基板上に形成した第1のガラス層と、を有するグレーズド基板と、液体と接触するように、第1のガラス層の上に互いに間隔を空けて配置された第1の電極及び第2の電極と、を備える。
好ましくは、セラミック基板はアルミナ基板である。
好ましくは、セラミック基板は、96重量%の酸化アルミニウム(Al)、2.8重量%の二酸化ケイ素(SiO)、0.6重量%の酸化マグネシウム(MgO)、及び0.6重量%の酸化コバルト(CoO)を含む。
好ましくは、第1のガラス層は、二酸化ケイ素(SiO)及び酸化カルシウム(CaO)を含む。
好ましくは、第1のガラス層は4〜16μmの厚さを有する。
好ましくは、第1のガラス層は、二酸化ケイ素(SiO)と酸化カルシウム(CaO)を含む複数の酸化物を混合する工程と、混合物を溶融してガラス化する工程と、固化したガラスを粉砕してガラス粉を生成する工程と、樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する工程と、ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する工程と、ガラスペーストを印刷によってセラミック基板上に塗布する工程と、塗布したガラスペーストを焼成する工程と、を含む方法によって形成される。
好ましくは、第1の電極及び第2の電極は、35〜45重量%の有機金化合物を含む有機金ペーストを焼成することにより形成される。
好ましくは、第1の電極及び第2の電極は0.2〜0.3μmの厚さを有する。
好ましくは、第1の電極及び第2の電極は、溶解した第1の金属を第1の有機化合物と混合して反応させ、第1のレジネートを生成する工程であって、第1の金属が金(Au)であり、第1のレジネートが金レジネートである工程と、溶解した第2の金属を第2の有機化合物と混合して反応させ、第2のレジネートを生成する工程と、第1のレジネート、第2のレジネート、及び溶剤を混練し、レジネートペーストを生成する工程と、レジネートペーストを用いて第1のガラス層上に電極パターンを印刷する工程と、印刷されたレジネートペーストを焼成する工程と、を含む方法によって形成される。
好ましくは、濃度測定装置は、第1のガラス層の上面及び第1の電極及び第2の電極の外縁を被覆する第2のガラス層を更に含む。
好ましくは、第2のガラス層は、65〜75重量%のBi−ZnO−B系ガラスを含むガラスペーストを焼成することにより形成される。
好ましくは、第2のガラス層は3〜5μmの厚さを有する。
好ましくは、第2のガラス層は酸化ビスマス(Bi)と、酸化亜鉛(ZnO)及び酸化ホウ素(B)を混合する工程と、混合物を溶融してガラス化する工程と、固化したガラスを粉砕してガラス粉を生成するする工程と、樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する工程と、ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する工程と、ガラスペーストを第1のガラス層の上面及び第1の電極及び第2の電極の外縁上に塗布する工程と、塗布したガラスペーストを焼成する工程と、を含む方法によって形成される。
好ましくは、濃度測定装置は、第1の電極と第2の電極との間に電力を供給する電源手段と、第1の電極と第2の電極との間の電圧または第1の電極と第2の電極との間に流れる電流のうちの少なくとも一方を測定する検出手段と、検出手段で検出された電流値または電圧値に基づいて、測定対象物の濃度を求める濃度測定手段と、求められた濃度を表示する表示手段と、を更に含む。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る濃度測定装置としての、塩分濃度測定装置の構成を示す外観図、図2は塩分濃度測定装置の分解斜視図である。
図示のように、この塩分濃度測定装置1は、上ケース2と下ケース3により全体が覆われる筐体構造を成している。そして、筐体内部には各種の電子部品を実装する基板4と、測定対象となる食塩水が注入される領域を形成するサンプルステージ11と、測定結果となる塩分濃度を表示する液晶表示器等の表示部(表示手段)9と、処理の開始、ゼロ調整などの操作を行う操作スイッチ10a,10bと、を備えている。
サンプルステージ11は、上部拡開円筒形状をなしている。サンプルステージ11の下側開口部には、液体封密用のOリング12を介して電極基板5が配置されている。サンプルステージ11及び電極基板5で囲まれた部分が測定対象となる食塩水の注入領域となる。
図3は、電極基板5を示す斜視図である。電極基板5上には、互いに離間する第1の電極8と第2の電極7が形成されている。第1の電極8は、サンプルステージ11(図2)の円形状の開口部に対して概ね中心部に位置するように形成された円形の形状を有する。また、第2の電極7は、第1の電極8の周囲を概ね覆うように形成された、第1の電極8を中心とする円弧の形状を有する。
図4は、図3の符号IVで示した部分の断面図である。図示のように、電極基板5は、セラミック基板13と、セラミック基板13の上に形成されたグレーズ層(第1のガラス層)14と、を有するグレーズド基板である。
セラミック基板13は、例えば、96重量%の酸化アルミニウム(Al)、2.8重量%の二酸化ケイ素(SiO)、0.6重量%の酸化マグネシウム(MgO)、0.6重量%の酸化コバルト(CoO)を含むアルミナ基板である。
グレーズ層14は、主成分として二酸化ケイ素(SiO)を含み、副成分として酸化カルシウム(CaO)を含むケイ酸塩ガラスを有する。グレーズ層14は、酸化アルミニウム(Al)、酸化バリウム(BaO)、酸化ホウ素(B)、酸化ランタン(La)、酸化鉛(PbO)、及び酸化亜鉛(ZnO)などの酸化物を更に含んでもよい。グレーズ層14は、4〜16μmの厚さを有することが好ましい。
図5は、セラミック基板13上にグレーズ層14を形成する方法の一実施形態を示す。
ステップS501で、二酸化ケイ素(SiO)と酸化カルシウム(CaO)を含む複数の酸化物を混合する。
ステップS503で、この混合物を溶融してガラス化し、ステップS505で、固化したガラスを粉砕してガラス粉(フリット)を生成する。
ステップS507で、樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する。
ステップS509で、ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する。
ステップS511で、ガラスペーストを印刷(スクリーン印刷)によってセラミック基板13上に塗布する。
ステップS513で、塗布したガラスペーストを約1200度の融点で焼成(加熱・融解)し、グレーズ層14を形成する。
このような形成方法によれば、表面に数μmの凹凸を有するセラミック基板上に、厚さ4〜16μmの表面が平滑なグレーズ層を形成することができる。
再び図4を参照すると、グレーズ層14の上に形成された第1の電極7及び第2の電極8は、35〜45重量%の有機金化合物、10〜20重量%の樹脂、1〜6重量%の添加剤(ビスマス(Bi)及びケイ素(Si)を含む)、及び35〜45重量%の溶剤(イソボニルアセテート及び芳香族炭化水素を含む)を含む有機金ペーストを焼成して形成される。電極7,8は、0.2〜0.3μmの厚さを有することが好ましい。
図6は、グレーズ層14上に電極7,8を形成する方法の一実施形態を示す。
ステップS601で、金メタルを溶解する。
ステップS603で、溶解した金メタルを有機化合物と混合して反応させ、Au(金)レジネートを生成する。レジネートは、金属が有機化合物と化学結合したものであり、R−COO−MeやR−S−Me(R:有機化合物、Meは金属)などの構造を有する。
ステップS605で、添加メタルを溶解する。
ステップS607で、溶解した添加メタルを有機化合物と混合して反応させ、添加レジネートを生成する。
ステップS609で、Auレジネート、添加レジネート、及び溶剤を混練し、レジネートペーストを生成する。
ステップS611で、レジネートペーストを用いてグレーズ層14上に電極パターンを印刷(スクリーン印刷)する。
ステップS613で、グレーズ層14上に印刷したレジネートペーストを金の融点(約1000度)以下である約800度で焼成し、有機化合物を熱分解させて、金薄膜電極7、8を形成する。
図7は、グレーズド基板5の上に形成した電極7の表面を示す。図示のように、グレーズド基板5の上に形成した電極7は、図16に同じ縮尺で示した従来の電極に比べて、表面が平滑である。より詳細には、従来の電極における表面の平滑度Ra(凹部と凸部の高さの差)は0.75〜0.85μmであるが、グレーズド基板5上に形成した電極7、8の表面の平滑度Raは、0.02〜0.08μmである。このように平滑度の良い電極によれば、電極とサンプル液との接触角への、電極表面の凹凸による影響を低減することができる。従って、電極とサンプル液との接触面積を一定に保ち、塩分濃度を精度良く測定することができる。
また、表面が平滑なグレーズド基板5の上に電極を形成することにより、或いは、上記のように有機金化合物を含む電極とすることにより、電極7,8の厚さを薄くすることが可能となる。より詳細には、厚膜印刷によって形成される従来の電極の厚さが3〜8μmであるのに対して、上記方法によって形成される本発明の電極7,8の厚さは0.2〜0.3μmである。このように、電極の厚さを10分の1から40分の1にすることによって、電極の材料、特に金などの高価な材料を低減することができ、材料コストを削減することができる。
再び図4を参照すると、グレーズ層14の上面と第1の電極7及び第2の電極8の外縁を覆うように、オーバーコートガラス層(第2のガラス層)15が形成されている。このオーバーコートガラス層15は、65〜75重量%のBi−ZnO−B系ガラス、1〜5重量%の樹脂、及び21〜30重量%の溶剤を含むガラスペーストを焼成して形成される。樹脂は、セルロース系樹脂であることが好ましい。溶剤は、例えば、20〜25重量%のジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(C(OCHCHOCOCH)、及び1〜5重量%のジエチレングリコールモノブチルエーテル(C(OCHCHOH)を含む。オーバーコートガラス層15は、3〜5μmの厚さを有することが好ましい。
図8は、グレーズ層14の上面及び電極7,8の外縁を覆うオーバーコートガラス層15を形成する方法の一実施形態を示す。
ステップS801で、酸化ビスマス(Bi)と、酸化亜鉛(ZnO)及び酸化ホウ素(B)を混合する。
ステップS803で、この混合物を溶融してガラス化し、ステップS805で、固化したガラスを粉砕してガラス粉(フリット)を生成する。
ステップS807で、樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する。
ステップS809で、ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する。
ステップS811で、ガラスペーストをグレーズ層14の上面及び電極7,8の外縁上に塗布する。
ステップS813で、塗布したガラスペーストを500〜800度で焼成し、オーバーコートガラス層15を形成する。
このように形成したオーバーコートガラス層によれば、醤油、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれなどのサンプル液による侵食を防止することができる。従って、電極とサンプル液との接触面積を一定に保ち、塩分濃度を精度良く測定することができ、また、電極部分あるいは測定装置の耐用寿命が長くなる。
図9は、塩分濃度測定装置1の制御部を示すブロック図である。同図に示すように、制御部は、所定の周波数の交流電圧信号を発生する信号発生器(電源手段)22と、信号発生器22より出力される交流信号を増幅する出力増幅回路23とを備える。出力増幅回路23の出力端子はシャント抵抗21を介して第2の電極7に接続されている。また、第1の電極8は、グランドに接地されている。
更に、第2の電極7は、第2の電極7に印加される電圧を検出する電圧検出回路(検出手段)25に接続されている。また、シャント抵抗21の両端は、電流検出回路(検出手段)24に接続されており、シャント抵抗21に発生する電圧に基づいて、シャント抵抗21に流れる電流を求める。
電流検出回路24、及び電圧検出回路25の各出力端は、各検出回路24,25で検出されたアナログ信号をディジタル信号に変換するためのAD変換回路27に接続され、更に、該AD変換回路27の出力端はCPU(濃度測定手段)28に接続されている。CPU28は、電流検出回路24で検出された電流、及び電圧検出回路25で検出された電圧に基づき、第2の電極7と第1の電極8の間に注入された食塩水の電気伝導率gを求める処理を行う。更に、CPU28は、図6に示す如くの電気伝導率と塩分濃度との関係を示す特性データを備えており、この特性データに、求められた電気伝導率gを代入することにより、注入された食塩水の塩分濃度を求める。
表示部9は、CPU28で求められた塩分濃度を表示する。
次に、上記のように構成された本実施形態に係る塩分濃度測定装置の処理動作について説明する。図1及び図2に示したサンプルステージ11内に測定対象となる食塩水を注入した状態で、CPU28から信号発生器22に起動信号が送られると、信号発生器22より所定周波数の交流の電圧信号が出力される。
そして、出力された電圧信号は、出力増幅回路23にて増幅された後、シャント抵抗21を介して第2の電極7に印加される。また、サンプルステージ11の中央部に形成された第1の電極8はグランドに接地されているので、食塩水中にて第2の電極7から第1の電極8に向けて電流が流れる。
2つの電極7,8間を流れる電流がシャント抵抗21に流れることにより、シャント抵抗21の両端には、電流に比例した大きさの電圧が発生する。電流検出回路24では、シャント抵抗21に生じる電圧、及びこのシャント抵抗21の抵抗値に基づいてシャント抵抗21に流れる電流を求め、求めた電流データをAD変換回路27に出力する。そして、AD変換回路27では、電流データをディジタル化して、CPU28に出力する。
また、第2の電極7に生じる電圧は、電圧検出回路25で検出され、検出された電圧はAD変換回路27でディジタル化され、CPU28に出力される。
その後、CPU28では、求められた電圧(V)と、電流(I)から、g=I/Vの関係式を用いて電気伝導率gを求める。更に、この電気伝導率gを図10に示した特性データに代入することにより、塩分濃度を求め、求められた塩分濃度データを表示部9に出力する。こうして、表示部9に塩分濃度が表示され、操作者はサンプルとして注入した食塩水の塩分濃度を知ることができるのである。
このように、本実施形態に係る塩分濃度測定装置では、セラミック基板13上にグレーズ層14が形成されたグレーズド基板を電極基板5として用いることにより、電極の表面を平滑にすることができる。それにより、電極とサンプル液との接触面積を一定に保ち、塩分濃度の測定精度を向上することができる。
また、平滑な表面に電極7,8を形成することにより、また電極7,8を有機金化合物を原料とする金電極とすることにより、電極7,8の厚さを従来よりも薄くすることができる。それにより、電極7,8の材料を低減し、材料コストを削減することができる。
更に、65〜75重量%のBi−ZnO−B系ガラスを含むオーバーコートガラス層15を、グレーズド基板上及び電極7,8の外縁上に形成することにより、醤油、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれなどのサンプル液による侵食(剥がれ)を防止することができる。それにより、電極とサンプル液との接触面積を一定に保ち、塩分濃度の測定精度を向上することができる。また、電極部分あるいは測定装置の耐用寿命が長くなる。
本願発明による電極部(電極基板、電極、及びオーバーコートガラス層)と従来の電極部を用いて塩分濃度を測定し、測定値の精度及び測定値の経時変化を比較した。
本願発明による電極部として、図5、図6、及び図8に示した方法により製造したものを用いた。より詳細には、電極基板は、アルミナ基板(96重量%の酸化アルミニウム、2.8重量%の二酸化ケイ素、0.6重量%の酸化マグネシウム、及び0.6重量%の酸化コバルトを含む)の上に、二酸化ケイ素及び酸化カルシウムを含むグレーズ層を形成したものである。電極は、35〜45重量%の有機金化合物、10〜20重量%の樹脂、1〜6重量%の添加剤(ビスマス及びケイ素を含む)、及び35〜45%の溶剤(イソボニルアセテート及び芳香族炭化水素を含む)を含む有機金ペーストを焼成して形成したものである。オーバーコートガラス層は、65〜75重量%のBi−ZnO−B系ガラス、1〜5重量%のセルロース系樹脂、20〜25重量%のジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、及び1〜5重量%のジエチレングリコールモノブチルエーテルを含むガラスペーストを焼成して形成したものである。
また、従来の電極部として、電極基板には、本願発明による電極基板に使用したものと同じアルミナ基板(グレーズ層を形成してしないもの)を用いた。電極は、厚膜印刷により形成したもので、3〜8μmの厚さを有する。この電極は、80〜90重量%の金、1〜3重量%のロジウム化合物酸化ビスマス、1重量%未満の酸化銅、1重量%未満のエチルセルロース、5〜15%の2,2,4−トリメチル−3−ヒドロキシベンチイソブチレート、及び1重量%未満のフタル酸ビスを含む金ペーストを焼成して形成したものである。より詳細には、金メタルの微細粉末を溶解、還元して生成した金粉と、二酸化ケイ素(SiO)と他の酸化物とを混合、溶融、粉砕して生成したガラス粉と、酸化物を粉砕して生成した酸化物粉と、樹脂を溶剤で溶解して生成したビヒクルと、を混練して金ペーストを作成し、この金ペーストでアルミナ基板に電極パターンを印刷し、焼成することにより、電極を形成した。
また、従来の電極部のオーバーコートガラス層は、6〜10μmの厚さを有する。このオーバーコートガラス層は、69重量%のガラス成分(57重量%の酸化ケイ素(SiO)、4重量%の酸化ホウ素(B)、及び8重量%のコバルト(Co)酸化物を含む)、23重量%の溶剤(ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート)、及び2重量%の樹脂(エチルセルロース)を含むガラスペーストを焼成して形成したものである。より詳細には、酸化ケイ素(SiO)、酸化ホウ素(B)、及びコバルト(Co)酸化物を混合、溶融、粉砕して生成したガラス粉と、樹脂を溶剤で溶解して生成したビヒクルと、を混練し、アルミナ基板上及び電極の外縁上に塗布し、500〜800度で焼成することにより、オーバーコートガラス層を形成した。
サンプル液には、塩分濃度2.5%の食塩水を用いた。また、50日間の期間中20日間、各日5回、1回毎にサンプル液を交換して測定を行った。
図11は、塩分濃度の測定結果を示すグラフである。グラフの縦軸は、塩分濃度(%)を示し、横軸は測定日を示す。
図示のように、本願発明による電極部で測定した塩分濃度は、実際の塩分濃度2.5%に対して2.47〜2.54%であり、精度よく測定できたことが分かる。また、測定値は、50日間にわたってほとんど変わらず、長期にわたって安定して測定できたことが分かる。
一方、従来の電極部で測定した塩分濃度は、全体として実際の塩分濃度2.5%に対して高めであった。また、測定日が後になるに連れて、塩分濃度がより高めに測定されている。これは、サンプル液によってオーバーコートガラス層が侵食され(剥がれ)、それにより電極とサンプル液との接触面積が大きくなったためと考えられる。
本願発明による電極部と従来の電極部を侵食性の高いサンプルに浸漬し、塩分濃度の測定および目視検査により耐侵食性を調べた。
より詳細には、まず、標準液として2.5%の食塩水を用いて、それぞれの電極部を取り付けた装置の校正を行った後、測定用サンプル液の塩分濃度の測定(浸漬前の測定)を行った。次いで、それぞれの装置のサンプルステージに浸漬用のサンプル液を注入し、それぞれの電極部を浸漬用サンプル液に10時間浸漬させた。その間、2時間毎にそれぞれの電極部を光学顕微鏡(約200倍)を用いて観察し、オーバーコートガラス層の剥がれの有無を確認した。10時間後、それぞれの浸漬用サンプル液を取り除き、蒸留水で洗浄した後、再び測定用サンプル液の塩分濃度の測定(浸漬後の測定)を行った。
本願発明による電極部及び従来の電極部には、実施例1と同じものを使用した。浸漬用サンプル液には、しょうゆ、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれの原液及び10倍希釈液の8種類を用いた。また、塩分濃度を測定するためのサンプル液には、1%、2%、3%、4%、5%の食塩水の5種類を用いた。
目視検査の結果、本発明による電極部については、8種類の浸漬用サンプル液のいずれに浸漬したものにも、10時間浸漬後にオーバーコートガラス層の剥がれは見られなかった。一方、従来の電極部については、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれの10倍希釈液に浸漬したものでは、10時間浸漬後にもオーバーコートガラス層の剥がれは見られなかったが、しょうゆ原液、めんつゆ原液、しょうゆ10倍希釈液に浸漬したものでは2時間浸漬後に、浅漬けの素原液に浸漬したものでは4時間浸漬後に、焼肉のたれ原液に浸漬したものでは6時間浸漬後に、オーバーコートガラス層の剥がれが確認された。
図12は、本発明による電極部を用いた、浸漬前後における塩分濃度の測定結果を示す。図13は、従来の電極部を用いた、浸漬前後における塩分濃度の測定結果を示す。図12及び図13共に、横軸は測定用サンプルの実際の塩分濃度(%)を示し、縦軸は測定された塩分濃度(%)を示す。
図12に示すように、本発明による電極部では、浸漬の前後共に精度よく塩分濃度が測定できていることが分かる。一方、図13に示すように、従来の電極部では、全体として浸漬後に塩分濃度が実際より高めに測定されており、特に、測定用サンプルの塩分濃度が高いものについては、オーバーレンジで測定不可能となっていることが分かる。
以上の結果から、本発明による電極部は、しょうゆ、めんつゆ、浅漬けの素、焼肉のたれなどに対して耐侵食性が高いことが確認された。従って、本発明による電極部は、これらの侵食性が高いサンプルについても塩分濃度を精度良く測定することができると考えられる。
要するに、本願発明による濃度測定装置10は以下の特徴を有する。
1.液体が注入される領域を構成するグレーズド基板5であって、セラミック基板13と、セラミック基板13上に形成した第1のガラス層14と、を有するグレーズド基板5と、
液体と接触するように、第1のガラス層14の上に互いに間隔を空けて配置された第1の電極8及び第2の電極7と、
を備える。
2.セラミック基板13がアルミナ基板である。
3.セラミック基板13が、96重量%の酸化アルミニウム(Al)、2.8重量%の二酸化ケイ素(SiO)、0.6重量%の酸化マグネシウム(MgO)、及び0.6重量%の酸化コバルト(CoO)を含む。
4.第1のガラス層14が、二酸化ケイ素(SiO)及び酸化カルシウム(CaO)を含む。
5.第1のガラス層14が4〜16μmの厚さを有する。
6.第1のガラス層14が、
二酸化ケイ素(SiO)と酸化カルシウム(CaO)を含む複数の酸化物を混合する工程(S501)と、
混合物を溶融してガラス化する工程(S503)と、
固化したガラスを粉砕してガラス粉を生成する工程(S505)と、
樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する工程(S507)と、
ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する工程(S509)と、
ガラスペーストを印刷によってセラミック基板13上に塗布する工程(S511)と、
塗布したガラスペーストを焼成する工程(S513)と、
を含む方法によって形成される。
7.第1の電極8及び第2の電極7が、35〜45重量%の有機金化合物を含む有機金ペーストを焼成することにより形成される。
8.第1の電極8及び第2の電極7が0.2〜0.3μmの厚さを有する。
9.第1の電極8及び第2の電極7が、
溶解した第1の金属を第1の有機化合物と混合して反応させ、第1のレジネートを生成する工程(S603)であって、第1の金属が金(Au)であり、第1のレジネートが金レジネートである工程と、
溶解した第2の金属を第2の有機化合物と混合して反応させ、第2のレジネートを生成する工程(S607)と、
第1のレジネート、第2のレジネート、及び溶剤を混練し、レジネートペーストを生成する工程(S609)と、
レジネートペーストを用いて第1のガラス層14上に電極パターンを印刷する工程(S611)と、
印刷されたレジネートペーストを焼成する工程(S613)と、
を含む方法によって形成される。
10.第1のガラス層14の上面及び第1の電極8及び第2の電極7の外縁を被覆する第2のガラス層15を更に含む。
11.第2のガラス層15が、65〜75重量%のBi−ZnO−B系ガラスを含むガラスペーストを焼成することにより形成される。
12.第2のガラス層15が3〜5μmの厚さを有する。
13.第2のガラス層15が
酸化ビスマス(Bi)と、酸化亜鉛(ZnO)及び酸化ホウ素(B)を混合する工程(S801)と、
混合物を溶融してガラス化する工程(S803)と、
固化したガラスを粉砕してガラス粉を生成するする工程(S805)と、
樹脂を溶剤に加えて溶解し、ビヒクルを生成する工程(S807)と、
ガラス粉をビヒクルと共に混練して、ガラスペーストを生成する工程(S809)と、
ガラスペーストを第1のガラス層14の上面及び第1の電極8及び第2の電極7の外縁上に塗布する工程(S811)と、
塗布したガラスペーストを焼成する工程(S813)と、
を含む方法によって形成される。
14.第1の電極8と第2の電極7との間に電力を供給する電源手段22と、
第1の電極8と第2の電極7との間の電圧または第1の電極8と第2の電極7との間に流れる電流のうちの少なくとも一方を測定する検出手段24,25と、
検出手段24,25で検出された電流値または電圧値に基づいて、測定対象物の濃度を求める濃度測定手段28と、
求められた濃度を表示する表示手段9と、
を更に含む。
そして、上記特徴により、本願発明による濃度測定装置は以下の効果を奏する。
1.塩分濃度を精度良く測定することができる。
2.電極部分または装置の耐用寿命が長くなる。
3.電極の材料を少なくし、材料コストを削減することができる。
以上、本発明の濃度測定装置を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置き換えることができる。
例えば、上記の実施形態では、電圧検出回路25を用いて2つの電極7,8間の電圧を測定する構成としたが、出力増幅回路23より出力される電圧を、2つの電極7,8間の電圧であるものとして電気伝導率gを測定することも可能である。このような構成とすれば、電圧検出回路25を省略できるので、回路構成を簡素化することができる。
また、上記の実施形態では、信号発生器22より一定レベルの交流電圧信号を出力し、このときに流れる電流に基づいて電気伝導率gを求めるようにしたが、信号発生器22より一定レベルの交流電流信号を出力し、このときに2つの電極7,8間に生じる電圧を測定することにより、電気伝導率gを求めるようにしても良い。
更に、上記の実施形態では、電圧検出回路25により電極7,8の間の電圧を測定したが、図14にブロック図で示すように、更に第3の電極29及び第4の電極30を設けて、電圧検出回路によりこれらの電極29,30の間に生じる電圧を測定してもよい。この場合、第1及び第2の電極7,8の間を流れる電流及び第3及び第4の電極29,30間の電圧に基づいて、電気伝導率gが求められる。これにより、濃度をより精度良く測定することができる。
また、上記の実施形態では、食塩水中に含まれる塩分濃度を測定する塩分濃度測定装置を例に挙げて説明したが、本発明に係る濃度測定装置は、これに限定されるものではなく、液体中に溶解した物質でその濃度に応じて電気伝導率が変化する他の測定対象物についても採用することができる。
食塩水中の塩分濃度を簡単且つ正確に測定する上で極めて有用である。
本発明の一実施形態に係る濃度測定装置の外観図である。 本発明の一実施形態に係る濃度測定装置の分解斜視図である。 電極基板及び電極を示す斜視図である。 図3に示す電極基板及び電極の部分拡大断面図である。 セラミック基板上にグレーズ層を形成する方法を示す。 グレーズド基板上に電極を形成する方法を示す。 グレーズド基板上に形成した電極の表面を示す。 グレーズ層の上面及び電極を覆うオーバーコートガラス層を形成する方法を示す。 本発明の一実施形態に係る濃度測定装置における制御部の構成を示すブロック図である。 塩分濃度と電気伝導率との関係を示す特性図である。 本発明による電極部及び従来の電極部を用いた塩分濃度の測定結果を示す。 本発明による電極部を用いた塩分濃度の測定結果を示す。 従来の電極部を用いた塩分濃度の測定結果を示す。 濃度測定装置の変形例における制御部の構成を示すブロック図である。 従来の電極基板及び電極の部分拡大断面図である。 従来の電極の表面を示す。
符号の説明
1 塩分濃度測定装置(濃度測定装置)
2 上ケース
3 下ケース
4 基板
5 電極基板
7 第2の電極
8 第1の電極
9 表示部(表示手段)
10a,10b 操作スイッチ
11 サンプルステージ
12 Oリング
13 セラミック基板
14 グレーズ層(第1のガラス層)
15 オーバーコートガラス層(第2のガラス層)
21 シャント抵抗
22 信号発生器
23 出力増幅回路
24 電流検出回路(電流検出手段)
25 電圧検出回路(電圧検出手段)
27 AD変換回路
28 CPU(濃度測定手段)
29 第3の電極
30 第4の電極
31 セラミック基板(従来)
32 電極(従来)
33 オーバーコートガラス層(従来)

Claims (6)

  1. 液体中に溶解している測定対象物の濃度を測定する濃度測定装置(1)であって、
    液体が注入される領域を構成するグレーズド基板(5)であって、セラミック基板(13)と、前記セラミック基板(13)上に形成した第1のガラス層(14)と、を有するグレーズド基板(5)と、
    前記液体と接触するように、前記第1のガラス層(14)の上に互いに間隔を空けて配置された第1の電極(8)及び第2の電極(7)と、
    前記第1のガラス層(14)の上面及び前記第1の電極(8)及び第2の電極(7)の外縁を被覆する第2のガラス層(15)と、
    を備え
    前記第2のガラス層(15)が、65〜75重量%のBi −ZnO−B 系ガラスを含むガラスペーストを焼成することにより形成される、濃度測定装置。
  2. 前記第1のガラス層(14)が、二酸化ケイ素(SiO)及び酸化カルシウム(CaO)を含む、請求項1に記載の濃度測定装置。
  3. 前記第1のガラス層(14)が4〜16μmの厚さを有する、請求項1又は2のいずれか1項に記載の濃度測定装置。
  4. 前記第1の電極(8)及び第2の電極(7)が、35〜45重量%の有機金化合物を含む有機金ペーストを焼成することにより形成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の濃度測定装置。
  5. 前記第1の電極(8)及び第2の電極(7)が0.2〜0.3μmの厚さを有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の濃度測定装置。
  6. 前記第2のガラス層(15)が3〜5μmの厚さを有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の濃度測定装置。
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